JPS5936976B2 - ビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホン誘導体の製造方法 - Google Patents
ビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホン誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5936976B2 JPS5936976B2 JP14726079A JP14726079A JPS5936976B2 JP S5936976 B2 JPS5936976 B2 JP S5936976B2 JP 14726079 A JP14726079 A JP 14726079A JP 14726079 A JP14726079 A JP 14726079A JP S5936976 B2 JPS5936976 B2 JP S5936976B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sulfone
- hydroxyphenyl
- bis
- reaction
- carbonate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン誘導
体、就中、ビス(4−ヒドロキシアルコキシフェニル)
スルホンの製造法に関する。
体、就中、ビス(4−ヒドロキシアルコキシフェニル)
スルホンの製造法に関する。
ビス(ヒドロキシフェニル)スルホンおよびその誘導体
は耐熱性に優れているためポリエステル・・():()
・ 樹脂、平滑剤、界面活性剤等の原料として注目を集めて
いる。
は耐熱性に優れているためポリエステル・・():()
・ 樹脂、平滑剤、界面活性剤等の原料として注目を集めて
いる。
特にビス(4−ヒドロキシアルコキシフェニル)スルホ
ンとその一塩基性高級脂肪酸のエステルは耐熱性の繊維
用紡糸油剤として極めて重要な化合物である。従来、ビ
ス(ヒドロキシフェニル)スルホンのオキシアルキレン
誘導体、特にビス(4−ヒドロキシアルコキシフェニル
)スルホンは例えば米国特許第2593411号明細書
に示されているごとく、ビス(4−ヒドロキシフェニル
)スルホンに酸化アルキレンを反応させることによつて
製造されている。
ンとその一塩基性高級脂肪酸のエステルは耐熱性の繊維
用紡糸油剤として極めて重要な化合物である。従来、ビ
ス(ヒドロキシフェニル)スルホンのオキシアルキレン
誘導体、特にビス(4−ヒドロキシアルコキシフェニル
)スルホンは例えば米国特許第2593411号明細書
に示されているごとく、ビス(4−ヒドロキシフェニル
)スルホンに酸化アルキレンを反応させることによつて
製造されている。
しかしながら、この方法は原料となるビス(4−ヒドロ
キシフェニル)スルホンの融点が2440C〜250℃
と高いため、多量の溶剤、例えばメチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ベンゼン
等を用いてビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンを
溶解し、これに酸化アルキレンを加圧条件下で長時間を
要して反応させねばならず、工業生産には向いていない
。また収率も必ずしも良好とはいえず、副生するアルキ
レングリコール類や未反応のビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)スルホンを除去するためには水洗乾燥して製品化
する必要がある。本発明は溶剤を用いることなく、融点
以下の温度で常圧、短時間の反応でビス(4−ヒドロキ
シフェニル)スルホンからそのオキシアルキレン誘導体
を得る方法を提供する。
キシフェニル)スルホンの融点が2440C〜250℃
と高いため、多量の溶剤、例えばメチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ベンゼン
等を用いてビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンを
溶解し、これに酸化アルキレンを加圧条件下で長時間を
要して反応させねばならず、工業生産には向いていない
。また収率も必ずしも良好とはいえず、副生するアルキ
レングリコール類や未反応のビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)スルホンを除去するためには水洗乾燥して製品化
する必要がある。本発明は溶剤を用いることなく、融点
以下の温度で常圧、短時間の反応でビス(4−ヒドロキ
シフェニル)スルホンからそのオキシアルキレン誘導体
を得る方法を提供する。
即ち、本発明はビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホ
ンをアルキレンカーボネートと反応させることを特徴と
するビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンのオキシ
アルキレン誘導体の製造方法に関する。本発明方法を反
応式で示せば、 / \ (n+m )RC=0 \ / 〔式中、Rは炭素数2〜4のアルキレン基、nおよびm
は同一または異なる0以上の数(但し、n+mは1以上
)を表わす〕で表わされる。
ンをアルキレンカーボネートと反応させることを特徴と
するビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンのオキシ
アルキレン誘導体の製造方法に関する。本発明方法を反
応式で示せば、 / \ (n+m )RC=0 \ / 〔式中、Rは炭素数2〜4のアルキレン基、nおよびm
は同一または異なる0以上の数(但し、n+mは1以上
)を表わす〕で表わされる。
反応式印において、アルキレンカーボネートは二種以上
の混合物を用いてもよく、段階的に異なつたアルキレン
カーボネートを反応させてもよい。例えば、まず1モル
のエチレンカーボネートとビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)スルホンとを反応させた後、さらに1モルの1,2
−プロピレンカーボネートを反応させてもよい。アルキ
レンカーボネートはビス(4−ヒドロキシフエニル)ス
ルホン1モルに対し1モル以上、任意の量反応させれば
よいが、最も典型的には2モル反応である。
の混合物を用いてもよく、段階的に異なつたアルキレン
カーボネートを反応させてもよい。例えば、まず1モル
のエチレンカーボネートとビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)スルホンとを反応させた後、さらに1モルの1,2
−プロピレンカーボネートを反応させてもよい。アルキ
レンカーボネートはビス(4−ヒドロキシフエニル)ス
ルホン1モルに対し1モル以上、任意の量反応させれば
よいが、最も典型的には2モル反応である。
生成物は更に酸化エチレンや酸化プロピレン等と反応さ
せてもよい。アルキレンカーボネートは好ましくは理論
反応量の約1.01当量過剰に用いて反応させる。
せてもよい。アルキレンカーボネートは好ましくは理論
反応量の約1.01当量過剰に用いて反応させる。
アルキレンカーボネートは反応試剤であると同時にビス
(4−ヒドロキシフエニル)スルホンの溶剤として作用
するため、特に溶剤を要しない。アルキレンカーボネー
トは炭素数2〜4のもの、例えばエチレンカーボネート
、1,2−プロピレンカーボネート、2,3−ブチレン
カーボネート等の使用が可能である。
(4−ヒドロキシフエニル)スルホンの溶剤として作用
するため、特に溶剤を要しない。アルキレンカーボネー
トは炭素数2〜4のもの、例えばエチレンカーボネート
、1,2−プロピレンカーボネート、2,3−ブチレン
カーボネート等の使用が可能である。
反応は通常アルカリ触媒、例えばリチウム、ナトリウム
、カリウム等のアルカリ金属、それらの水酸化物、炭酸
塩等を用いる。
、カリウム等のアルカリ金属、それらの水酸化物、炭酸
塩等を用いる。
反応は通常、常圧で約185〜250℃で、不活性ガス
、例えば窒素ガスや炭酸ガス雰囲気中で行なえばよい。
、例えば窒素ガスや炭酸ガス雰囲気中で行なえばよい。
本発明方法では溶剤を用いることなく実施し得るため溶
剤を回収する必要がない。
剤を回収する必要がない。
また常圧反応であるため装置に高圧反応機を要しない。
しかも反応時間が従来法に比べ約1/3であり、副生ア
ルキレングリコールの量、および未反応のビス(4−ヒ
ドロキシフエニル)スルホンの量が少ないために水洗す
る必要がない。以下、実施例をあげて本発明を説明する
。
しかも反応時間が従来法に比べ約1/3であり、副生ア
ルキレングリコールの量、および未反応のビス(4−ヒ
ドロキシフエニル)スルホンの量が少ないために水洗す
る必要がない。以下、実施例をあげて本発明を説明する
。
実施例 1
ビス(4−β−ヒドロキシエトキシフエニル)スルホン
の合成:ビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホン25
09、エチレンカーボネート1789、炭酸ナトリウム
1.2gを攪拌機、温度計、窒素吹き込み口を備えた5
00Tn/!4つロフラスコに入れ、185〜190℃
、窒素気流中で2時間反応することにより、式〔1〕の
化合物を得た。
の合成:ビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホン25
09、エチレンカーボネート1789、炭酸ナトリウム
1.2gを攪拌機、温度計、窒素吹き込み口を備えた5
00Tn/!4つロフラスコに入れ、185〜190℃
、窒素気流中で2時間反応することにより、式〔1〕の
化合物を得た。
生成物の分析値を表一1に示す。比較例 1
酸化エチレンを用いたビス(4−β−ヒドロキシエトキ
シフエニル)スルホンの合成:ビス(4−ヒドロキシフ
エニル)スルホン2509、ベンゼン11および水酸化
カリウム29をオートクレーブに入れ、窒素置換後、反
応温度90〜100℃に維持しながら酸化エチレン13
2f!を徐々に滴下し、7時間反応させた。
シフエニル)スルホンの合成:ビス(4−ヒドロキシフ
エニル)スルホン2509、ベンゼン11および水酸化
カリウム29をオートクレーブに入れ、窒素置換後、反
応温度90〜100℃に維持しながら酸化エチレン13
2f!を徐々に滴下し、7時間反応させた。
反応終了後ベンゼンを溜去し、次いで5%水酸化ナトリ
ウム水溶液500dを加え十分攪拌した後、済過する。
水洗後、105℃の温風乾燥機で乾燥した。生成物の分
析結果を表−1に示す。表中、純度はガスクロマトグラ
フイ一による分析結果である。
ウム水溶液500dを加え十分攪拌した後、済過する。
水洗後、105℃の温風乾燥機で乾燥した。生成物の分
析結果を表−1に示す。表中、純度はガスクロマトグラ
フイ一による分析結果である。
実施例2
ビス(4−β−ヒドロキシプロポキシフエニル)スルホ
ンの合成:ビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホン2
509、プロピレンカーボネート2069および水酸実
施例1と同様に反応させる。
ンの合成:ビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホン2
509、プロピレンカーボネート2069および水酸実
施例1と同様に反応させる。
1時間で反応は終了し、得られた生成物の分析値を表−
2に示す。
2に示す。
比較例 2ビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホン2
509、イソプロピルアルコール1500m1および水
酸化ナトリウム39をオートクレーブに入れ、窒素ガス
置換後、反応温度を100〜110℃に維持しながら酸
化プロピレン1749を徐々に滴下し、8時間反応させ
た。
509、イソプロピルアルコール1500m1および水
酸化ナトリウム39をオートクレーブに入れ、窒素ガス
置換後、反応温度を100〜110℃に維持しながら酸
化プロピレン1749を徐々に滴下し、8時間反応させ
た。
イソプロピルアルコールを溜去し、5%水酸化ナトリウ
ム水溶液400wL1で未反応ビスフエノールを溶解除
去し、更に水洗後乾燥して目的物を得た。生成物の分析
値を表−2に示す。で表わされる化合物を得た。生成物
の水酸基価は251(理論値:247)、硫黄含有量7
.0%く (表中、純度はガスクロマトグラフイ一によ
り求めた。)実施例 3 ビス(4−β−ヒドロキシエチルフエニノ(ハ)スルホ
ン3389を実施例1と同様にして得、これを反応器か
ら取り出すことなく、さらにエチレンカーボネート17
4f!を加えて、実施例1と同様の反応条件で連続的に
反応させ平均オキシアルキレン付加モル数4(n=m=
2)のビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホンのオキ
シエチレン誘導体を得た。
ム水溶液400wL1で未反応ビスフエノールを溶解除
去し、更に水洗後乾燥して目的物を得た。生成物の分析
値を表−2に示す。で表わされる化合物を得た。生成物
の水酸基価は251(理論値:247)、硫黄含有量7
.0%く (表中、純度はガスクロマトグラフイ一によ
り求めた。)実施例 3 ビス(4−β−ヒドロキシエチルフエニノ(ハ)スルホ
ン3389を実施例1と同様にして得、これを反応器か
ら取り出すことなく、さらにエチレンカーボネート17
4f!を加えて、実施例1と同様の反応条件で連続的に
反応させ平均オキシアルキレン付加モル数4(n=m=
2)のビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホンのオキ
シエチレン誘導体を得た。
生成物の水酸基価266(理論値:263)、硫黄含有
量7.4%(理論値:7.5)であつた。
量7.4%(理論値:7.5)であつた。
実施例4実施例2で得たビス(4−プロピルオキシフエ
ニル)スルホン3669、水酸化カリウム1.8gをオ
ートクレーブに入れ、140〜160℃で酸化エチレン
889と反応させ式:(理論値:7,05%)であつた
。
ニル)スルホン3669、水酸化カリウム1.8gをオ
ートクレーブに入れ、140〜160℃で酸化エチレン
889と反応させ式:(理論値:7,05%)であつた
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホンをアルキ
レンカーボネートと反応させることを特徴とするビス(
4−ヒドロキシフェニル)スルホンのオキシアルキレン
誘導体の製造方法。 2 アルキレンカーボネートがエチレンカーボネートま
たは1,2−プロピレンカーボネートである第1項記載
の方法。 3 アルキレンカーボネートをビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)スルホン1モルに対し、2モル反応させる第1
項記載の方法。 4 反応を無溶媒で行なう第1項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14726079A JPS5936976B2 (ja) | 1979-11-13 | 1979-11-13 | ビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14726079A JPS5936976B2 (ja) | 1979-11-13 | 1979-11-13 | ビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5671062A JPS5671062A (en) | 1981-06-13 |
JPS5936976B2 true JPS5936976B2 (ja) | 1984-09-06 |
Family
ID=15426201
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14726079A Expired JPS5936976B2 (ja) | 1979-11-13 | 1979-11-13 | ビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5936976B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4449003A (en) * | 1982-04-02 | 1984-05-15 | Mobay Chemical Corporation | Process for the production of bis(4-hydroxyphenyl)biphenyl disulfone |
DE102005050193A1 (de) | 2005-10-18 | 2007-04-19 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Leder und dafür geeignete Produkte |
CN104326951A (zh) * | 2014-09-28 | 2015-02-04 | 上海乘鹰新材料有限公司 | 二羟乙基双酚s及其制备方法 |
-
1979
- 1979-11-13 JP JP14726079A patent/JPS5936976B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5671062A (en) | 1981-06-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3342858A (en) | Preparation of alkoxy-alkanoic acids by the oxidation of alkoxy-alkanols | |
JPH04230331A (ja) | トリオルガノホスフィン触媒を使用した環状有機カーボネートによるフェノール類またはチオフェノール類のヒドロキシアルキル化方法 | |
JPH02149541A (ja) | アルキレングリコールエーテルのカルボン酸エステルの製造方法およびその使用方法 | |
JPS5936976B2 (ja) | ビス(4−ヒドロキシフエニル)スルホン誘導体の製造方法 | |
JPH04198148A (ja) | 2―ヒドロキシベンゾフェノン―4―オキシアルキレンエーテルの製造方法 | |
EP0579666A1 (en) | SELECTIVE HYDROXYLATION OF PHENOL OR PHENOLIC ETHERS. | |
JPS6145613B2 (ja) | ||
JPH0150690B2 (ja) | ||
JP2898754B2 (ja) | レゾルシノールの製造方法 | |
US1730061A (en) | Ether of propylene glycol and process for making the same | |
US2993912A (en) | Process for the production of | |
US3911022A (en) | Etherification of phenolic compounds | |
JPH0477464A (ja) | 水溶性カルボジイミドの合成法 | |
JPH0320390B2 (ja) | ||
US2204008A (en) | Manufacture of coumarin | |
JPS602303B2 (ja) | ビス(4−ヒドロキシアルコキシフエニル)スルホンの製法 | |
US4433172A (en) | Production of dihydroxy arylophenones | |
US3098861A (en) | Method of preparing titanium or zirconium bis (dioxy alkylene) compounds | |
US2780642A (en) | Reaction of aryloxyacetic acids and unsymmetrical epoxides | |
JPS5931731A (ja) | カルボン酸誘導体の新規製造法 | |
JPH0132825B2 (ja) | ||
US4060563A (en) | Process for preparing 2-allyl phenol | |
JPS58131939A (ja) | ジカルボン酸またはそのエステルの製造方法 | |
JPH0272135A (ja) | フェノールのオルトモノブロム誘導体の製造法 | |
JPS61134356A (ja) | m−アミノアセトフエノンの製造法 |