JPS593944B2 - 光フアイバの製造方法 - Google Patents
光フアイバの製造方法Info
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- JPS593944B2 JPS593944B2 JP9254481A JP9254481A JPS593944B2 JP S593944 B2 JPS593944 B2 JP S593944B2 JP 9254481 A JP9254481 A JP 9254481A JP 9254481 A JP9254481 A JP 9254481A JP S593944 B2 JPS593944 B2 JP S593944B2
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- porous glass
- glass base
- core
- gas
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
-
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- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/50—Multiple burner arrangements
- C03B2207/54—Multiple burner arrangements combined with means for heating the deposit, e.g. non-deposition burner
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は導波損失が少なく、屈折率分布がよい光ファ
イバの製造方法に関するものである。
イバの製造方法に関するものである。
従来より光ファイバの製造方法の1つとして、VAD法
が知られている。この方法は、多重管構造の酸水素炎バ
ーナにSiCl4、P0Cl3、GeCl4、10BB
r3などのガラス原料ガスを供給し、火炎中で生成した
SiO2、P2O5、Ge02、B2O3などの酸化物
からなるガラス微粉末を棒状基材の先端に付着、堆積さ
せて、多孔質ガラス母材を生長させ、これを透明ガラス
化してプリフオームとし、この15プリフオームを溶融
紡糸して、光ファイバを得るものである。このVAD法
によつてコア−クラッド型光ファイバを形成するには、
まずコアとなる多孔質ガラス母材を棒状基材先端に付着
生長させ、ついでコアとなる多孔質ガラス母材上にクラ
ッド20となる多孔質ガラス母材を付着生長させるか、
あるいはコアとなる多孔質ガラス母材を透明ガラス化し
てプリフオームとし、ついでクラッドとなる多孔質ガラ
ス母材を付着生長させることによつて行われている。と
ころで、クラッドとなる多孔質ク5 ガラス母材をコア
となる多孔質ガラス母材あるいは透明ガラス化プリフオ
ーム上に形成する際、コアとなる多孔質ガラス母材ある
いはプリフオームの表面が、クラッド形成用酸水素炎バ
ーナの外炎の還元雰囲気に包み込まれ、前記表面に存在
する30GeO2、GeO)結晶GeO2などが部分的
にガラス化したり、変質したりしてしまい、得られたガ
ラス母材を透明ガラス化しても、コア−クラッド界面に
前記ガラス化GeO2や変質GeO2に起因する気泡が
残り、これから得られる光ファイバの導波35損失増加
の一因となつていた。また、光ファイバの屈折率分布が
乱れることもあつた。さらに、先にコアとなる多孔質ガ
ラス母材あるいはプリフオームを形成したのち、クラツ
ドとなる多孔質ガラス母材を形成するため、コアとなる
多孔質ガラス母材あるいはプリフオームの表面に空気中
のちり、ほこり、水分が吸着し、これがコアークラツド
界面に包含されて残留し、光フアイバの導波損失が増加
することもあつた。一方、シングルモードの光フアイバ
では、その屈折率分布が完全なステツプ型であることが
、セカンド・モードのカツトオフの設定、特性の長尺均
一性の点から重要であるが、VAD法ではガラス微粉末
積層面上での温度分布、ドーパントガス濃度を厳密に一
定とすることが困難であり、どうしてもコアの表面部分
での屈折率が低くなり屈折率分布がきれいなステツプ状
にはならず、屈折率分布図の肩部分がだれてしまうと言
う欠点があつた。
が知られている。この方法は、多重管構造の酸水素炎バ
ーナにSiCl4、P0Cl3、GeCl4、10BB
r3などのガラス原料ガスを供給し、火炎中で生成した
SiO2、P2O5、Ge02、B2O3などの酸化物
からなるガラス微粉末を棒状基材の先端に付着、堆積さ
せて、多孔質ガラス母材を生長させ、これを透明ガラス
化してプリフオームとし、この15プリフオームを溶融
紡糸して、光ファイバを得るものである。このVAD法
によつてコア−クラッド型光ファイバを形成するには、
まずコアとなる多孔質ガラス母材を棒状基材先端に付着
生長させ、ついでコアとなる多孔質ガラス母材上にクラ
ッド20となる多孔質ガラス母材を付着生長させるか、
あるいはコアとなる多孔質ガラス母材を透明ガラス化し
てプリフオームとし、ついでクラッドとなる多孔質ガラ
ス母材を付着生長させることによつて行われている。と
ころで、クラッドとなる多孔質ク5 ガラス母材をコア
となる多孔質ガラス母材あるいは透明ガラス化プリフオ
ーム上に形成する際、コアとなる多孔質ガラス母材ある
いはプリフオームの表面が、クラッド形成用酸水素炎バ
ーナの外炎の還元雰囲気に包み込まれ、前記表面に存在
する30GeO2、GeO)結晶GeO2などが部分的
にガラス化したり、変質したりしてしまい、得られたガ
ラス母材を透明ガラス化しても、コア−クラッド界面に
前記ガラス化GeO2や変質GeO2に起因する気泡が
残り、これから得られる光ファイバの導波35損失増加
の一因となつていた。また、光ファイバの屈折率分布が
乱れることもあつた。さらに、先にコアとなる多孔質ガ
ラス母材あるいはプリフオームを形成したのち、クラツ
ドとなる多孔質ガラス母材を形成するため、コアとなる
多孔質ガラス母材あるいはプリフオームの表面に空気中
のちり、ほこり、水分が吸着し、これがコアークラツド
界面に包含されて残留し、光フアイバの導波損失が増加
することもあつた。一方、シングルモードの光フアイバ
では、その屈折率分布が完全なステツプ型であることが
、セカンド・モードのカツトオフの設定、特性の長尺均
一性の点から重要であるが、VAD法ではガラス微粉末
積層面上での温度分布、ドーパントガス濃度を厳密に一
定とすることが困難であり、どうしてもコアの表面部分
での屈折率が低くなり屈折率分布がきれいなステツプ状
にはならず、屈折率分布図の肩部分がだれてしまうと言
う欠点があつた。
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、導波損失
が少なく、理想的な屈折率分布を有するコアークラツド
型の光フアイバを得ることのできる光フアイバの製造方
法を提供することを目的とし、フツ化物ガスあるいはフ
ツ化物ガスとガラス原料ガスとの混合ガスを酸水素炎バ
ーナに送給し、酸水素炎バーナの火炎を、あらかじめ棒
状基材上に形成されたコアとなる多孔質ガラス母材もし
くは透明ガラス化プリフオームの表面に当て、コアとな
る多孔質ガラス母材もしくは透明ガラス化プリフオーム
の表面をエツチングすることあるいはエツチングすると
同時にクラツドとなるガラス微粉末を付着、堆積させる
ことを特徴とするものである。
が少なく、理想的な屈折率分布を有するコアークラツド
型の光フアイバを得ることのできる光フアイバの製造方
法を提供することを目的とし、フツ化物ガスあるいはフ
ツ化物ガスとガラス原料ガスとの混合ガスを酸水素炎バ
ーナに送給し、酸水素炎バーナの火炎を、あらかじめ棒
状基材上に形成されたコアとなる多孔質ガラス母材もし
くは透明ガラス化プリフオームの表面に当て、コアとな
る多孔質ガラス母材もしくは透明ガラス化プリフオーム
の表面をエツチングすることあるいはエツチングすると
同時にクラツドとなるガラス微粉末を付着、堆積させる
ことを特徴とするものである。
以下、図面を参照してこの発明を詳細に説明する。
第1図はこの発明の光フアイバの製造方法の一実施例を
示すもので、多重管構造の酸水素炎バーナ1には、Si
Cl4ガス、POCl3ガス、GeCl4ガスなどガラ
ス原料ガス、H2ガス、02ガス、Arガスなどが別々
に送給される。
示すもので、多重管構造の酸水素炎バーナ1には、Si
Cl4ガス、POCl3ガス、GeCl4ガスなどガラ
ス原料ガス、H2ガス、02ガス、Arガスなどが別々
に送給される。
ガラス原料ガスは、火炎中で熱加水分解反応、熱酸化反
応等の気相化学反応を受けてSiO2,P2O,,Ge
O2などのガラス微粉末となり、回転しながら上方に移
動する棒状基材2の先端に付着、堆積されてコアとなる
多孔質ガラス母材3が形成されてゆく。ついで、コアと
なる多孔質ガラス母材3がある程度生長すると、バーナ
1の上方に並んで設けられた多重管構造の酸水素炎バー
ナ4,5が燃焼を開始する。多重管構造の酸水素炎バー
ナ4には、H2ガス、02ガス、Arガス以外にフツ化
物ガスが供給される。このフツ化物ガスとは、BF3,
CF4,SiF4,PF4,ASF5,SF6などの非
金属元素のフツ化物で、常温付近でガス状態となつてい
るものであり、特に、CF4,SF6が好ましい。フツ
化物ガスはバーナ4の火炎中で加熱されて解離し、活性
状態のフツ素が生成する。バーナ4の火炎を、先に形成
されたコアとなる多孔質ガラス母材3に当てれば、火炎
中の活性状態のフツ素がコアとなる多孔質ガラス母材3
の表面のガラス微粉末を溶解し、エツチングする。この
操作によりコアとなる多孔質ガラス母材3の表面に付着
しているゴミ、ホコl八水分が除去されるとともに、表
面部に存在するGeO2,GeOが除去され、清浄な表
面を有する多孔質ガラス母材37が得られる。そして、
この多孔質ガラス母材3の外径が若干減少する。一方、
多重管構造の酸水素炎バーナ5には、SiCl4,PO
Cl3,BBr3などのガラス原料ガス、02ガス、H
2ガス、Arガスがそれぞれ供給される。ガラス原料ガ
スは火炎中で気相化学反応を受けて、SlO2,P2O
5,B2O3などのガラス微粉末になり、バーナ4でエ
ツチングされて清浄となつたコアとなる多孔質ガラス母
材3′上に付着、堆積してゆき、クラツドとなる多孔質
ガラス母材6が形成される。この操作においては、バー
ナ5がバーナ4に並んで設けられているので、バーナ4
でのコアとなる多孔質ガラス母材3のエツチングが終る
と、ただちにクラツドとなる多孔質ガラス母材6が、清
浄化された多孔質ガラス母材3′上に形成される。よつ
てコアとなる多孔質ガラス母材3′とクラツドとなる多
孔質ガラス母材6との界面にはゴミ、ホコl八水分が残
留することがなく、きれいな界面が得られる。以上のよ
うにして、コアとなる多孔質ガラス母材35上にクラツ
ドとなる多孔質ガラス母材6が形成された多孔質ガラス
母材7は、ついで加熱され透明ガラス化されてプリフオ
ームが形成される。
応等の気相化学反応を受けてSiO2,P2O,,Ge
O2などのガラス微粉末となり、回転しながら上方に移
動する棒状基材2の先端に付着、堆積されてコアとなる
多孔質ガラス母材3が形成されてゆく。ついで、コアと
なる多孔質ガラス母材3がある程度生長すると、バーナ
1の上方に並んで設けられた多重管構造の酸水素炎バー
ナ4,5が燃焼を開始する。多重管構造の酸水素炎バー
ナ4には、H2ガス、02ガス、Arガス以外にフツ化
物ガスが供給される。このフツ化物ガスとは、BF3,
CF4,SiF4,PF4,ASF5,SF6などの非
金属元素のフツ化物で、常温付近でガス状態となつてい
るものであり、特に、CF4,SF6が好ましい。フツ
化物ガスはバーナ4の火炎中で加熱されて解離し、活性
状態のフツ素が生成する。バーナ4の火炎を、先に形成
されたコアとなる多孔質ガラス母材3に当てれば、火炎
中の活性状態のフツ素がコアとなる多孔質ガラス母材3
の表面のガラス微粉末を溶解し、エツチングする。この
操作によりコアとなる多孔質ガラス母材3の表面に付着
しているゴミ、ホコl八水分が除去されるとともに、表
面部に存在するGeO2,GeOが除去され、清浄な表
面を有する多孔質ガラス母材37が得られる。そして、
この多孔質ガラス母材3の外径が若干減少する。一方、
多重管構造の酸水素炎バーナ5には、SiCl4,PO
Cl3,BBr3などのガラス原料ガス、02ガス、H
2ガス、Arガスがそれぞれ供給される。ガラス原料ガ
スは火炎中で気相化学反応を受けて、SlO2,P2O
5,B2O3などのガラス微粉末になり、バーナ4でエ
ツチングされて清浄となつたコアとなる多孔質ガラス母
材3′上に付着、堆積してゆき、クラツドとなる多孔質
ガラス母材6が形成される。この操作においては、バー
ナ5がバーナ4に並んで設けられているので、バーナ4
でのコアとなる多孔質ガラス母材3のエツチングが終る
と、ただちにクラツドとなる多孔質ガラス母材6が、清
浄化された多孔質ガラス母材3′上に形成される。よつ
てコアとなる多孔質ガラス母材3′とクラツドとなる多
孔質ガラス母材6との界面にはゴミ、ホコl八水分が残
留することがなく、きれいな界面が得られる。以上のよ
うにして、コアとなる多孔質ガラス母材35上にクラツ
ドとなる多孔質ガラス母材6が形成された多孔質ガラス
母材7は、ついで加熱され透明ガラス化されてプリフオ
ームが形成される。
このプリフオームから常法によつてコアークラツド型光
フアイバが得られる。 ”以上の操作によつて得
られる多孔質ガラス母材7は、一旦形成されたコアとな
る多孔質ガラス母材3がバーナ4で生成された活性状態
のフツ素によつてエツチングされるので、多孔質ガラス
母材3の表面のゴミ、ホコリ、水分が除去され、表面部
に存在するGeO29GeOが除去される。
フアイバが得られる。 ”以上の操作によつて得
られる多孔質ガラス母材7は、一旦形成されたコアとな
る多孔質ガラス母材3がバーナ4で生成された活性状態
のフツ素によつてエツチングされるので、多孔質ガラス
母材3の表面のゴミ、ホコリ、水分が除去され、表面部
に存在するGeO29GeOが除去される。
さらに、エツチングされたのち、ただちにバーナ5によ
つてクラツドとなる多孔質ガラス母材6が形成されるの
で、多孔質ガラス母材yの清浄な表面が保もたれた状態
でクラツドとなる多孔質ガラス母材6が形成できる。従
つて、この多孔質ガラス母材7から製造される光フアイ
バは、導路損失が少なく、その屈折率分布が改善された
ものとなる。第2図はこの発明の光フアイバの製造法の
他の実施例を示すもので、第1図と同一部分には同一符
号を付してその説明を省略する。
つてクラツドとなる多孔質ガラス母材6が形成されるの
で、多孔質ガラス母材yの清浄な表面が保もたれた状態
でクラツドとなる多孔質ガラス母材6が形成できる。従
つて、この多孔質ガラス母材7から製造される光フアイ
バは、導路損失が少なく、その屈折率分布が改善された
ものとなる。第2図はこの発明の光フアイバの製造法の
他の実施例を示すもので、第1図と同一部分には同一符
号を付してその説明を省略する。
この例においても、まず多重管構造の酸水素炎バーナ1
によつて棒状基材2の先端にコアとなる多孔質ガラス母
材3が形成される。ある程度多孔質ガラス母材3が生長
したならば、バーナ1の上方に設けられた多重管構造の
酸水素炎バーナ8が燃焼を開始する。多重管構造の酸水
素炎バーナ8の各層には、SiCl4,POCl3,B
Br3などのガラス原相ガス、02ガス、H2ガス、A
rガスがそれぞれ供給されるほか、CF4,SF6など
のフツ化物ガスも同時に供給される。バーナ8の火炎中
心部では、ガラス原料ガスは気相化学反応を受けてSi
O2,P2O5,B2O3などのガラス微粉末となる。
また、バーナ8の火炎の外炎部では、フツ化物ガスが高
温に加熱されて解離し、活性状態のフツ素となる。バー
ナ8の火炎をコアとなる多孔質ガラス母材3の表面に当
てれば、棒状基材2の上方への移動に伴つて、まず火炎
の外炎部で生成した活性状態のフツ素によつて、コアと
なる多孔質ガラス母材3の表面がエツチングされる。つ
いで、火炎の内炎部で生成したガラス微粉末が、エツチ
ングされて清浄となつたコアとなる多孔質ガラス母材3
′上に付着、堆積し、クラツドとなる多孔質ガラス母材
6が形成される。そして、再び火炎の外炎部で生成した
活性状態のフツ素によつて、クラツドとなる多孔質ガラ
ス母材6の表面がエツチングされて、多孔質ガラス母材
7が形成される。この操作においても、コアとなる多孔
質ガラス母材3の表面がエツチングされるので、コアと
なる多孔質ガラス母材yとクラツドとなる多孔質ガラス
母材6との界面には、ゴミ、ホコリ、水分、変質GeO
2、結晶化GeO2が存在せず、この多孔質ガラス母材
7から得られる光フアイバは導波損失が少なく、屈折率
分布がよいものである。第3図はこの発明の光フアイバ
の製造法の別の実施例を示すもので、シングルモードの
光フアイバを製造するに好適なものである。
によつて棒状基材2の先端にコアとなる多孔質ガラス母
材3が形成される。ある程度多孔質ガラス母材3が生長
したならば、バーナ1の上方に設けられた多重管構造の
酸水素炎バーナ8が燃焼を開始する。多重管構造の酸水
素炎バーナ8の各層には、SiCl4,POCl3,B
Br3などのガラス原相ガス、02ガス、H2ガス、A
rガスがそれぞれ供給されるほか、CF4,SF6など
のフツ化物ガスも同時に供給される。バーナ8の火炎中
心部では、ガラス原料ガスは気相化学反応を受けてSi
O2,P2O5,B2O3などのガラス微粉末となる。
また、バーナ8の火炎の外炎部では、フツ化物ガスが高
温に加熱されて解離し、活性状態のフツ素となる。バー
ナ8の火炎をコアとなる多孔質ガラス母材3の表面に当
てれば、棒状基材2の上方への移動に伴つて、まず火炎
の外炎部で生成した活性状態のフツ素によつて、コアと
なる多孔質ガラス母材3の表面がエツチングされる。つ
いで、火炎の内炎部で生成したガラス微粉末が、エツチ
ングされて清浄となつたコアとなる多孔質ガラス母材3
′上に付着、堆積し、クラツドとなる多孔質ガラス母材
6が形成される。そして、再び火炎の外炎部で生成した
活性状態のフツ素によつて、クラツドとなる多孔質ガラ
ス母材6の表面がエツチングされて、多孔質ガラス母材
7が形成される。この操作においても、コアとなる多孔
質ガラス母材3の表面がエツチングされるので、コアと
なる多孔質ガラス母材yとクラツドとなる多孔質ガラス
母材6との界面には、ゴミ、ホコリ、水分、変質GeO
2、結晶化GeO2が存在せず、この多孔質ガラス母材
7から得られる光フアイバは導波損失が少なく、屈折率
分布がよいものである。第3図はこの発明の光フアイバ
の製造法の別の実施例を示すもので、シングルモードの
光フアイバを製造するに好適なものである。
この例においても、まず多重管構造の酸水素炎バーナ1
によつて棒状基材2の先端にコアとなる多孔質ガラス母
材3が形成される。ある程度、コアとなる多孔質ガラス
母材3が生長すると、多重管構造の酸水素炎バーナ4,
5が燃焼を開始する。バーナ4には、02ガス、H2ガ
ス、Arガスに加えて多量のフツ化物ガスが供給され、
火炎中で多量の活性状態のフツ素が生成される。そのた
め、バーナ4の火炎によつて、コアとなる多孔質ガラス
母材3の表面はかなり激しくエツチングされ、コアとな
る多孔質ガラス母材3の外径はかなり減少する。この操
作によりコアとなる多孔質ガラス母材3の表面が激しく
エツチングされるため、多孔質ガラス母材3の表面の屈
折率の乱れた部分が除去され、均一でフラツトな屈折率
分布を有するコアとなる多孔質ガラス母材3′が形成さ
れるとともに、コアークラツド界面での気泡の原因とな
る結晶化GeO2やGeOの高密度層が除去される。つ
いでバーナ5によつてただちにクラツドとなる多孔質ガ
ラス母材6が清浄化されたコアとなる多孔質ガラス母材
3′上に付着、堆積され、多孔質ガラス母材7が形成さ
れる。この多孔質ガラス母材7から製造されたシングル
モードの光フアイバは、その屈折率分布がほぼ完全なス
テツプ状となるとともに、コアークラツド界面にゴミ、
ホコリ、水分、気泡が存在していないので、導波損失が
少ない理想的なシングルモード光フアイバである。第4
図はこの発明の他の実施例を示したものであるが、この
例ではあらかじめ棒状基材2の先端に、コアとなる多孔
質ガラス母材を形成したのち、加熱して透明ガラス化し
、コアとなるプリフオーム9を形成する。
によつて棒状基材2の先端にコアとなる多孔質ガラス母
材3が形成される。ある程度、コアとなる多孔質ガラス
母材3が生長すると、多重管構造の酸水素炎バーナ4,
5が燃焼を開始する。バーナ4には、02ガス、H2ガ
ス、Arガスに加えて多量のフツ化物ガスが供給され、
火炎中で多量の活性状態のフツ素が生成される。そのた
め、バーナ4の火炎によつて、コアとなる多孔質ガラス
母材3の表面はかなり激しくエツチングされ、コアとな
る多孔質ガラス母材3の外径はかなり減少する。この操
作によりコアとなる多孔質ガラス母材3の表面が激しく
エツチングされるため、多孔質ガラス母材3の表面の屈
折率の乱れた部分が除去され、均一でフラツトな屈折率
分布を有するコアとなる多孔質ガラス母材3′が形成さ
れるとともに、コアークラツド界面での気泡の原因とな
る結晶化GeO2やGeOの高密度層が除去される。つ
いでバーナ5によつてただちにクラツドとなる多孔質ガ
ラス母材6が清浄化されたコアとなる多孔質ガラス母材
3′上に付着、堆積され、多孔質ガラス母材7が形成さ
れる。この多孔質ガラス母材7から製造されたシングル
モードの光フアイバは、その屈折率分布がほぼ完全なス
テツプ状となるとともに、コアークラツド界面にゴミ、
ホコリ、水分、気泡が存在していないので、導波損失が
少ない理想的なシングルモード光フアイバである。第4
図はこの発明の他の実施例を示したものであるが、この
例ではあらかじめ棒状基材2の先端に、コアとなる多孔
質ガラス母材を形成したのち、加熱して透明ガラス化し
、コアとなるプリフオーム9を形成する。
このコアとなるプリフオーム9に、多重管構造の酸水素
炎バーナ4からの活性状態のフツ素を含む火炎を当て、
コアとなるプリフオーム9の表面をエツチングする。つ
いで、多重管構造の酸水素炎バーナ5からのガラス微粉
末を含む火炎を当てて、エツチングされたプリフオーム
q上にクラツドととなる多孔質ガラス母材6を形成する
ものである。なお、第1図ないし第4図で示した実施例
においては、棒状基材2の先端に多孔質ガラス母材7を
形成するVAD法によるものを説明した力ゝ この発明
の光フアイバの製造法は、VAD法に限定されず、棒状
基材2の外周に多孔質ガラス母材Tを形成するMCVD
法にも適用できる。
炎バーナ4からの活性状態のフツ素を含む火炎を当て、
コアとなるプリフオーム9の表面をエツチングする。つ
いで、多重管構造の酸水素炎バーナ5からのガラス微粉
末を含む火炎を当てて、エツチングされたプリフオーム
q上にクラツドととなる多孔質ガラス母材6を形成する
ものである。なお、第1図ないし第4図で示した実施例
においては、棒状基材2の先端に多孔質ガラス母材7を
形成するVAD法によるものを説明した力ゝ この発明
の光フアイバの製造法は、VAD法に限定されず、棒状
基材2の外周に多孔質ガラス母材Tを形成するMCVD
法にも適用できる。
以下、実施例に基づいて、この発明を具体的に説明する
。
。
〔実施例 1〕
第1図に示した石英製のバーナ1、バーナ4、バーナ5
を用いて、グレイデイツドインデツクス型の屈折率分布
を持つコアとなる多孔質ガラス母材3’とクラツドとな
る多孔質ガラス母材6とからなる多孔質ガラス母材7を
形成した。
を用いて、グレイデイツドインデツクス型の屈折率分布
を持つコアとなる多孔質ガラス母材3’とクラツドとな
る多孔質ガラス母材6とからなる多孔質ガラス母材7を
形成した。
各々のバーナ1,4,5の構造、ガスの種類、ガス供給
量は第1表、第2表、第3表に示した通りである。この
時のコアとなる多孔質ガラス母材3の直径は50mmで
、エツチング後のコアとなる多孔質ガラス母材ぎの直径
は40m7nで、多孔質ガラス母材7の直径は65m?
nであつた。多孔質ガラス母材7から得られた光フアイ
バの導波損失は波長0.85μmで2.01dB/Kg
であつた。〔実施例 2〕 第2図に示した石英製のバーナ1およびバーナ8を用い
て、多孔質ガラス母材7を製造した。
量は第1表、第2表、第3表に示した通りである。この
時のコアとなる多孔質ガラス母材3の直径は50mmで
、エツチング後のコアとなる多孔質ガラス母材ぎの直径
は40m7nで、多孔質ガラス母材7の直径は65m?
nであつた。多孔質ガラス母材7から得られた光フアイ
バの導波損失は波長0.85μmで2.01dB/Kg
であつた。〔実施例 2〕 第2図に示した石英製のバーナ1およびバーナ8を用い
て、多孔質ガラス母材7を製造した。
バーナ1の構造、ガスの種類、ガヌの供給量は実施例1
の第1表と同様であり、バーナ8の構造、ガスの種類、
ガスの供給量は第4表に示した。この多孔質ガラス母材
Tから得られた光フアイバの導波損失と波長との関係を
第5図に示した。この光フアイバ(I線)は、従来の製
法による光フアイバ(線)に比べて、0H基による吸収
損失が極めて少ないことがわかる。〔実施例 3〕 第3図に示したバーナ1、バーナ4、バーナ5を用いて
、シングルモード光フアイバ用の多孔質ガラス母材Tを
製造した。
の第1表と同様であり、バーナ8の構造、ガスの種類、
ガスの供給量は第4表に示した。この多孔質ガラス母材
Tから得られた光フアイバの導波損失と波長との関係を
第5図に示した。この光フアイバ(I線)は、従来の製
法による光フアイバ(線)に比べて、0H基による吸収
損失が極めて少ないことがわかる。〔実施例 3〕 第3図に示したバーナ1、バーナ4、バーナ5を用いて
、シングルモード光フアイバ用の多孔質ガラス母材Tを
製造した。
各バーナの構造、ガスの種類、ガスの供給量は第5表〜
第7表の通りである。コアとなる多孔質ガラス母材3の
直径は15m7!L、バーナ4でエツチングされた後の
コアとなる多孔質ガラス母材yの直径は8m& クラツ
ドとなる多孔質ガラス母材6が形成された多孔質ガラス
母材7の直径は80mmであつた。
第7表の通りである。コアとなる多孔質ガラス母材3の
直径は15m7!L、バーナ4でエツチングされた後の
コアとなる多孔質ガラス母材yの直径は8m& クラツ
ドとなる多孔質ガラス母材6が形成された多孔質ガラス
母材7の直径は80mmであつた。
この多孔質ガラス母材7を透明ガラス化したブリフオー
ムのコア・クラツド径比は?であつた。また、得られた
光フアイバの導波損失は、波長1.3μmで0.45d
B/1aFl.OH基による吸収損失は波長1.39μ
mで0.5dB//2であつた。〔実施例 4〕 第4図に示したバーナ4、バーナ5を用いて、コアとな
る透明ガラス化プリフオーム9をエツチングし、クラツ
ドとなる多孔質ガラス母材6を形成した。
ムのコア・クラツド径比は?であつた。また、得られた
光フアイバの導波損失は、波長1.3μmで0.45d
B/1aFl.OH基による吸収損失は波長1.39μ
mで0.5dB//2であつた。〔実施例 4〕 第4図に示したバーナ4、バーナ5を用いて、コアとな
る透明ガラス化プリフオーム9をエツチングし、クラツ
ドとなる多孔質ガラス母材6を形成した。
エツチング用のバーナ4の構造、ガスの種類、ガスの供
給量は第8表に示した。バーナ5の構造、ガスの種類、
ガスの供給量は実施例1の第1表に示したものと同様で
ある。このガラス母材から得られた光フアイバの導波損
失は波長0.85μmで2.05dB/ICIIIであ
つた。
給量は第8表に示した。バーナ5の構造、ガスの種類、
ガスの供給量は実施例1の第1表に示したものと同様で
ある。このガラス母材から得られた光フアイバの導波損
失は波長0.85μmで2.05dB/ICIIIであ
つた。
以上説明したように、この発明の光フアイバの製造方法
は、フツ化物ガスあるいはフツ化物ガスとガラス原料ガ
スとの混合ガスを酸水素炎バーナに送給し、酸水素炎バ
ーナの火炎を、あらかじめ棒状基材上に形成されたコア
となる多孔質ガラス母材もしくは透明ガラス化プリフオ
ームの表面に当て、コアとなる多孔質ガラス母材もしく
は透明ガラス化プリフオームの表面をエツチングするも
のあるいはエツチングすると同時にクラツドとなるガラ
ス微粉末を付着、堆積させるものであるので、コアとな
る多孔質ガラス母材もしくは透明ガラス化プリフオーム
の表面に吸着されているゴミ、ホコリ、水分が除去され
、コアとなる多孔質ガラス母材もしくは透明ガラス化プ
リフオームの表面部に存在する変質化GeO2,結晶化
GeOなどが除去されるため、得られる光フアイバのコ
アークラツド界面が清浄となり、前記変質化GeO2、
結晶化GeOに起因する気泡が存在しなくなり、導波損
失が少なくなるとともに、屈折率分布が改善される。特
に、この発明の製造法をシングルモード光フアイバの製
造法に適用すれば、屈折率分布が理想的なステツプ状の
光フアイバが得られる。
は、フツ化物ガスあるいはフツ化物ガスとガラス原料ガ
スとの混合ガスを酸水素炎バーナに送給し、酸水素炎バ
ーナの火炎を、あらかじめ棒状基材上に形成されたコア
となる多孔質ガラス母材もしくは透明ガラス化プリフオ
ームの表面に当て、コアとなる多孔質ガラス母材もしく
は透明ガラス化プリフオームの表面をエツチングするも
のあるいはエツチングすると同時にクラツドとなるガラ
ス微粉末を付着、堆積させるものであるので、コアとな
る多孔質ガラス母材もしくは透明ガラス化プリフオーム
の表面に吸着されているゴミ、ホコリ、水分が除去され
、コアとなる多孔質ガラス母材もしくは透明ガラス化プ
リフオームの表面部に存在する変質化GeO2,結晶化
GeOなどが除去されるため、得られる光フアイバのコ
アークラツド界面が清浄となり、前記変質化GeO2、
結晶化GeOに起因する気泡が存在しなくなり、導波損
失が少なくなるとともに、屈折率分布が改善される。特
に、この発明の製造法をシングルモード光フアイバの製
造法に適用すれば、屈折率分布が理想的なステツプ状の
光フアイバが得られる。
第1図ないし第4図はこの発明の光フアイバの製造方法
の各実施例を示す説明図、第5図はこの発明によつて得
られた光フアイバと従来の製造力法によつて得られた光
フアイバとの導波損失と波長との関係を示すグラフであ
る。 1,4,5,8・・・・・・多重管構造酸水素バーナ、
2・・・・・・棒状基材、3・・・・・・コアとなる多
孔質ガラス母材、6・・・・・・クラツドとなる多孔質
ガラス母材、9・・・・・・コアとなる透明ガラス化プ
リフオーム。
の各実施例を示す説明図、第5図はこの発明によつて得
られた光フアイバと従来の製造力法によつて得られた光
フアイバとの導波損失と波長との関係を示すグラフであ
る。 1,4,5,8・・・・・・多重管構造酸水素バーナ、
2・・・・・・棒状基材、3・・・・・・コアとなる多
孔質ガラス母材、6・・・・・・クラツドとなる多孔質
ガラス母材、9・・・・・・コアとなる透明ガラス化プ
リフオーム。
Claims (1)
- 1 気相化学反応によつてガラス原料ガスからガラス微
粉末を形成し、これを棒状基材の先端あるいは外周に付
着、堆積させて多孔質ガラス母材を形成する光ファイバ
の製造方法において、フッ化物ガスあるいはフッ化物ガ
スとガラス原料ガスとの混合ガスを酸水素炎バーナに送
り込み、酸水素炎バーナの火炎をあらかじめ棒状基材上
に形成されたコアとなる多孔質ガラス母材もしくは透明
ガラス化プリフオームの表面に当て、コアとなる多孔質
ガラス母材もしくは透明ガラス化プリフオームの表面を
エッチングすることを特徴とする光ファイバの製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9254481A JPS593944B2 (ja) | 1981-06-16 | 1981-06-16 | 光フアイバの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9254481A JPS593944B2 (ja) | 1981-06-16 | 1981-06-16 | 光フアイバの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57209839A JPS57209839A (en) | 1982-12-23 |
| JPS593944B2 true JPS593944B2 (ja) | 1984-01-26 |
Family
ID=14057321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9254481A Expired JPS593944B2 (ja) | 1981-06-16 | 1981-06-16 | 光フアイバの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS593944B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59232933A (ja) * | 1983-06-15 | 1984-12-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ用プリフオ−ムの製造方法 |
| JPS6046941A (ja) * | 1983-08-25 | 1985-03-14 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ−用プリフオ−ムの製造方法 |
-
1981
- 1981-06-16 JP JP9254481A patent/JPS593944B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57209839A (en) | 1982-12-23 |
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