JPS5934689B2 - ６−メチル−２、３、４−トリメトキシ−フエノ−ルの製法 - Google Patents
６−メチル−２、３、４−トリメトキシ−フエノ−ルの製法Info
- Publication number
- JPS5934689B2 JPS5934689B2 JP11639875A JP11639875A JPS5934689B2 JP S5934689 B2 JPS5934689 B2 JP S5934689B2 JP 11639875 A JP11639875 A JP 11639875A JP 11639875 A JP11639875 A JP 11639875A JP S5934689 B2 JPS5934689 B2 JP S5934689B2
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- trimethoxy
- trimethoxyphenol
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Description
【発明の詳細な説明】
（工程口）
本発明は、６−メチルー２．３、４−トリメトキシ−フ
ェノールの新規な製法に関するものである。
ェノールの新規な製法に関するものである。
本発明の方法により得られる６−メチルー２、３、４−
トリメトキシ−フェノールは補酵素Ｑｌｏ合成の中間体
である２、３−ジメトキシー５−メチルー １、４−ベ
ンゾキノンの原料として価値のある化合物である（特公
昭４９−２８５０３参照）。６−メチルー ２、３、４
−トリメトキシ−フェノールの製法としては次の特公昭
４９−４８９３７号の方法が知られている。
トリメトキシ−フェノールは補酵素Ｑｌｏ合成の中間体
である２、３−ジメトキシー５−メチルー １、４−ベ
ンゾキノンの原料として価値のある化合物である（特公
昭４９−２８５０３参照）。６−メチルー ２、３、４
−トリメトキシ−フェノールの製法としては次の特公昭
４９−４８９３７号の方法が知られている。
本方法は次の２工程よりなる。（工程イ）
２、３、４−−トリメトキシ−フェノールに二硫化炭素
、ホルムアルデヒド、ジメチルアミンを反応させて６−
（Ｎ、Ｎ−ジメチルージチオカルバモイル）−メチルー
２、３、４−トリメトキシ−フェノールを得る（次式
）。
、ホルムアルデヒド、ジメチルアミンを反応させて６−
（Ｎ、Ｎ−ジメチルージチオカルバモイル）−メチルー
２、３、４−トリメトキシ−フェノールを得る（次式
）。
工程イで得た６−（Ｎ、Ｎ−ジメチルージチオカルバモ
イル）−メチル−２，３，４−トリメトキシーフエノー
ルをラネーニツケルで還元して目的とする６−メチル−
２，３，４−トリメトキシーフエノールを得る（次式）
。
イル）−メチル−２，３，４−トリメトキシーフエノー
ルをラネーニツケルで還元して目的とする６−メチル−
２，３，４−トリメトキシーフエノールを得る（次式）
。
この方法には次の如き欠点がある〇
１）工程イ、工程口とも反応操作に長時間を要する事〇
２）工程イのＮ，Ｎ−ジメチルージチオカルバモイルメ
チル基の導入のための反応の条件および操作が煩雑であ
る事〇３）工程口のラネーニツケル触媒使用に際して乾
燥溶媒を使用しなければならない等の煩雑な条件が必要
である事〇本発明者等はこれらの欠点を解除して目的と
する６−メチル−２，３，４−トリメトキシーフエノー
ルをより工業的に得るための方法を探索し、本発明の方
法に到達した〇本発明の方法は次の２工程よりなる０即
ち、工工程１：２−ハイドロオキシ−３，４，５−トリ
メトキシ−安息香酸にクロル炭酸低級アルキルエステル
を反応させて式（１）（式中Ｒは前記の意味を表わす） で表わされる混合酸無水物〔化学名：低級アルコキシカ
ルボニル一（２一低級アルコキシカルボニルオキシ−３
，４，５−トリメトキシ）−ベンゾエート〕とする工程
および工程２： 工程１で得られた混合酸無水物を水素化硼素系還元剤で
処理して６−メチル−２，３，４−トリメトキシーフエ
ノールとする工程からなる０工程１の混合酸無水物（１
）の調製は通常の混合酸無水物調製法〔例えばＪ．Ｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．２２，２４５（１９５７）参照〕を採用
して行なう事ができる。
２）工程イのＮ，Ｎ−ジメチルージチオカルバモイルメ
チル基の導入のための反応の条件および操作が煩雑であ
る事〇３）工程口のラネーニツケル触媒使用に際して乾
燥溶媒を使用しなければならない等の煩雑な条件が必要
である事〇本発明者等はこれらの欠点を解除して目的と
する６−メチル−２，３，４−トリメトキシーフエノー
ルをより工業的に得るための方法を探索し、本発明の方
法に到達した〇本発明の方法は次の２工程よりなる０即
ち、工工程１：２−ハイドロオキシ−３，４，５−トリ
メトキシ−安息香酸にクロル炭酸低級アルキルエステル
を反応させて式（１）（式中Ｒは前記の意味を表わす） で表わされる混合酸無水物〔化学名：低級アルコキシカ
ルボニル一（２一低級アルコキシカルボニルオキシ−３
，４，５−トリメトキシ）−ベンゾエート〕とする工程
および工程２： 工程１で得られた混合酸無水物を水素化硼素系還元剤で
処理して６−メチル−２，３，４−トリメトキシーフエ
ノールとする工程からなる０工程１の混合酸無水物（１
）の調製は通常の混合酸無水物調製法〔例えばＪ．Ｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．２２，２４５（１９５７）参照〕を採用
して行なう事ができる。
クロル炭酸低級アルキルエステルとしては通常クロル炭
酸エチルエステルが、脱酸剤としては通常トリエチルア
ミンが使用される。また反応溶媒としては醋酸エチルエ
ステル、テトラハイドロフラン等が使用される。得られ
た混合酸無水物（１）は比較的不安定な物質であるので
、反応混合物から単離することなく直ちに次の工程に移
行させるのが望ましい〇工程２は還元反応であるが、水
素化硼素系還元剤としては通常水素化硼素ナトリウム、
水素化硼素カリウム、水素化硼素カルシウム等が用いら
れるｏ反応溶媒としてはテトラハイドロフラン、含水イ
ソプロパノール等が用いられる。本発明の方法を行なう
事により、反応操作に要する時間が工程１，２を通して
３〜５時間と大幅に短縮した。
酸エチルエステルが、脱酸剤としては通常トリエチルア
ミンが使用される。また反応溶媒としては醋酸エチルエ
ステル、テトラハイドロフラン等が使用される。得られ
た混合酸無水物（１）は比較的不安定な物質であるので
、反応混合物から単離することなく直ちに次の工程に移
行させるのが望ましい〇工程２は還元反応であるが、水
素化硼素系還元剤としては通常水素化硼素ナトリウム、
水素化硼素カリウム、水素化硼素カルシウム等が用いら
れるｏ反応溶媒としてはテトラハイドロフラン、含水イ
ソプロパノール等が用いられる。本発明の方法を行なう
事により、反応操作に要する時間が工程１，２を通して
３〜５時間と大幅に短縮した。
また工程１の混合酸無水物は容易に得る事ができ、更に
工程２の還元操作で還元剤として水素化硼素系還元剤を
使用する事が可能なので溶媒の脱水化等の操作は不要で
ある〇次に実施例により本発明を説明する。
工程２の還元操作で還元剤として水素化硼素系還元剤を
使用する事が可能なので溶媒の脱水化等の操作は不要で
ある〇次に実施例により本発明を説明する。
実施例 １〕
６−メチル−２，３，４−トリメトキシーフエノールの
合成ａ）エトキシカルボニル一（２−エトキシカルボニ
ルオキシ−３，４，５−トリメトキシ）−ベンゾエート
の合成２−ハイドロオキシ−３，４，５−トリメトキシ
安息香酸４５．６９を醋酸エチルエステル２００ｄに溶
解し、攪拌下トリメチルアミン４４９を加え、後３０℃
以下にてクロル炭酸エチル４７．２ｙを滴下した０次い
で室温にて３０分間攪拌後、氷水２００ｄ中に注ぎ有機
層を分取した０有機層をＮａ２ｓＯ４乾燥後濃縮し、黄
色油状物７４９を得た〇この油状物をシリカゲル１，０
００ｆ１１溶出溶媒としてベンゼン一ｎ−ヘキサンの混
合液を用いてカラムクロマトを行なつて精製し、６４９
の無色透明油状物を得た（収率８６％）。
合成ａ）エトキシカルボニル一（２−エトキシカルボニ
ルオキシ−３，４，５−トリメトキシ）−ベンゾエート
の合成２−ハイドロオキシ−３，４，５−トリメトキシ
安息香酸４５．６９を醋酸エチルエステル２００ｄに溶
解し、攪拌下トリメチルアミン４４９を加え、後３０℃
以下にてクロル炭酸エチル４７．２ｙを滴下した０次い
で室温にて３０分間攪拌後、氷水２００ｄ中に注ぎ有機
層を分取した０有機層をＮａ２ｓＯ４乾燥後濃縮し、黄
色油状物７４９を得た〇この油状物をシリカゲル１，０
００ｆ１１溶出溶媒としてベンゼン一ｎ−ヘキサンの混
合液を用いてカラムクロマトを行なつて精製し、６４９
の無色透明油状物を得た（収率８６％）。
ｂ）６−メチル−２，３，４−トリメトキシーフエノー
ルの合成ａ）の方法によつて得たエトキシカルボニル一
（２−エトキシカルボニルオキシ−３，４，５−トリメ
トキシ）−ベンゾエート４７．０９をイソプロパノール
２００！Ｎｌｌ水１００ｉＩＬ１からなる溶媒に溶解し
、これに攪拌下、２０〜２６℃に保ちながら、ＮａＢＨ
４ｌ５．Ｏ９を水５０．０ｄに溶解した溶液を滴下した
０滴下終了後、攪拌を継続して反応を完結したのち反応
混合物に水１００ｄを加え、次いでベンゼン４００１Ｌ
ｅで抽出を行なつた０ベンゼン抽出区分を水１００ｄで
洗滌したのち、５（ｆ）苛性ソーダ水溶液２００ｄで抽
出し、苛性ソーダ水溶液抽出区分をベンゼン１００ｄに
て洗滌、濃塩酸を加えて液性を酸性とし、ベンゼン抽出
した０ベンゼン抽出区分を水洗し、芒硝で乾燥したのち
、ベンゼン留去し淡褐色油状物２２．９９を得た０収率
９１．５％本品は冷暗所に保存して結晶化させた〇融点
２５．０〜２６．３晶Ｃ 元素分析値 ＣｌＯＨｌ４Ｏ４として 実施例 ２〕 ６−メチル−２，３，４−トリメトキシーフエノールの
合成２−ハイドロオキシ−３，４，５−トリメトキシ−
安息香酸２１．７９、トリエチルアミン２４．３９をテ
トラハイドロフラン１５０！！Ｌｅに溶解して得た溶液
に、５℃以下に冷却下にクロル炭酸エチルエステル２６
．１９を４０分を要して滴下した０滴下終了後１時間３
０分攪拌し、反応を完結せしめた〇反応混合物を済過し
、淵過物はテトラハイドロフランで洗滌し、洗液は先の
戸液と合し、水、重炭酸ソーダ水溶液で順次洗滌した後
、溶媒を減圧留去して褐色粘稠物質３５ｆ！を得、精製
する事なく実施例１〕ｂ）に従つて処理し、淡黄色油状
物１６．３９を得た。
ルの合成ａ）の方法によつて得たエトキシカルボニル一
（２−エトキシカルボニルオキシ−３，４，５−トリメ
トキシ）−ベンゾエート４７．０９をイソプロパノール
２００！Ｎｌｌ水１００ｉＩＬ１からなる溶媒に溶解し
、これに攪拌下、２０〜２６℃に保ちながら、ＮａＢＨ
４ｌ５．Ｏ９を水５０．０ｄに溶解した溶液を滴下した
０滴下終了後、攪拌を継続して反応を完結したのち反応
混合物に水１００ｄを加え、次いでベンゼン４００１Ｌ
ｅで抽出を行なつた０ベンゼン抽出区分を水１００ｄで
洗滌したのち、５（ｆ）苛性ソーダ水溶液２００ｄで抽
出し、苛性ソーダ水溶液抽出区分をベンゼン１００ｄに
て洗滌、濃塩酸を加えて液性を酸性とし、ベンゼン抽出
した０ベンゼン抽出区分を水洗し、芒硝で乾燥したのち
、ベンゼン留去し淡褐色油状物２２．９９を得た０収率
９１．５％本品は冷暗所に保存して結晶化させた〇融点
２５．０〜２６．３晶Ｃ 元素分析値 ＣｌＯＨｌ４Ｏ４として 実施例 ２〕 ６−メチル−２，３，４−トリメトキシーフエノールの
合成２−ハイドロオキシ−３，４，５−トリメトキシ−
安息香酸２１．７９、トリエチルアミン２４．３９をテ
トラハイドロフラン１５０！！Ｌｅに溶解して得た溶液
に、５℃以下に冷却下にクロル炭酸エチルエステル２６
．１９を４０分を要して滴下した０滴下終了後１時間３
０分攪拌し、反応を完結せしめた〇反応混合物を済過し
、淵過物はテトラハイドロフランで洗滌し、洗液は先の
戸液と合し、水、重炭酸ソーダ水溶液で順次洗滌した後
、溶媒を減圧留去して褐色粘稠物質３５ｆ！を得、精製
する事なく実施例１〕ｂ）に従つて処理し、淡黄色油状
物１６．３９を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ２−ハイドロオキシ−３，４，５−トリメトキシ−
安息香酸にクロル炭酸低級アルキルエステルを反応させ
て得られる式▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒは低級アルキル基を表わす。 ）で表わされる混合酸無水物となし、これを水素化硼素
系還元剤で処理する事を特徴とする、６−メチル−２，
３，４−トリメトキシ−フェノールの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11639875A JPS5934689B2 (ja) | 1975-09-29 | 1975-09-29 | ６−メチル−２、３、４−トリメトキシ−フエノ−ルの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11639875A JPS5934689B2 (ja) | 1975-09-29 | 1975-09-29 | ６−メチル−２、３、４−トリメトキシ−フエノ−ルの製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5242835A JPS5242835A (en) | 1977-04-04 |
| JPS5934689B2 true JPS5934689B2 (ja) | 1984-08-24 |
Family
ID=14686043
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11639875A Expired JPS5934689B2 (ja) | 1975-09-29 | 1975-09-29 | ６−メチル−２、３、４−トリメトキシ−フエノ−ルの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5934689B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5710868Y2 (ja) * | 1979-01-25 | 1982-03-03 |
-
1975
- 1975-09-29 JP JP11639875A patent/JPS5934689B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5242835A (en) | 1977-04-04 |
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