JPS5936914B2 - セフアロスポリン類縁体 - Google Patents
セフアロスポリン類縁体Info
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- JPS5936914B2 JPS5936914B2 JP53076901A JP7690178A JPS5936914B2 JP S5936914 B2 JPS5936914 B2 JP S5936914B2 JP 53076901 A JP53076901 A JP 53076901A JP 7690178 A JP7690178 A JP 7690178A JP S5936914 B2 JPS5936914 B2 JP S5936914B2
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- C07D463/00—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D463/10—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
- C07D463/14—Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2 with hetero atoms directly attached in position 7
- C07D463/16—Nitrogen atoms
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- C07D463/22—Nitrogen atoms further acylated by radicals derived from carboxylic acids or by nitrogen or sulfur analogues thereof with the acylating radicals further substituted by hetero atoms or by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen further substituted by nitrogen atoms
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4006—Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl
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- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/553—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式〔Ｉ〕
−□ 〔Ｉ〕
〔但し式中、Ｘはアミノ基、保護されたアミノ基または
アジド基を表わし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリー
ル基、アラルキル基またはシリル基（これらの基は置換
されていてもいなくてもよい）を示す〕で表わされる新
規セフアロスポリン類縁体およびその塩に関する。
アジド基を表わし、Ｒは水素原子、アルキル基、アリー
ル基、アラルキル基またはシリル基（これらの基は置換
されていてもいなくてもよい）を示す〕で表わされる新
規セフアロスポリン類縁体およびその塩に関する。
一般式〔Ｉ〕で表わされる本発明化合物は力ん〕Ｎｏ□
（支） で示されるカルバセフエム骨格（カルバセフエムの命名
はジャーナル・オブ・アメリカンケミカルソサイエテイ
第９６巻、７５８４頁、１９７４年の記述に従つた）の
テトラヒドロピリジン環がジヒドロピリジン環になつた
親規セフアロスポリン類縁体である。
（支） で示されるカルバセフエム骨格（カルバセフエムの命名
はジャーナル・オブ・アメリカンケミカルソサイエテイ
第９６巻、７５８４頁、１９７４年の記述に従つた）の
テトラヒドロピリジン環がジヒドロピリジン環になつた
親規セフアロスポリン類縁体である。
以下本発明を詳細に説明する。
本発明化合物は上記一般式〔Ｉ〕で示されるセフアロス
ポリン類縁体である。
ポリン類縁体である。
一般式〔Ｉ〕中、一ＣＯ２Ｒで表わされるエステルとし
ては、通常のペニシ１アン、セフアロスポリンの化学で
利用されるエステルがあげられる。該エステルは条件を
選択することにより分子中の置換基、官能基等を損わず
にカルボキシル基に変換できるものが好ましい。
ては、通常のペニシ１アン、セフアロスポリンの化学で
利用されるエステルがあげられる。該エステルは条件を
選択することにより分子中の置換基、官能基等を損わず
にカルボキシル基に変換できるものが好ましい。
好ましい基Ｒとしてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、１−ブチル等
のＣ１〜Ｃ５のアルキル基、クロルメチル、２、２、装
−トリクロルエチル、２、２｜装−トリフロルエチル等
のＣ１〜Ｃ５のハロゲン化アルキル基、ベンジル、″
ジフェニルメチル、トリフェニルメチル等のＣ７〜Ｃ２
０のアリールメチル基、またそれらのフェニル核上にメ
トキシ、ニトロ等をもつＣ７〜Ｃ２０のアリールメチル
基、トリメチルシリル、トリフエニルシリル等の置換シ
リル基があげられる。これ、らＲの基は置換されていて
もいなくてもよい。また生体内で酵素的または非酵素的
にカルボキシル基に変換されるエステル基、たとえばＲ
として一ＣＨＯＣＯＲ２（但し式中、Ｒ１は水素原子ま
たは↓ν！低級アルキル基、Ｒ２は低級アルキル基、低
級アルコキシ基またはフエニル基を示す。
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、１−ブチル等
のＣ１〜Ｃ５のアルキル基、クロルメチル、２、２、装
−トリクロルエチル、２、２｜装−トリフロルエチル等
のＣ１〜Ｃ５のハロゲン化アルキル基、ベンジル、″
ジフェニルメチル、トリフェニルメチル等のＣ７〜Ｃ２
０のアリールメチル基、またそれらのフェニル核上にメ
トキシ、ニトロ等をもつＣ７〜Ｃ２０のアリールメチル
基、トリメチルシリル、トリフエニルシリル等の置換シ
リル基があげられる。これ、らＲの基は置換されていて
もいなくてもよい。また生体内で酵素的または非酵素的
にカルボキシル基に変換されるエステル基、たとえばＲ
として一ＣＨＯＣＯＲ２（但し式中、Ｒ１は水素原子ま
たは↓ν！低級アルキル基、Ｒ２は低級アルキル基、低
級アルコキシ基またはフエニル基を示す。
）で表わされる基、（但し式中、Ｒ３は同一または相異
なる、水素原子、メチル基、メトキシ基を示す）で表わ
される基を有するエステル基などがあげられる。
なる、水素原子、メチル基、メトキシ基を示す）で表わ
される基を有するエステル基などがあげられる。
Ｘはアミノ基、保護されたアミノ基またはアジド基であ
る。保護されたアミノ基としてはフタリルイミノ基、カ
ルボベンゾキシアミノ基、トリチルアミノ基など通常の
アミノ基の保護基（Ｊ．Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ編、プロ
テクテイブ・グループ・イン・オーガニツク、ケミスト
リ一４３頁、１９７３年参照）で保護されたアミノ基が
あげられる。
る。保護されたアミノ基としてはフタリルイミノ基、カ
ルボベンゾキシアミノ基、トリチルアミノ基など通常の
アミノ基の保護基（Ｊ．Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ編、プロ
テクテイブ・グループ・イン・オーガニツク、ケミスト
リ一４３頁、１９７３年参照）で保護されたアミノ基が
あげられる。
一般式〔１〕で表わされる化合物はＣ６，Ｃ７について
考えられるすべての立体異性体を包含する。
考えられるすべての立体異性体を包含する。
次に一般式〔１〕で表わされる化合物〔１〕｛以下一般
式〔１〕、・・・・・・で表わされる化合物を化合物〔
１〕、・・・・・・と表わすことがある｝の製造法につ
いて説明する。化合物〔１〕は以下１〜のプロセスに従
つて合成することができる。
式〔１〕、・・・・・・で表わされる化合物を化合物〔
１〕、・・・・・・と表わすことがある｝の製造法につ
いて説明する。化合物〔１〕は以下１〜のプロセスに従
つて合成することができる。
（１）プロセス
ー般式〔Ｉ］においてＸがアジド基または保護されたア
ミノ基である化合物〔１ａ〕は下記反応工程（イ）に示
した方法で製造することができる。
ミノ基である化合物〔１ａ〕は下記反応工程（イ）に示
した方法で製造することができる。
反応工程（イ）〔式中、Ｘ１はアジド基、保護されたア
ミノ基を表わし、Ｒは前記と同意義であり、Ｒ４は低級
アルキル基、アリール基、アラルキル基を表わし、Ｙは
硫黄原子またはセレン原子を表わす。
ミノ基を表わし、Ｒは前記と同意義であり、Ｒ４は低級
アルキル基、アリール基、アラルキル基を表わし、Ｙは
硫黄原子またはセレン原子を表わす。
〕上記反応はＲ４，Ｙの種類により無溶媒または溶媒中
でＯ〜２００℃で進行するが、一般的には３０中〜１５
０℃に加熱して行う。溶媒としては、炭化水素、ハロゲ
ン化炭化水素、エーテル系、エステル系、アミド系また
はスルホキシド系の有機溶媒が用いられるが、とくにト
ルエン、四塩化炭素のごとき溶媒が望ましい。原料化合
物〔〕は本出願人により特願昭５３−３４６９６号（特
開昭５４−１２８５９１号）明細書に開示された化合物
であり、製造法は該明細書に詳細に説明されている。
でＯ〜２００℃で進行するが、一般的には３０中〜１５
０℃に加熱して行う。溶媒としては、炭化水素、ハロゲ
ン化炭化水素、エーテル系、エステル系、アミド系また
はスルホキシド系の有機溶媒が用いられるが、とくにト
ルエン、四塩化炭素のごとき溶媒が望ましい。原料化合
物〔〕は本出願人により特願昭５３−３４６９６号（特
開昭５４−１２８５９１号）明細書に開示された化合物
であり、製造法は該明細書に詳細に説明されている。
（２）プロセス
ー般式〔１〕においてＸがアジド基、保護されたアミノ
基で示される化合物〔１ａ〕は下記反応工程（ロ）に示
した方法でも製造することができる。
基で示される化合物〔１ａ〕は下記反応工程（ロ）に示
した方法でも製造することができる。
反応工程（口）（式中、Ｘｌ，Ｙ，Ｘ４およびＲは前記
と同義を表わす。
と同義を表わす。
）この反応はプロセスＩに比べより高い温度（約５０反
〜２５０℃）で、無溶媒または溶媒中で行なわれる。
〜２５０℃）で、無溶媒または溶媒中で行なわれる。
溶媒としてはプロセスＩと同じ溶媒を用いる。尚、水素
化ナトリウムのようなアルカリ金属ハイドライド、カリ
ウム第３ブトキサイドのようなアルカリ金属アルコキシ
ドなどの塩基を用いると良い結果が得られる場合がある
。原料化合物〔Ｉ〕は前記特願昭５３−３４６９６号（
特開昭５４−１２８５９１号）明細書に開示された化合
物であり、製造法は該明細書に詳細に説明されている。
化ナトリウムのようなアルカリ金属ハイドライド、カリ
ウム第３ブトキサイドのようなアルカリ金属アルコキシ
ドなどの塩基を用いると良い結果が得られる場合がある
。原料化合物〔Ｉ〕は前記特願昭５３−３４６９６号（
特開昭５４−１２８５９１号）明細書に開示された化合
物であり、製造法は該明細書に詳細に説明されている。
（３）プロセスＩ
一般式〔１〕においてＸがアミノ基である化合物〔Ｉｂ
〕は下記反応工程（ハ）に示した方法で製造することが
できる。
〕は下記反応工程（ハ）に示した方法で製造することが
できる。
反応工程（ハ）
（式中、Ｘｌ，Ｒは前記と同義を表わす。
）Ｘ１がアジド基の場合、好ましい手法としては接触還
元法または硫化水素を塩基の存在下作用させる方法が用
いられる。接触還元の触媒としてはパラジウム炭素、ラ
ネニツケル、白金触媒などが用いられる。
元法または硫化水素を塩基の存在下作用させる方法が用
いられる。接触還元の触媒としてはパラジウム炭素、ラ
ネニツケル、白金触媒などが用いられる。
反応は水、各種アルコール、エーテル系溶媒または酢酸
など一般に接触還元に用いられる溶媒中、常温または加
熱（１００℃以下）して行う。この場合Ｒがベンジル、
パラメトキシベンジル、パラニトロベンジル、ベンズヒ
ドリル、トリチルなどの置換アリールメチル基である化
合物を用いると基ＣＯ２ＲがＣＯ２Ｈに変換されること
がある。
など一般に接触還元に用いられる溶媒中、常温または加
熱（１００℃以下）して行う。この場合Ｒがベンジル、
パラメトキシベンジル、パラニトロベンジル、ベンズヒ
ドリル、トリチルなどの置換アリールメチル基である化
合物を用いると基ＣＯ２ＲがＣＯ２Ｈに変換されること
がある。
硫化水素による還元に用いられる塩基としてはトリエチ
ルアミン、ピリジンなどが好ましい。Ｘ１が保護された
アミン基である場合、通常のアミノ保護基の脱離法たと
えばＪ．Ｆ．Ｗ．Ｍｃ．Ｏｍｌｅ編、ゞプロテクテイブ
・グループ・イン・オーガニツク・ケミストリイ″４３
頁、１９７３年に記載の方法に従つてアミノ保護基を脱
離すれば化合物〔Ｉｂ〕が得られる。（４）プロセス ー般式〔１〕においてＲが水素原子である化合物〔Ｉｃ
〕は下記反応工程（ニ）に示した方法で製造することが
できる。
ルアミン、ピリジンなどが好ましい。Ｘ１が保護された
アミン基である場合、通常のアミノ保護基の脱離法たと
えばＪ．Ｆ．Ｗ．Ｍｃ．Ｏｍｌｅ編、ゞプロテクテイブ
・グループ・イン・オーガニツク・ケミストリイ″４３
頁、１９７３年に記載の方法に従つてアミノ保護基を脱
離すれば化合物〔Ｉｂ〕が得られる。（４）プロセス ー般式〔１〕においてＲが水素原子である化合物〔Ｉｃ
〕は下記反応工程（ニ）に示した方法で製造することが
できる。
反応工程（ニ）
（式中Ｘは前記と同義を表わし、Ｒ５は前記Ｒの定義の
中から水素原子を除いたものを表わす。
中から水素原子を除いたものを表わす。
）上記反応はペニシリン、セフイロスポリンの化学で頻
用されている手法を用いて行なわれ、適当な条件、試剤
を選ぶことにより、分子中の置換基、官能基を損わずに
化合物〔Ｉｄ〕より化合物〔Ｉｃ〕を製造することがで
きる。尚、Ｘがアジド基の場合に接触還元法で基Ｒ５を
Ｈに変換すると、アジド基がアミノ基に還元されること
があるが、還元されたアミノ基を有する化合物も本発明
化合物の一つである。
用されている手法を用いて行なわれ、適当な条件、試剤
を選ぶことにより、分子中の置換基、官能基を損わずに
化合物〔Ｉｄ〕より化合物〔Ｉｃ〕を製造することがで
きる。尚、Ｘがアジド基の場合に接触還元法で基Ｒ５を
Ｈに変換すると、アジド基がアミノ基に還元されること
があるが、還元されたアミノ基を有する化合物も本発明
化合物の一つである。
本発明化合物はセフアロスポリン類似の抗生物質を合成
するための中間体として有用な化合物である。
するための中間体として有用な化合物である。
たとえば化合物〔１ｂ〕のアミノ基にペニシリン、セフ
アロスポリンの化学の領域で常用される種々のアシル基
を導入することにより強力な抗菌性を有するセフアロス
ポリン類縁化合物を得ることができる。（後記参考例１
参照）本発明におけるセフアロスポリン類縁体の塩とし
ては一般式〔１〕においてＸがアミノ基で表わされる化
合物〔Ｉｂ〕の無機酸塩、有機酸塩、具体的には塩酸塩
、硫酸塩、リン酸塩、蟻酸塩、リンゴ酸塩などがあげら
れる。
アロスポリンの化学の領域で常用される種々のアシル基
を導入することにより強力な抗菌性を有するセフアロス
ポリン類縁化合物を得ることができる。（後記参考例１
参照）本発明におけるセフアロスポリン類縁体の塩とし
ては一般式〔１〕においてＸがアミノ基で表わされる化
合物〔Ｉｂ〕の無機酸塩、有機酸塩、具体的には塩酸塩
、硫酸塩、リン酸塩、蟻酸塩、リンゴ酸塩などがあげら
れる。
また一般式〔１〕においてＲが水素原子で表わされる化
合物〔Ｉｃ〕のナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム
塩、有機アミン塩などが例示される。以下に実施例をあ
げて本発明化合物の具体的製造法を示す。
合物〔Ｉｃ〕のナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム
塩、有機アミン塩などが例示される。以下に実施例をあ
げて本発明化合物の具体的製造法を示す。
実施例 １
（土）シス一２−ｔ−ブチルオキシカルボニルJメ[アジ
ド一１−アザビシクロ〔４，２，０〕オクト一２，４−
ジエン一８−オン｛一般式〔１〕にｔおいてＸ−Ｎ３，
Ｒ− Ｂｕであつてシス体すなわち式で表わされる化合
物｝の製造。
ド一１−アザビシクロ〔４，２，０〕オクト一２，４−
ジエン一８−オン｛一般式〔１〕にｔおいてＸ−Ｎ３，
Ｒ− Ｂｕであつてシス体すなわち式で表わされる化合
物｝の製造。
（尚シスとは６位、７位の水素の立体化学に関するもの
であつて、以下も同じ）（１） （±）−シス一２−ｔ
−ブチルオキシカルボニル−５−フエニルスルフイニル
ーJメ[アジドー１−アザビシクロ〔４，２，０〕オクト
一２−エン一８−オンＡ（５位のスルフルフイニル基が
６位および７位の水素と同じ配位のもの）（新規化合物
、参考例２に製造法を示す）９６０η（２．４７ミリモ
ル）をトルエン５０ｍ１に溶かし、１０５７〜１１０℃
に熱して３．５時間撹拌する。
であつて、以下も同じ）（１） （±）−シス一２−ｔ
−ブチルオキシカルボニル−５−フエニルスルフイニル
ーJメ[アジドー１−アザビシクロ〔４，２，０〕オクト
一２−エン一８−オンＡ（５位のスルフルフイニル基が
６位および７位の水素と同じ配位のもの）（新規化合物
、参考例２に製造法を示す）９６０η（２．４７ミリモ
ル）をトルエン５０ｍ１に溶かし、１０５７〜１１０℃
に熱して３．５時間撹拌する。
溶媒を減圧留去して得られる粗生成物をシリカゲル〔ワ
コーゲルＣ−２００、和光純薬社製、以下の実施例、参
考例においてシリカゲルは同じものを用いた。〕５０９
を充填したカラムにチヤージし、展開溶媒〔ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝８：１（容量比、以下同じ）〕を用い
て溶出して溶出灘を減圧濃縮して無色透明な油状の目的
物３３０η（収率５０．９％）を得る。各物性値は以下
の通り。（２） （±）−シス一２−１−ブチルオキシ
カルボニル−５−フエニルスルフイニルーJメ[アジド一
１−アザビシクロ〔４，２，０〕オクト一２ーエン一８
−オンＢ（５位のフエニルスルフイニル基が６位と７位
の水素と異る配位のもの）（新規化合物、参考例２に製
造法を示す。
コーゲルＣ−２００、和光純薬社製、以下の実施例、参
考例においてシリカゲルは同じものを用いた。〕５０９
を充填したカラムにチヤージし、展開溶媒〔ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝８：１（容量比、以下同じ）〕を用い
て溶出して溶出灘を減圧濃縮して無色透明な油状の目的
物３３０η（収率５０．９％）を得る。各物性値は以下
の通り。（２） （±）−シス一２−１−ブチルオキシ
カルボニル−５−フエニルスルフイニルーJメ[アジド一
１−アザビシクロ〔４，２，０〕オクト一２ーエン一８
−オンＢ（５位のフエニルスルフイニル基が６位と７位
の水素と異る配位のもの）（新規化合物、参考例２に製
造法を示す。
）８９５η（２．３０ミリモル）を５０ｍ１の四塩化炭
素に溶かし、８０℃に熱して１．５時間撹拌する。溶媒
を減圧留去して得られる粗生成物を（１）と同様にして
精製し目的物４４９η（収率７４．３０１））を得る。
素に溶かし、８０℃に熱して１．５時間撹拌する。溶媒
を減圧留去して得られる粗生成物を（１）と同様にして
精製し目的物４４９η（収率７４．３０１））を得る。
物性値は（１）で得たものとよく一致した。実施例 ２
（±）−シス一２−カルボキシーJメ[アジド一１−アザ
ビシクロ〔４，２，０〕オクト一２，４−ジエン一８−
オン｛一般式〔１〕においてＸ＝Ｎ３，Ｒ−Ｈであつて
シス体すなわち式で表わされる化合物｝の製造。
ビシクロ〔４，２，０〕オクト一２，４−ジエン一８−
オン｛一般式〔１〕においてＸ＝Ｎ３，Ｒ−Ｈであつて
シス体すなわち式で表わされる化合物｝の製造。
実施例１と同様にして得られる（±）シス一２−１−ブ
チルオキシカルボニルーJメ[アジド一１−アザビシクロ
〔４，２，０〕オクト一２，４一ジエン一８−オン２９
０ワ（１．１ミリモル）をトリフロロ酢酸６ｍ１１塩化
メチレン６ｄの混液に溶かし、氷冷下１時間４０分、さ
らに室温で３０分間撹拌する。
チルオキシカルボニルーJメ[アジド一１−アザビシクロ
〔４，２，０〕オクト一２，４一ジエン一８−オン２９
０ワ（１．１ミリモル）をトリフロロ酢酸６ｍ１１塩化
メチレン６ｄの混液に溶かし、氷冷下１時間４０分、さ
らに室温で３０分間撹拌する。
溶媒を減圧留去して酢酸エチルを加え１０％炭酸カリウ
ム５ｍ１で３回抽出する。抽出した水溶液（約１５ｗＬ
１）を１Ｎ一塩酸でＰＨ２．５とし酢酸エチル１０ｗＬ
１で２回抽出し硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧で溶媒留
去し目的物１５６〜（収率６８．４％）を結晶として得
る。各物性値は以下の通り。
ム５ｍ１で３回抽出する。抽出した水溶液（約１５ｗＬ
１）を１Ｎ一塩酸でＰＨ２．５とし酢酸エチル１０ｗＬ
１で２回抽出し硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧で溶媒留
去し目的物１５６〜（収率６８．４％）を結晶として得
る。各物性値は以下の通り。
実施例 ３
（±）−シス一２−カルボキシーJメ[アミノ一１−アザ
ビシクロ〔４，２，０〕オクト一２，４−ジエン一８−
オン｛一般式〔１〕においてＸ＝ＮＨ２，Ｒ＝Ｈであつ
てシス体すなわちで表わされる化合物｝の製造。
ビシクロ〔４，２，０〕オクト一２，４−ジエン一８−
オン｛一般式〔１〕においてＸ＝ＮＨ２，Ｒ＝Ｈであつ
てシス体すなわちで表わされる化合物｝の製造。
実施例２と同様にして得られる（土）シス一２ーカルボ
キシーJメ[アジド一１−アザビシクロ〔４，２，０〕オ
クト一２，４−ジエン一８−オン３９〜（０．１９ミリ
モル）をエタノール３−に溶かし５％パラジウム一炭酸
カルシウム（触媒）２２ηを加え常圧で水素気流下５時
間４５分撹拌する。
キシーJメ[アジド一１−アザビシクロ〔４，２，０〕オ
クト一２，４−ジエン一８−オン３９〜（０．１９ミリ
モル）をエタノール３−に溶かし５％パラジウム一炭酸
カルシウム（触媒）２２ηを加え常圧で水素気流下５時
間４５分撹拌する。
触媒を淵別し、さらに触媒をエタノール３ｄ１水３ｍ１
でよく洗い、洗液を済液と合わせる。混液を減圧濃縮し
、酢酸エチル３ｄを加えて水５ｄで抽出する。水溶液を
減圧濃縮乾固して目的物３５．４〜（収率１００％）を
得る。各物性値は以下の通り。
でよく洗い、洗液を済液と合わせる。混液を減圧濃縮し
、酢酸エチル３ｄを加えて水５ｄで抽出する。水溶液を
減圧濃縮乾固して目的物３５．４〜（収率１００％）を
得る。各物性値は以下の通り。
１６４５，１６１５
展開溶媒としてｎ−ブタノール：酢酸：水＝４：１：１
を用い、Ｋｉｅｓｅｌｇｅｌ６Ｏ＋５７１９（メルク社
製、シリルゲル）を用いるシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイ一によるＲｆ値：０．０９参考例 １（±）シス
一２−カルボキシーJヨ黶k２−（チオフエン一２−イル
）アセチルアミノ〕−１−アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト一２，４−ジニJヨ黷W−１＞′ＣｔΩＣＨ−ＣＯ
ＮＨ？＼で表わされる化合物〕の製造。
を用い、Ｋｉｅｓｅｌｇｅｌ６Ｏ＋５７１９（メルク社
製、シリルゲル）を用いるシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイ一によるＲｆ値：０．０９参考例 １（±）シス
一２−カルボキシーJヨ黶k２−（チオフエン一２−イル
）アセチルアミノ〕−１−アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト一２，４−ジニJヨ黷W−１＞′ＣｔΩＣＨ−ＣＯ
ＮＨ？＼で表わされる化合物〕の製造。
実施例３と同様にして得られた（±）−シス一２−カル
ボキシーJメ[アミノ一１−アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト一２，４−ジエン一８−オン５０〜を水２．４ｍ
１１アセトン２．４ｍ１に溶かし重曹７６ηを加える。
ボキシーJメ[アミノ一１−アザビシクロ〔４，２，０〕
オクト一２，４−ジエン一８−オン５０〜を水２．４ｍ
１１アセトン２．４ｍ１に溶かし重曹７６ηを加える。
次いで氷冷下チエニルアセチルクロリド４４〜をアセト
ン０．２ｍ１に溶解した溶液を加える。不溶物が析出す
るので５分後にアセトンをさらに２ｍ１加えて均一溶液
とし氷冷下１時間５０分撹拌する。１規定塩酸３ｍ１を
加えてＰＨを２，０とし、溶媒を減圧留去して粗生成物
６０ηを得る。
ン０．２ｍ１に溶解した溶液を加える。不溶物が析出す
るので５分後にアセトンをさらに２ｍ１加えて均一溶液
とし氷冷下１時間５０分撹拌する。１規定塩酸３ｍ１を
加えてＰＨを２，０とし、溶媒を減圧留去して粗生成物
６０ηを得る。
これをエーテル１Ｔｆ１１でトリチユレートし、戸取し
て目的物２３η（収率２７．２％）を取る。各物性値は
以下の通り。本参考例で得られた化合物について、抗菌
活性を寒天希釈法（ＰＨ７．Ｏ）によつて測定した結果
は以下に示す通りである。
て目的物２３η（収率２７．２％）を取る。各物性値は
以下の通り。本参考例で得られた化合物について、抗菌
活性を寒天希釈法（ＰＨ７．Ｏ）によつて測定した結果
は以下に示す通りである。
参考例 ２
（±）−シス一２−ｔ−ブチルオキシカルボニル−５−
フエニルスルフイニルーJメ[アジド一１ーアザビシクロ
〔４，２，０〕オクト一２−エン一８−オンＡ〔実施例
１−（１）項の原料化合物〕および（±）−シス一２−
ｔ−ブチルオキシカルボニル−５−フエニルスルフイニ
ルーJメ[アジド一１−アザビシクロ〔４，２，０〕オク
ト一２−ニン一８−オンＢ〔実施例１−（２）項の原料
化合物〕の製造。
フエニルスルフイニルーJメ[アジド一１ーアザビシクロ
〔４，２，０〕オクト一２−エン一８−オンＡ〔実施例
１−（１）項の原料化合物〕および（±）−シス一２−
ｔ−ブチルオキシカルボニル−５−フエニルスルフイニ
ルーJメ[アジド一１−アザビシクロ〔４，２，０〕オク
ト一２−ニン一８−オンＢ〔実施例１−（２）項の原料
化合物〕の製造。
シツフ塩基の製造。
［−ブチル−α−アミノジエチルホスホノアセテート１
．０８９（４ｍｍ０１ｅｓ）を無水塩化メチレン１００
ｍ１に溶解し、４，４−ジメチル−トランス−２−ブテ
ナール５８０η（４．４ｍｍ０Ｉｅｓ）の無水塩化メチ
レン（２０ｍ０溶液を加えて室温で１時間撹拌する。
．０８９（４ｍｍ０１ｅｓ）を無水塩化メチレン１００
ｍ１に溶解し、４，４−ジメチル−トランス−２−ブテ
ナール５８０η（４．４ｍｍ０Ｉｅｓ）の無水塩化メチ
レン（２０ｍ０溶液を加えて室温で１時間撹拌する。
無水硫酸マグネシウム６００ηを加えて更に１時間撹拌
する。反応液を減圧沢過し塩化メチレンを減圧留去して
１．６３９の油状物を得る。収率１００％ｏこのものの
物性値は下記に示す通りで目的の（±）式で表わされる
シツフ塩基と同定した。
する。反応液を減圧沢過し塩化メチレンを減圧留去して
１．６３９の油状物を得る。収率１００％ｏこのものの
物性値は下記に示す通りで目的の（±）式で表わされる
シツフ塩基と同定した。
で表わされるアセタール化合物およびアルデヒド化合物
の製造。
の製造。
前記（１）項と同様にして得られたシツフ塩基１．６９
（４．２ｍｍ０１ｅｓ）を無水ベンゼン３０ａと無水シ
クロヘキサン３０ｍ１に溶かし無水トリエチルアミン０
．８４ｄ（７ｍｍ０１ｅｓ）を加えた後、アジドアセチ
ルクロリド５８０７ｒ９（４．８ｍｍ０１ｅｓ）のシク
ロヘキサン（４０ｄ）溶液を室温下徐々に滴下していく
。
（４．２ｍｍ０１ｅｓ）を無水ベンゼン３０ａと無水シ
クロヘキサン３０ｍ１に溶かし無水トリエチルアミン０
．８４ｄ（７ｍｍ０１ｅｓ）を加えた後、アジドアセチ
ルクロリド５８０７ｒ９（４．８ｍｍ０１ｅｓ）のシク
ロヘキサン（４０ｄ）溶液を室温下徐々に滴下していく
。
約１．５時間で滴下した後さらに室温で１時間撹拌する
。反応液にベンゼンを加え飽和重曹水、飽和食塩水で洗
滌した後無水硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮して粗
生物１．８８ｇを得る。
。反応液にベンゼンを加え飽和重曹水、飽和食塩水で洗
滌した後無水硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮して粗
生物１．８８ｇを得る。
これをシリカゲル９０９を充填したカラムに充填し、溶
出溶媒（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）で溶出す
ると、上記アセタール化合物５５０ＴＶ（２８．２％）
および上記アルデヒド化合物２２０ＴＩＩＩ？（１１，
３％）が得られる。得られたアセタール化合物およびア
ルデヒド化合物の物性値は下記に示す通りである。アセ
タール化合物水エタノール６．５ｍ１の混合液に５０９
ｆ）水素化ナトリウム１２０〜（２．５ｍｍ０１ｅｓ）
を加える。
出溶媒（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：２）で溶出す
ると、上記アセタール化合物５５０ＴＶ（２８．２％）
および上記アルデヒド化合物２２０ＴＩＩＩ？（１１，
３％）が得られる。得られたアセタール化合物およびア
ルデヒド化合物の物性値は下記に示す通りである。アセ
タール化合物水エタノール６．５ｍ１の混合液に５０９
ｆ）水素化ナトリウム１２０〜（２．５ｍｍ０１ｅｓ）
を加える。
水素化ナトリウムが完全に反応した後、ドライアイス−
メタノール浴で反応液を−７８℃に冷却する。前記同様
にして得られたアルデヒド化合物９２０η（２．２ｍｍ
０１ｅｓ）エタノール（６．５ｍ０溶液を約１５分で滴
下する。浴温−７８ル〜−２０ｍＣの間で２時間撹拌す
る。酢酸、水を加えて室温まで温度をあげ、エーテル抽
出して、エーテル層を飽和食塩水で洗滌して、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して油状物１．１２９を
得る。これをシリカゲル６０９を充填したカラムにチヤ
ージし、溶出溶媒（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１
）で溶出して上記チオフエニル化合物４７０η（４０．
４％）を得る。このものの物性値は以下に示す通りであ
る。で表わされる化合物〕の製造。
メタノール浴で反応液を−７８℃に冷却する。前記同様
にして得られたアルデヒド化合物９２０η（２．２ｍｍ
０１ｅｓ）エタノール（６．５ｍ０溶液を約１５分で滴
下する。浴温−７８ル〜−２０ｍＣの間で２時間撹拌す
る。酢酸、水を加えて室温まで温度をあげ、エーテル抽
出して、エーテル層を飽和食塩水で洗滌して、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して油状物１．１２９を
得る。これをシリカゲル６０９を充填したカラムにチヤ
ージし、溶出溶媒（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１
）で溶出して上記チオフエニル化合物４７０η（４０．
４％）を得る。このものの物性値は以下に示す通りであ
る。で表わされる化合物〕の製造。
前記（３）項と同様にして得られるチオフエニル化合物
４７０〜（０．８９ｍｍ０１ｅ）を無水ジメトキシエタ
ン１４ｍ１に溶かし、５０％水素化ナトリウム４７ｍ９
（０．９８ｍｍ０１ｅ）を加える。
４７０〜（０．８９ｍｍ０１ｅ）を無水ジメトキシエタ
ン１４ｍ１に溶かし、５０％水素化ナトリウム４７ｍ９
（０．９８ｍｍ０１ｅ）を加える。
室温で３時間撹拌しエーテルを加えて飽和塩化アンモニ
ウム水、飽和食塩水で洗滌し芒硝乾燥後、減圧濃縮して
３４０ηの油状物を得る。（このものは、目的化合物の
５位の立体異性体の混合物である。
ウム水、飽和食塩水で洗滌し芒硝乾燥後、減圧濃縮して
３４０ηの油状物を得る。（このものは、目的化合物の
５位の立体異性体の混合物である。
）この油状物をシリカゲル１５ｇを充填したカラムにチ
ヤージし、溶出溶媒〔ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：
１（容量比）〕で溶出すると、２種類の異性体が得られ
る。
ヤージし、溶出溶媒〔ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：
１（容量比）〕で溶出すると、２種類の異性体が得られ
る。
これらは夫々以下の物性値を有しており、目的化合物の
低極件混件休Ａ′（ＳＣ６Ｈ５の配置が６位、７位の水
素の配量と同じもの）と、より高極性の異性体Ｂ′（Ｓ
Ｃ６Ｈ，の配置が６位、７位の水素の配置と逆のもの）
と同定した。
低極件混件休Ａ′（ＳＣ６Ｈ５の配置が６位、７位の水
素の配量と同じもの）と、より高極性の異性体Ｂ′（Ｓ
Ｃ６Ｈ，の配置が６位、７位の水素の配置と逆のもの）
と同定した。
低極性異性体Ａ’収量：８０ｍｙ（収率９．７％）１７
２５，１６４０ ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ３）Ｐｐｍ：７．２４〜７．５６（
５Ｈ，ｍ），６．２１（ ＩＨ，ｄ−Ｄ，Ｊ＝３．０，
５．５Ｈｚ），５．０６（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝ ５Ｈｚ），
３．６５（ＩＨ，ｄ−Ｄ，Ｊ＝５，１１Ｈｚ），３．１
９（ ＩＨ，ｄ−ｄ−Ｄ，Ｊ＝５．５，１１，１１Ｈｚ
），２．７４（ＩＨ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．５，５．５，１
９Ｈｚ），２．２９（ ＩＨ，ｄ−ｄ−Ｄ，Ｊ＝３，１
１，１９Ｈｚ），１．５０（ Ｓ，９Ｈ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）：３７２（Ｍｆ） 高極性異性体Ｂ’収量１２５７７Ｖｉ７（収率１５．２
％）工ＲｖＣＨＣ′３（訓−１）：２１２０，１７９０
，ｍａＸ １７２０，１６３０ Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）：３７２（Ｍ゛） ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ３）Ｐｐｍ： ７．２０〜７．５２
（ ５Ｈ，ｍ），６．１２（ＩＨ，ｄ− Ｄ，Ｊ＝ ３
．５，４．５Ｈｚ），４．９８（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝ ５Ｈ
ｚ），３．９９（ＩＨ，ｄ−Ｄ，Ｊ＝ ２５，５．０Ｈ
ｚ），３．８２（ＩＨ，ｍ），２．５８〜２．７０（２
Ｈ，ｍ），１．５４（９Ｈ，ｓ）（５） （±）シス一
２ −１−ブチルオキシカルボニル−５−Jャtエニル
スルフイニルーJメ[アジド一１−アザビシクロ〔４，２
，０〕オクト一２−ニン一８−オンＡの製造。
２５，１６４０ ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ３）Ｐｐｍ：７．２４〜７．５６（
５Ｈ，ｍ），６．２１（ ＩＨ，ｄ−Ｄ，Ｊ＝３．０，
５．５Ｈｚ），５．０６（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝ ５Ｈｚ），
３．６５（ＩＨ，ｄ−Ｄ，Ｊ＝５，１１Ｈｚ），３．１
９（ ＩＨ，ｄ−ｄ−Ｄ，Ｊ＝５．５，１１，１１Ｈｚ
），２．７４（ＩＨ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．５，５．５，１
９Ｈｚ），２．２９（ ＩＨ，ｄ−ｄ−Ｄ，Ｊ＝３，１
１，１９Ｈｚ），１．５０（ Ｓ，９Ｈ） Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）：３７２（Ｍｆ） 高極性異性体Ｂ’収量１２５７７Ｖｉ７（収率１５．２
％）工ＲｖＣＨＣ′３（訓−１）：２１２０，１７９０
，ｍａＸ １７２０，１６３０ Ｍａｓｓ（ｍ／ｅ）：３７２（Ｍ゛） ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ３）Ｐｐｍ： ７．２０〜７．５２
（ ５Ｈ，ｍ），６．１２（ＩＨ，ｄ− Ｄ，Ｊ＝ ３
．５，４．５Ｈｚ），４．９８（ＩＨ，ｄ，Ｊ＝ ５Ｈ
ｚ），３．９９（ＩＨ，ｄ−Ｄ，Ｊ＝ ２５，５．０Ｈ
ｚ），３．８２（ＩＨ，ｍ），２．５８〜２．７０（２
Ｈ，ｍ），１．５４（９Ｈ，ｓ）（５） （±）シス一
２ −１−ブチルオキシカルボニル−５−Jャtエニル
スルフイニルーJメ[アジド一１−アザビシクロ〔４，２
，０〕オクト一２−ニン一８−オンＡの製造。
前記（４）と同様にして得られた（±）シス一２一ｔ−
ブチルオキシカルボニル−５−フエニルチオーJメ[アジ
ド一１−アザビシクロ〔４，２，０〕オクト一２−エン
一８−オンＡ’（低極性異性体）１１０？Ｎｆ７（ ０
．２９６７７！″ＭＯｌｅ）を８ｍ１のメタノールと０
．８ｍ１のベンゼンに溶解し、過沃素酸ナトリウム１４
０〜（ ０．６５５ｍｍ０１ｅ）の水溶液を加えて室温
で６０時間撹拌する。
ブチルオキシカルボニル−５−フエニルチオーJメ[アジ
ド一１−アザビシクロ〔４，２，０〕オクト一２−エン
一８−オンＡ’（低極性異性体）１１０？Ｎｆ７（ ０
．２９６７７！″ＭＯｌｅ）を８ｍ１のメタノールと０
．８ｍ１のベンゼンに溶解し、過沃素酸ナトリウム１４
０〜（ ０．６５５ｍｍ０１ｅ）の水溶液を加えて室温
で６０時間撹拌する。
反応液に水を加え、次いで塩化メチレン１５ゴを加えて
抽出し、該塩化メチレン溶液を無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧濃縮すると１０５〜の油状物が得られる。
抽出し、該塩化メチレン溶液を無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧濃縮すると１０５〜の油状物が得られる。
このものの物性値は以下に示す通りで、目的の（Ｄシス
一２−ｔ−ブチルオキシカルボニル−５−フエニルスル
フイニルーJメ[アジド一１−アザビシクロ〔４，２，０
〕オクト一２−エン一８−オンＡと同定した。ＩＲνＣ
ＨＣ′ ３（（Ｖ７！−１）：２１３０，１７９０，ｍ
ａｘ１７２５，１６４０，１０５０ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）Ｐｐｍ：７．５５（ ５Ｈ，ｍ），６
．３０（ＩＨ，ｍ），５．２７（０．５，ｄ，Ｊ＝ ５
Ｈｚ），４．７８（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝ ５Ｈｚ），４
．０７（ＩＨ，ｄ一 Ｄ，Ｊ＝ ５，１０Ｈｚ），２．
４０〜 ３．００（２Ｈ，ｍ）（６）（±）−シス一
２ − ｔ −ブチルオキシカルボニル−５−フエニル
スルフイニルーJメ[アジド一１−アザビシクロ〔４，２
，０〕オクト一 ２ −エン一８−オンＢの製造。
一２−ｔ−ブチルオキシカルボニル−５−フエニルスル
フイニルーJメ[アジド一１−アザビシクロ〔４，２，０
〕オクト一２−エン一８−オンＡと同定した。ＩＲνＣ
ＨＣ′ ３（（Ｖ７！−１）：２１３０，１７９０，ｍ
ａｘ１７２５，１６４０，１０５０ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ３）Ｐｐｍ：７．５５（ ５Ｈ，ｍ），６
．３０（ＩＨ，ｍ），５．２７（０．５，ｄ，Ｊ＝ ５
Ｈｚ），４．７８（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝ ５Ｈｚ），４
．０７（ＩＨ，ｄ一 Ｄ，Ｊ＝ ５，１０Ｈｚ），２．
４０〜 ３．００（２Ｈ，ｍ）（６）（±）−シス一
２ − ｔ −ブチルオキシカルボニル−５−フエニル
スルフイニルーJメ[アジド一１−アザビシクロ〔４，２
，０〕オクト一 ２ −エン一８−オンＢの製造。
前記（４）項と同様にして得られた（±）シス一２−
ｔ −ブチルオサシカルボニル一５−フエニルチオーJ
メ[アジド一１−アザビシクロ〔４，２，０〕オクト一
２−エン一８−オンＢ’（高極性異性体）１．０３１（
２．７７ｍｍ０１ｅ）をメタノール８０ｍ１に溶解し
、メタ過沃素酸ナトリウム１．３９（ ６．１ｍｍ０１
ｅ）の２０ｍ１水溶液を加えて室温で７８時間撹拌し、
水８０ｍ１を加えクロロホルム１５０ｍ１で２回抽出し
、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧留去すると目的化合物
が１．００１（収率９３．１％）得られる。
ｔ −ブチルオサシカルボニル一５−フエニルチオーJ
メ[アジド一１−アザビシクロ〔４，２，０〕オクト一
２−エン一８−オンＢ’（高極性異性体）１．０３１（
２．７７ｍｍ０１ｅ）をメタノール８０ｍ１に溶解し
、メタ過沃素酸ナトリウム１．３９（ ６．１ｍｍ０１
ｅ）の２０ｍ１水溶液を加えて室温で７８時間撹拌し、
水８０ｍ１を加えクロロホルム１５０ｍ１で２回抽出し
、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧留去すると目的化合物
が１．００１（収率９３．１％）得られる。
ＩＲｖＣＨＣ’３（ＣＴｎ−１ ）：２１２０，１７９
０，ｍａｘ１ ７２０，１６３０，１０３０
０，ｍａｘ１ ７２０，１６３０，１０３０
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘはアミノ基またはアジド基を表し、Ｒは水素
原子またはアルキル基を示す）で表されるセフアロスポ
リン類縁体およびその塩。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53076901A JPS5936914B2 (ja) | 1978-06-24 | 1978-06-24 | セフアロスポリン類縁体 |
| NO790955A NO790955L (no) | 1978-03-25 | 1979-03-21 | Cefalosporin-analoge karbacefemforbindelser og fremgangsmaate til fremstilling derav |
| DK119979A DK119979A (da) | 1978-03-25 | 1979-03-23 | Cephalosporinanloge og fremgangsmaade til fremstilling deraf |
| AU48085/79A AU4808579A (en) | 1978-06-24 | 1979-06-14 | Cephalosporin analogs |
| DE7979102069T DE2965032D1 (en) | 1978-06-24 | 1979-06-22 | Beta-lactam compounds |
| EP79102069A EP0006589B1 (en) | 1978-06-24 | 1979-06-22 | Beta-lactam compounds |
| AR277010A AR224248A1 (es) | 1978-06-24 | 1979-06-22 | Analogos de cefalosporina |
| US06/051,758 US4343943A (en) | 1978-06-24 | 1979-06-25 | Cephalosporin analogs |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53076901A JPS5936914B2 (ja) | 1978-06-24 | 1978-06-24 | セフアロスポリン類縁体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS554337A JPS554337A (en) | 1980-01-12 |
| JPS5936914B2 true JPS5936914B2 (ja) | 1984-09-06 |
Family
ID=13618558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53076901A Expired JPS5936914B2 (ja) | 1978-03-25 | 1978-06-24 | セフアロスポリン類縁体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4343943A (ja) |
| EP (1) | EP0006589B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5936914B2 (ja) |
| AR (1) | AR224248A1 (ja) |
| AU (1) | AU4808579A (ja) |
| DE (1) | DE2965032D1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60154440U (ja) * | 1984-03-27 | 1985-10-15 | 富士精工株式会社 | 草植マツト |
| JPS61180233U (ja) * | 1985-04-23 | 1986-11-10 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5874680A (ja) * | 1981-10-01 | 1983-05-06 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | β−ラクタム化合物 |
| US5128336A (en) * | 1988-03-23 | 1992-07-07 | Eli Lilly And Company | 3-(substituted)-1-carba(dethia)-3-cephems |
| US4820832A (en) * | 1988-03-23 | 1989-04-11 | Eli Lilly And Company | Process for preparing 3-unsubstituted cephalosporins and 1-carba(dethia)cephalosporins |
| US4939249A (en) * | 1988-09-16 | 1990-07-03 | Eli Lilly And Company | Process for 1-carba(dethia) cephalosporins |
| JP2534318Y2 (ja) * | 1995-03-31 | 1997-04-30 | ヤンマーディーゼル株式会社 | 耕深自動制御装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL178005C (nl) * | 1972-11-06 | 1986-01-02 | Merck & Co Inc | Werkwijze voor het bereiden van een farmaceutisch preparaat met antibacteriele werking, alsmede werkwijze ter bereiding van een cefalosporine-antibioticum. |
| SE7407486L (sv) * | 1974-06-06 | 1975-12-08 | Astra Laekemedel Ab | Nya kemiska mellanprodukter |
| US4011216A (en) * | 1975-04-11 | 1977-03-08 | Bristol-Myers Company | Δ2,3-0-2-Isocephem-4-carboxylic acid and derivatives thereof as antibacterial agents |
| DE2714880A1 (de) * | 1977-04-02 | 1978-10-26 | Hoechst Ag | Cephemderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
-
1978
- 1978-06-24 JP JP53076901A patent/JPS5936914B2/ja not_active Expired
-
1979
- 1979-06-14 AU AU48085/79A patent/AU4808579A/en not_active Abandoned
- 1979-06-22 DE DE7979102069T patent/DE2965032D1/de not_active Expired
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- 1979-06-25 US US06/051,758 patent/US4343943A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60154440U (ja) * | 1984-03-27 | 1985-10-15 | 富士精工株式会社 | 草植マツト |
| JPS61180233U (ja) * | 1985-04-23 | 1986-11-10 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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