JPS5933674B2 - 白色パラジウム用のめつき浴及びその方法 - Google Patents

白色パラジウム用のめつき浴及びその方法

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JPS5933674B2
JPS5933674B2 JP56204477A JP20447781A JPS5933674B2 JP S5933674 B2 JPS5933674 B2 JP S5933674B2 JP 56204477 A JP56204477 A JP 56204477A JP 20447781 A JP20447781 A JP 20447781A JP S5933674 B2 JPS5933674 B2 JP S5933674B2
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palladium
brightener
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inorganic
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キヤスリ−ン・ビ−・ミスシオシオ
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Occidental Chemical Corp
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/50Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals

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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は各種の素地表面上に白色ノゞラジウム金属を
析出せしめるためのめつき浴に関する。
特にはこの発明は白色ノ々ラジウム金属薄層皮膜を生ぜ
しめるためのめつき浴に関する。周知のように通常のパ
ラジウム浴を用いると灰色の皮膜が生ずる。
一方で装飾品工業分野において極めて有用な白色皮膜を
生成せしめるためのロジウムめつき浴が知られている。
ロジウムの価格がパラジウムに比較して高いので、現用
せられているロジウム仕上げに代替できるようなパラジ
ウムめつき浴からの白色仕上げが得られることが望まし
い。従来の試みによれば白色のパラジウム金属皮膜は通
常の白色ロジウム皮膜に対する代替としては皮膜の白色
度が十分ではないために不成功に終わつていた。薄層で
白色のパラジウム金属皮膜が容易に得られるならば商業
的な目的に対してもまた有意義である〇1885年発行
の米国特許第3301495号においては6白色パラジ
ウム皮膜の生成法゛が記載せられている。
Piletらによるこのめつき浴は塩化パラジウム、リ
ン酸アンモニウム、リン酸ナトリウム又はアンモニア、
及び、必要に応じて安息香酸を含有していた。アンモニ
アは揮散するのでアルカリ性であつた浴は僅かに酸性に
変わることが記載されているがこの浴の操作PHについ
ては言及せられていない。安息香酸の使用は任意ではあ
るが安息香酸を用いるとこれが皮膜を漂白し鉄及び鋼表
面上に対するストライク性を高めることが記載せられて
いる。金属生地上へのパラジウム又はパラジウム合金皮
膜の光沢性を改良するためのめつき浴は当該分野におい
て、又公知である。
たとえば1978年発行の米国特許第4098656号
がそれである。この特許中には第一種及び第二種両方の
有機光沢剤を浴中に用いてPHを4.5ないし12の範
囲に調節することにより光沢性が改良せられることが記
載せられている。添付の図面にはこの発明のパラジウム
皮膜の白色度を従来技術のそれと比較したグラフが示さ
れている。
この発明に従えば浴可溶性のパラジウム源及びある種の
他の成分を含有する極めて特殊なめつき浴を用いること
により、薄層で、白色のノマラジウム金属皮膜が容易に
得られることが発見された。
かかる成分は硫酸アンモニウム又は塩化アンモニウムの
ような浴可溶性導電性アンモニウム塩;塩素イオン;有
機及び無機光沢剤の部類から選ばれた一種の光沢剤、好
ましくは有機及び無機光沢剤を併用した光沢剤を包含す
る。この系に水酸化アンモニウムも又添加されうるが、
これは必ずしも当該発明の必須条件ではない。
当該発明のめつき浴に用いるアンモニウム塩は電解質又
は導電性塩としての役割を果すことが理解されよう。こ
の発明のめつき浴中のノマラジウム金属源は硝酸塩、亜
硝酸塩、塩化物、硫酸塩及び亜硫酸塩のようないかなる
アンミンパラジウム錯塩でも良い。
かかる錯塩の代表的なものはジアンミンパラジウムジ亜
硝酸塩及びアンミン第一パラジウム塩化物、好ましくは
アンミン第一パラジウム塩化物である〇めつき浴のパラ
ジウム含有量は生地上にパラジウムを析出せしめるのに
少なくとも十分であるが皮膜の暗色化を起す水準以下で
ある。典型的には、パラジウム濃度は約0,1ないし2
09/l、好ましくは約1ないし6g/lの濃度である
。導電性塩又は電解質は二塩基性リン酸アンモニウム、
硫酸アンモニウム、塩化アンモニウムその他のようない
かなる浴可溶性アンモニウム塩でもよい。
これらの塩の混合物もまた用いられる。これらアンモニ
ウム塩のめつき浴中の量は少なくともパラジウム電着を
効果的ならしめるに十分な導電性を浴に与える量、ない
し浴中への塩の最大溶解度以下の範囲である。典型的に
は、導電性アンモニウム塩は約25ないし120f!/
2、好ましくは約30ないし709/jの量において用
いられる。この発明に用いる有機光沢剤は第一種及び第
二種ニツケル光沢剤である。
当該目的に用いられうる有機光沢剤は、F.A.ロウエ
ンハイム(LOwenheim)著「モダン・エンジニ
アリング(MOdernEngineering)]、
(1963年第2版入272頁及び[メタル・フイニツ
シング・ガイドブック・アンド・デイレクトリ(Met
,]1FinishingGuidb00k&Dire
ctOry)](1973年第42版)、358頁に記
載せられている。
かかる光沢剤は米国特許第4098656号中の第1欄
、第2行ないし第2欄、第8行中に記載せられているの
で、これをここに引用する。当該目的に対して特に有用
であることが分つた有機光沢剤を次に表示する〇第一種
ニツケル光沢剤 サツカリン ナトリウムベンゼンスルホネート ベンゼンスルホンアミド フエノールスルホン酸 メチレンビス(ナフタレン)スルホン酸 第二種ニツケル光沢剤 2−ブチン一1,4−ジオール ベンズアルデヒド−0−ナトリウムカ叶ネート2−ブテ
ン−1,4−ジオールアリルスルホネート ある種の化合物は第一種及び第二種のいずれにも属する
場合があるが、当該浴への使用には影響がない。
米国特許第4098656号においてはおのおのの級か
ら少なくとも一種の光沢剤が用いられなければならない
のと違つてこの発明においては好適な結果を与えるため
にはいずれかの級からの一種類の有機光沢剤だけが用い
られなければならない。無機光沢剤は硫酸ニツケル、硫
酸アンモニウムニツケルその他及びこれらの混合物のよ
うないかなる浴可溶性ニツケル化合物でも良い。
好ましくは、有機及び無機光沢剤の双方がこの発明の浴
中に好んで用いられることがこの発明の特徴である。有
機光沢剤の使用量は約0.5ないし59/2、好ましく
は約1ないし39/lの範囲であり;無機光沢剤の量は
約0.1ないし1.09/l好ましくは約0.2ないし
0.59/2の範囲である。この発明の他の特徴によれ
ば塩化カリウム及び塩化ナトリウムに由来する塩素イオ
ンが陽極上に皮膜が形成せられるのを防止するために添
加せられる0塩化カリウムの場合には約5ないし309
/11好ましくは約10ないし209/′の量が用いら
れる。浴中の塩素イオンの量は約2.5ないし159/
2、好ましくは5ないし109/lの範囲である0過剰
の塩素イオンは浴の操作に対して悪影響がなく;かつ導
電性塩として塩化アンモニウムが用いられる場合には塩
素イオンの量は159/l以上になりうることが理解さ
れよう。この発明のめつき浴中には、薄層の白色パラジ
ウム金属皮膜の形成を阻害しない限り他の成分も含有せ
しめうる。たとえば、約0ないし50m1/′、好まし
くは5ないし15m1の水酸化アンモニウムも支障なく
含有せしめうる。このめつき浴のPHは一般的には約5
ないし10の範囲、好ましくは5ないし8以内に維持す
るが;水酸化アンモニウムを使用することによりこれ以
上のアルカリ性めつき浴も得られる。
めつき浴温は約室温ないし160′F(71.1℃)の
範囲である。過剰のアンモニアの逸散を避けるためには
めつき温度は130′11′(54.4℃)以下が好ま
しい。一般に、約50ないし122′F(10℃ないし
50.0℃)の操作温度が適用される。電流密度は約0
.1ないし50ASF(0.01ないし5.0A/Dm
2)が当該目的に対して好ましい。ラツクめつきにおい
ては電流密度2ないし20(0.2ないし2A/Dm2
)が適用せられる。この発明の他の特徴は白色皮膜の生
成をより確実にするためにノぐラジウムの薄層皮膜を生
成せしめることにある。従つて、この膜厚は約0.01
ないし1.0ミクロン、好ましくは0.03ないし0.
4ミクロンの範囲であるべきである。この発明の0白色
度゛特性はパーキン・エルマ一(Perkin−Eln
ler)559分光光度計を用いて、かつ表面の不完全
性を補うために0.0127關の銅及び0.01271
1のニツケルによりあらかじめめつきした2.5cmX
2.5cTn試験片一以後二ツケルメツキ試験片と称す
る一上に試験皮膜をめつきして分光光度法により白色光
反射を測定することを利用して定量化できる0これらの
試験片の白色光反射を酸化マグネシウム標準板と対比し
て400ないし700ナノメートル(Nm)の透過度に
おいて走査した。
ついで、試料皮膜の走査結果をロジウム皮膜の類似の走
査結果と比較した。この発明による好ましいめつき浴は
次のようである:この発明は次に記載する実施例を参照
することにより良く理解されよう。
特記しない限り温度は℃である。実施例 1 次の成分を水に溶解することによりパラジウム電解溶液
を調製した:浴温45射−55℃及び電硫密度10−2
0ASF(1.0−2.2A/Dm2)のめつき操作条
件下においてニツケルめつき試験片上に0.25ないし
0.35ミクロン厚を有する白色パラジウムめつきを生
成せしめる際のめつき浴のPHは5.5ないし7であつ
た。
実施例 2 実施例1に若干似かよつためつき浴を次のように調製し
た:浴温50℃、電流密度4−15ASF(0,4−1
.6A/Dm2)におけるめつき操作条件下においてニ
ツケルめつき試,験片上に0.25ないし0,35ミク
ロン厚を有する白色パラジウムめつきを生成せしめる際
のめつき浴のPHは5.5ないし7であつた。
次表において実施例1及び2のニツケルめつき試験片上
へのパラジウム皮膜の白色反射率をニツケルめつき試験
片上へのロジウム皮膜並びに米国特許第4098656
号及び米国特許第330149号(l頁、7Jヨ黷P02
行及び2頁、1−8行)の実施例3による皮膜と比較対
照した。
前記米国特許による皮膜厚は0.25ないし0.35ミ
クロンであつた。パーキンエルマ一及び前記の試験方法
を用いた。これらのデーターはこの発明によるめつき溶
が白色反射率に関して前記米国特許によるいずれの方法
と比較しても著しく改善せられたパラジウム金属皮膜を
生成せしめうることを示している。
肉眼による白色度のこの差異は商業的な応用に際して合
格か又は不合格かの差異に相当する。添付図表に示され
るように前記のデーターを波長に対する反射率%として
プロツトすると得られたグラフは更にこの発明及び従来
法により遂行せられた結果についての差異が一層明瞭に
なる。
走査電子顕微鏡マイクログラフを実施例1において生成
した皮膜並びに前記米国特許による方法により生じた皮
膜について作成した。これらのミクログラフによれば米
国特許第3301495号の皮膜は著しいデンドライト
形析出物が見られ粗雑な表面を有していた。米国特許第
4098656号の皮膜は米国特許第3301495号
の皮膜よりもデンドライト形析出物の生成は少なかつた
が、なおその表面は著しく粗雑であつた。対照的に実施
例1による皮膜は米国特許第4098656号によるも
のよりもテンドライト形析出物が著しく少なくより平滑
であつた。この事はこの発明によつて生ずる皮膜の優位
性を示すと同時に皮膜の平滑度とその白色光反射率間の
相関を示している。上記した実施例は単に説明の目的の
ものであり、この光明による広義の提案から逸脱するこ
となしに種々の変行、変態がなしうることは理解されよ
う。
【図面の簡単な説明】 図は本発明にかかわる反射率%と波長との相関を示した
ものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 パラジウムとして0.1〜20g/lの浴可溶性パ
    ラジウム源、25〜120g/lの浴可溶性導電性アン
    モニウム塩、2.5〜15g/lの塩素イオン、1〜3
    g/lの有機光沢剤及び0.2〜0.5g/lの無機光
    沢剤及び0.2〜0.5g/lの無機光沢剤とから成る
    薄層で白色のパラジウム皮膜電着用めつき浴。 2 有機光沢剤がベンズアルデヒド−o−スルホン酸ナ
    トリウムであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
    に記載のめつき浴。 3 無機光沢剤が硫酸ニッケルであることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 4 無機光沢剤が硫酸アンモニウムニッケルであること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 5 パラジウムとして0.1〜20g/lの浴可溶性パ
    ラジウム源、25〜120g/lの浴可溶性導電性アン
    モニウム塩、2.5〜15g/lの塩素イオン、1〜3
    g/lの有機光沢剤及び0.2〜0.5g/lの無機光
    沢剤とから成る薄層で白色のパラジウム皮膜電着用めつ
    き浴を用いて、浴のpH5〜10、室温ないし160°
    F(71℃)、電流密度0.01〜5.0A/Dm^2
    において陽極と陰極間に十分な時間帯に亘つて通電し、
    膜厚0.01〜1.0ミクロンのパラジウムめつきを素
    地上に生成せしめる方法。 6 有機光沢剤がベンズアルデヒド−o−スルホン酸ナ
    トリウムであることを特徴とする特許請求の範囲第5項
    に記載のめつき方法。 7 無機光沢剤が硫酸ニッケルであることを特徴とする
    特許請求の範囲第5項に記載のめつき方法。 8 無機光沢剤が硫酸アンモニウムニッケルであること
    を特徴とする特許請求の範囲第5項に記載のめつき方法
JP56204477A 1980-12-17 1981-12-17 白色パラジウム用のめつき浴及びその方法 Expired JPS5933674B2 (ja)

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US06/217,319 US4487665A (en) 1980-12-17 1980-12-17 Electroplating bath and process for white palladium

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BR (1) BR8108196A (ja)
CA (1) CA1193225A (ja)
CH (1) CH648606A5 (ja)
DE (1) DE3149043A1 (ja)
ES (1) ES8304224A1 (ja)
FR (1) FR2496127A1 (ja)
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HK (1) HK67386A (ja)
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2171721B (en) * 1985-01-25 1989-06-07 Omi Int Corp Palladium and palladium alloy plating
US4564426A (en) * 1985-04-15 1986-01-14 International Business Machines Corporation Process for the deposition of palladium-nickel alloy
US4628165A (en) * 1985-09-11 1986-12-09 Learonal, Inc. Electrical contacts and methods of making contacts by electrodeposition
DE3609309A1 (de) * 1986-03-20 1987-09-24 Duerrwaechter E Dr Doduco Bad zum elektrolytischen abscheiden von silber-palladium-legierungen
US4778574A (en) * 1987-09-14 1988-10-18 American Chemical & Refining Company, Inc. Amine-containing bath for electroplating palladium
US5024733A (en) * 1989-08-29 1991-06-18 At&T Bell Laboratories Palladium alloy electroplating process
US4911799A (en) * 1989-08-29 1990-03-27 At&T Bell Laboratories Electrodeposition of palladium films
US5415685A (en) * 1993-08-16 1995-05-16 Enthone-Omi Inc. Electroplating bath and process for white palladium
DE102010011269B4 (de) * 2009-11-10 2014-02-13 Ami Doduco Gmbh Verfahren zum Abscheiden einer für das Drahtbonden geeigneten Palladiumschicht auf Leiterbahnen einer Schaltungsträgerplatte und Verwendung eines Palladiumbades in dem Verfahren

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3458409A (en) * 1964-10-12 1969-07-29 Shinichi Hayashi Method and electrolyte for thick,brilliant plating of palladium
JPS4733176B1 (ja) * 1967-01-11 1972-08-23
CH572989A5 (ja) * 1973-04-27 1976-02-27 Oxy Metal Industries Corp
US3925170A (en) * 1974-01-23 1975-12-09 American Chem & Refining Co Method and composition for producing bright palladium electrodepositions
US3972787A (en) * 1974-06-14 1976-08-03 Lea-Ronal, Inc. Palladium electrolyte baths utilizing quaternized pyridine compounds as brighteners
US4098656A (en) * 1976-03-11 1978-07-04 Oxy Metal Industries Corporation Bright palladium electroplating baths
US4066517A (en) * 1976-03-11 1978-01-03 Oxy Metal Industries Corporation Electrodeposition of palladium
DE2839360C2 (de) * 1978-09-09 1982-11-04 Oxy Metal Industries Corp., Detroit, Mich. Wäßriges Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden Überzügen aus Palladium oder seinen Legierungen
US4297177A (en) * 1980-09-19 1981-10-27 American Chemical & Refining Company Incorporated Method and composition for electrodepositing palladium/nickel alloys

Also Published As

Publication number Publication date
CH648606A5 (de) 1985-03-29
SE8106869L (sv) 1982-06-18
DE3149043A1 (de) 1982-07-15
GB2090868B (en) 1984-02-08
MX158963A (es) 1989-04-04
BR8108196A (pt) 1982-09-28
FR2496127A1 (fr) 1982-06-18
ES508039A0 (es) 1983-02-16
US4487665A (en) 1984-12-11
GB2090868A (en) 1982-07-21
HK67386A (en) 1986-09-18
JPS57126990A (en) 1982-08-06
AU529986B2 (en) 1983-06-30
IT8149863A0 (it) 1981-12-09
CA1193225A (en) 1985-09-10
AT375966B (de) 1984-09-25
ES8304224A1 (es) 1983-02-16
AU7765281A (en) 1982-06-24
ATA527581A (de) 1984-02-15

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