JPS5931500A - ステップギャップ付きアクロマティック屈曲用磁石を組み入れた照射装置および偏向装置 - Google Patents

ステップギャップ付きアクロマティック屈曲用磁石を組み入れた照射装置および偏向装置

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JPS5931500A
JPS5931500A JP57201225A JP20122582A JPS5931500A JP S5931500 A JPS5931500 A JP S5931500A JP 57201225 A JP57201225 A JP 57201225A JP 20122582 A JP20122582 A JP 20122582A JP S5931500 A JPS5931500 A JP S5931500A
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    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/08Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means
    • G21K1/093Deviation, concentration or focusing of the beam by electric or magnetic means by magnetic means

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕 本発明は、+i’i 醒粒子ビームの光字及び輸送に関
する。時に、1Jシ射森処1+ffi装(dに使用する
ために特にlli t、 ′Ir、、7クロマテインク
ビームll1fi向に関する。 〔発明の背量] アクロマチ・rツク光学系子は[t8条的医用治療伎1
、′、lに8唄なものである。そのようl冶υス艮1d
の」ユ安な符任は、比11ズ的1゛dJいビーム伸1す
とその割r叶である。マイクロ波詠形/Jl’l運命な
どの代表的;/1−176いビーム屯流の力11連器か
、安永さ7Lるビーム強度を堰成するが、エイ・ルギー
分布&J、lrLろ広い。人士でさるビームを利用する
ためVC、ビームのエネルギー分布に比枢的純感な光学
丼子を尋人することが8匁である。・符にX線装置にと
っては、X勝ターゲット上の小キナビームスボンドに強
力なビームを束中させて、そのターゲット照射領域に関
して充分に不尽いX、匈詠を得ることが望まれる。 開業用照射及び医用治療への応用におけるビーム偏間装
[6゛ば、その装置の]yI作回内し性、照射束の遮蔽
及び規準−1トびに装置f1々造の経済的考察などによ
り、機樟的及びにl!t(IIJ学的な束縛が課される
。 従来技術の1つのアクロマチイックビーム偏向装置dが
、水出jj14人に議殴さJまた米国qも許第う、a6
M55号に6己中いぎれている。この装u’4にb−い
てヒ゛−ムは、うつの−イ求磁鳴セクター1訂石及び2
つの中間ドリフト空間企イjl’r切0.2−/ 0の
lLi1回金受けてX線ターゲットに入射する。セクタ
ー磁石ボールは、セクター角度に関1.て正1.1[i
に背気j 64’ 、る。′6セノメー及び糊付形状の
分II′6に1.)」するビームの入射角及び射出角が
、l++Ii回11tの入射及び射出頑」或だけで4〈
中間の空間も占めることになり゛、4aj易のないドリ
フトη′間紫1j; l’1llJ−る、この装置■の
・曲1七を発揮させ6 /”cめに、lllJ回、(沙
の7’j7 H511品の内Fili 411互整合が
必須であろう 他の従来技術が米国時H′i−第う、579,911@
してよって知られる4、そこでは、h1向の中間点(1
55)の付近に勾配讃域が4人され、その勾西己領域内
の磁場は偏向平間内の半イr方向にイ4コ化L ll1
lt跡通過可能な外方tXii分に同けて増大する。か
くして、太きな曲率半径にrつで特徴づけられる軌跡は
、小ざな曲率半径が受けるよりも強い磁場を感する。勾
配シムを過当に調整することにより、所望角gの1次ア
クロマチイック偏向かもたらこれる。 これらの従来技術にお・いて、ビームの実質的逓rjd
+ψ分散を唐人すべきでなく、′また装置dの入射平面
で生じた状jh’を・射出平面でJ5りの捷捷内牛する
ことがツ”F 7する。 〔発明の概費〕 本発明の上目的は、荷電粒子1!K Ml”It tt
f Kおける袴に簡単な1次アクロマチイック11−同
装置ft、?提供すること−Cある1つ 本発明のl 11+色において、1同回fI縁石が、第
lの一様磁場領域及びそこから離れてJA界に沿った第
2の一様磁場領域をIV’G成する。第1の頭載を通過
する粒子の軌跡は、大さな曲率平径で特徴づけられ、第
2の=域内でv、L小さな曲率半径となり、再び第1の
値域合・柾切る嘘には大きな曲半半イtとなる。 仙の舟色において、第1ルび紀2の領域内の磁場の比は
、一定であり、ステップポール面の間の第1の間隙(広
い)及び第2の間隙(狭い)によって定−止る。 他の特色において第lの領域と第2の領域との間の境界
が直線である。 他の特色において、第2の領域の比較的狭い間隙内にエ
ネルギー選択スリット力11着aきれる。それにより第
2の(狭い間隙の)磁場領域の磁性ポールピースの大き
な買置によって、スリットからの放射が効朱的に遮蔽さ
れる。 他の物色において、偏向磁石の屈曲平面が粒子加速器の
軸に対して正負16に葺合きれる。この整合性は、屈曲
平面を通る軸の1わりに磁石を回転すること?こよって
達成される。磁石部品の内部Y合は必要ない。 他の特色において、磁石の像平面における中央軌道から
のll1IL跡の変位量は、磁石の入射平面における中
央杭う細からの軌跡の変位111に等しい。それにより
入射平面での平行線は、射出平面でも平行になる。 他の特色にL・いて、牟−のl4Il+’ 4.′l!
索子が用いら7[て、アレロマテイツク荷篭粒子ビーム
偏光装置におにする半径り同のウェストと横方向ウェス
トとを同一ターゲツト平向−ヒに生じなせている。 本発明のさらに他の’Wt色り、以下のfi12述から
よ!)明1)かとなろう。 〔灯]」1夾h11.i例の説明3 41図は、6G気偏向装置i賃12ケAJ↓入れたX線
溶/1.’(t;!に械10を示す。治itχ仁科戒1
0け、はぼC字状の回4云μ丁1jしなガントリーil
lからInkる。ガントリー111、水゛IL方向の回
転軸M16の捷ね91C回転する。ガン) IJ −1
11は、支柱20を介して床11(から支持される。ダ
柱20は、ガントリーillを回転EiJ能に支持する
だめのトラニオン22を有する。ガントIJ −11+
は、はぼ水平方向の一対の平行腕211及び26を含む
。lI小惨子28に連なるhd形′嶋子加速器27が腕
26内部に収′谷される。 磁気偏向妓拘111醍びターゲット2つが、水平腕26
の外方端に配油′されて、腕26の外方端と水平腕24
の外方端に支持されたX線吸収素子50との間にX線の
ビームを投射する。治療処11′tのためターゲット2
つか’;拍するX線のロープ内の寝台う4に、12者う
2が支えらitている。 次に第2及び5図丁ン・−1((1すると、4筐シロt
jiのポールピースのボールギル/ツブ(ρO1+! 
cdp) ′)Qが、左官れていイ)。ステップ52が
、ボールキャップ50を1ib 56VAのホールキャップ50は、領域511のそれよ
りもステップ52の尚さ11/(け鳥い。故に、ボール
キャップ50及び’) ti’から成る磁イi tjl
、佃」或56におiJる幅dの比軟的殊い間VA(及び
可1j伐51における鳴d + 21+の比軟t’lソ
広いIi;l Kiによ′つで、t+ff以で5けり)
1イ、。従って、磁石は、1いス的口(い値Lhの一様
佃域51番と比較四部い(磁場の−<>y領域56とを
構成する。:l11方向に削れたコイシイ14造半体5
8及び58に′1.L流を供i1’+:+することによ
って、Vζイ」の励磁が達tJ′!−さiする。44直
拳造牛体)6波ひ58はぞれぞJし、各外方ボール60
&び60′の捷わりに配(dさGている。ボールキャッ
プ50及び50’t−1、外方ボール60ルび60に固
層されている。磁気回帰路はヨーク62によりもたらさ
れる。トリムコイル(trl+n coll) 611
及び61i’+・よ、領域511及び56内のf1会場
の比(!−調節するための75−二ヤ金もたらす。 A仝エンベロープ67が、磁石の両ボールの間に畝1+
f? −J it、そしてl+3iihM子Qを通じて
マイクロ波勝形加速器窒胴68と連通し−Cいる。  
 ゛以下に1f7Ii論するように、他の重要なパラメ
ータθ、11f子が篩同器に進入するときの軌跡が磁場
に幻してもつ角度(入射角Im ”)である。入射領域
に関しての開方の仮想的磁場境界69を所望の位1a及
び方向に維持するために、フリンジ磁場を制御する。こ
の?1ill 9<1は、アルミニウムスペーサ66′
によってボールキャップから離れた磁場クランプ66に
よって達成きれる。同様にして、出口磁」易境界の位置
及び方向は、この領域の磁場クランプ66の適幽な形状
及び位置によって制御される。 内部の仮想的磁場境界55が、ステップ表面55及び5
3′の適切な曲率によって、ステップ52に関して画成
され得る。この曲率は、飽和が近づいたときの?l+’
c場の損料いを袖itロー又この領域のフリンジ磁場を
制御する、このような形状は、蟲核術分野において周知
である。 Jj7J↓す/fJ7r69及び55tJともに、」ノ
1所的に明確に画成Jれlr モ’ N −Cfiff
<、イーれ故ソtIC> ’s: (1417どおり「
仮4す的J (virlual)  と11+′ぶ。ン
1仮M酌磁相”I’l界にi・1連するパラメータが、
1つのfin楊1111域から1山の(r<vす)何!
」成への’AH多1d″;耘!におシーするフリンジ磁
s、)をl+!J徴づける。かく(7て、パラメータ!
(1が、入射ドリフト空間1.から領域5 +1への磁
場の渭らかな遷移な記jiBするtli−の〕く〕ラメ
ーター゛ある。この〆1tらかなパV移は、例えi、I
’甲心111’L eふP。のように選択された軌跡に
沿っている。り〔1域211と射出ドリフト空間t2と
の間も同包(である。フリンジ出湯パラメータ夏(、は
、磁場領域511と56との間の同様な振舞いを81〕
述する。 双極磁気光学素子の31′6論において、座標系のl軸
を谷間軌跡の接線に削び、入射平面でz = 0、射出
平面でz = 1にとることは、在来の方法である。入
射平面及び射出平面は、一般的に、図示のようtこドリ
フl−空間によって磁場境界から陥れている。入射及び
射出平面を磁場境界であると認降すべきではない。屈曲
乎iI++の偏向の平面内の変位軸としてy軸を選ぶ。 次にy軸は、屈曲平面を4品切る方向にある。慣例的に
、y軸方向は1世1ム」と、x +k11方向?1.1
水平」とけばれている。 (Ml向の平(口1におい−C5中心軌涌軸がC照運動
−の矢印poで示されている。Poに半行な初期制。 跡(屈曲十1111内にあり、そこを通庖する)を有す
る変位された軌跡Cx及び0アが、ili向器の出口の
ところでも10」休な嵐位τ生ずることか、h′!±7
しる。UdJ易i>Σ界に対して角度β、をもってこの
糸に入射する軌跡が、角度βtをもって射出す心。e=
こで該論−rる天施例においては、β、=β、−βであ
ることが窒−止れる。軌幼・は、(ホ)騙B、−(”あ
る研石の領域511内における曲率牛径ρ璽で特低づけ
られる。領域56内においては、対応する曲率半径はρ
、であり、これは磁場B、に療存する。 記号ρ。、1(弔2図参照)は、−低1jii場佃域5
II内の参照軌跡p0の曲率半径を衣わす。曲率半径ρ
。、1及びρ。、2によって決定される16線が、仮想
的磁場境界55と父差して、領域56への入射角β2を
決定する。軌跡が1呼び領域5)1へ入射するときの出
用境界う5への人々、1川も、対称性の押出によりβ2
である。簡噂の/rめに添字1゜」を省略する。 1・61!々51にやってきたときのその頭域内のイt
4向平血にふ・けるfl+4向角it、n 、−にある
。同様に、領域51+を出ていくときび)そぴ弓1”1
域内におけ4)干IId向角(rY、や←1、すαlで
ある。楠4イj楊領域56において、粒子r[全1()
i角2α2ノどけ軸向ネれる。finl向系を辿つfr
総11m 杓?rt、v−2(α1 +α2 )となる
。アクロマチイック偏向素子の/こめの8女十分条件は
、jl下の通りである。初jυノの中心軌H・方向にI
’ 。+ΔPの1)βを有する粒子は(j+4向角α電
 十α2の中点(すなわち、対称平面)において、連!
I!Il皐゛分散軌1ω’1. d Xへと分jj’z
 dれて中心11t IgJj・Poに平行である。 ざらに、用!曲平面において軌跡P11と平行にW期的
に変位したb″!子の軌跡は、対称平面のところで軌跡
P。K″I′Ijなるように果束される。こtらの軌跡
は、笥枝術に1・いて「コサイン状」として知られ、C
xで表わされる。ここにt点字は屈曲平面を意味する。 磁石の入射平面のところで、初期的に+W+跡poから
(屈曲平面内において)相異している軌跡が、第2図に
示きれている。これらの軌跡は蟲Ri J’k jl・
fにら・いて「−vモノ状」として知られ、屈曲平面内
のS8で表わされる。最大分散及び平行から点への集束
の状況は、対称平面で生じる。 この・IL1川−内に画成スリット72が位置されて、
運!1IIIII)のノ1:12囲及びこの、)ミでi
i’Fされる角j褪父位を限界てづける。同様な曲・つ
光b≠糸にふ・けるとll1J様に、It(,1射の2
次源となるスリット72は、ターゲットから離され、研
石のポールピースによって遮蔽される。不発ψ1におい
ては、この領域におけるfiil l兎が狭く、そのた
め太さな質破のポールピース50及び50′が1壇視を
スリット輻射から効果的に遮蔽する。 軌跡C及びSyは、垂1K(y−z)平ff11内にふ
・けるコサイン状及びツイン状の軌跡を表わす。 ;i!!!If!I M’分散軌跡がM11平面内にお
いて対称平面(偏向角v/2)のところで角度変位が苓
である(δdx/δ2=0)という条件の下で、曲率半
径ρ、とρ、との関係、r、yl 及びα2のパラメー
タに対する磁場B、及びB2.1″。、並びに仮想的磁
場境界の磁場延在パラメータに、及びに2を、得ること
が疫求される。対称平面のところで昧されるこの速性か
ら、dX及びその発散d′工が(庭石の出口のところで
嵜になることが示きれ得る。 問題の簡単なル+1r的処置において、・−城51+へ
とやってくる軌跡、領域56の部分に入9対祢平面へ進
み、次にi!(i J或56から領域54との境界へ進
み、再び領域511を通る軌ル]・についての、移送行
列(Irani+fcr +najrix)が−き表わ
゛される。屈曲半間に×1する行列は、第4図に示す4
つの領域541.56. 56o、54o、を辿るビー
ムの伝播に対応する移送行列の行列積として4き表わさ
れる。 ココア、cl、Sl、C2、S2はぞれぞ7し、低磁場
領域(1)及び薗(1穆硼官j域(2)に↓・けるco
nα及びsinαを表わす。βは、tanI を表わす
。変数ρ1及びR2−は、領域511及び56に対応す
る領域l及び2における曲率半径である。CI及びS 
のパラメータは、在来的には錠前軌跡に関しての変位と
して表現される。(1)式は、以下のように約すことが
できる。 行列!!ノ索”++(CJl、C、軌跡のfiJヌ・J
前空101的笈位4:j(、述する係に’t ’a、z
、2.114−J−ル。tj l 2 ’M 糸111
、S  の相対的At位を出シ坏Jる。li」」(求e
(二しで、要素l(2,はCえσ)イl x月゛rv 
I(J rL 旋f>ンと、’!2 素” 22 &;
↓8xの4Q、bZ;の711Jλ引)つりj+、正変
f)’l * rフL:運う゛ゐ。 安メ1、R13は
・ 大中動bt分tt;、 ’1IIL跡dx(・南平
吋のところでvJ期的に中心軌跡と一致する)のM11
平面におけ名変位を記述し7、R2a!’iイ゛の元赦
′f1:記述する。光学系をM゛i単にす4.J゛うな
幾つかの条件がある。(a)装jdt、は、入射ΔhG
r+における平イ]軌11bl・を芽1出AI乙面にお
ける平行軌跡に対応させる。このことし、」:、行列焚
索J、=Qを導く。(b) ’(11i1向磁石は、軌
跡の向きに依存しない。 このことは、”22 ”” +t、、を尋<(光学系の
対称性からも明らか)。(c)この行列の行列式は、リ
ウヴイルの栄理により常に1である。条件(b)及び(
C)より、R++−−1が導かれる◎ 行列の最後の行は、側平面における運動駿を記述する。 これらの要素は常に0.0及び1である。 何故ならば、何tIの静磁系を通過する際にもビームの
エネルギー〇!l!!l功171のイ+tL )は、増
さ衣しないからである。 アクロマチインク系の場合には、分散変位項電。 及びその発散11.は、零でなければならない。上述し
たように、光学系の設計パラメータの間の関係をもたら
す/こめに、対称平面のところでのIC0についての条
件が解析的に展開はれる。その結果として次の表現を得
る。 d’ 、 = −(−)(1−c+ ) (す+九02
 ) +C2al + c、A (t−CI )R2 +畠2 =O(5)式 これを解いて次の条件を得る。 ρ宜   1−01 在来の手続に従って、領域54(入射)、56(入射)
、56(射出)及び511(射出)についての対応する
垂直平面行列を書き表わすこ°とができ、それから、光
学系を通って伝播する横方向平面の斤めの行列方44M
式がf!Iられる。 y(g、= RyV(+〕) ここに「1」は、入射平面z = Qに対する射出平面
の2座標の位置である。射出平面にお(八で平行から平
行に果來すること、が、王侠な設計条件である。(18
石の幾何形状から導かれる偏向平面の場合の条件と比較
されk(/−1゜ かぐして、t1云移行列t(工及び1(βよ、11蕗場
151界69のところで内方に方向づけられる運i!!
!IMtベクトルP(z、)に演〕9して、gc石通過
後の磁場境界6つのところに射出運11ii+ 叶ベク
トルP (R2)’15生成するという転移機能全記述
する。 好適実施例において、入射ドリフト空間及び射出ドリフ
ト空間として二それぞれドリフト空間1゜及びR2が含
まれる。ドリフト行列は以下の形をもつ。 ドリフト行列は、Rx、y 行列に演週する。Rx、y
行列はともに(2)式の形を示し、すなわち以下の形を
もつ。 磁石転移行列は、等価なドリフト空illの形を治する
。かくして、ドリフト空間1.及びt、を伴う全光学系
を通った変形は、以下のように与えられる屈曲平面及び
信子1111についての全転移行列金もたらす。 ここに、負の符号は行列lζエ を、正の符号は行列R
y を表わす。長さLx及びLyは、射出平面からSx
及びSy軌跡の突出クロスオーツ(−(pro、Jec
te+J croslIover)  4でのW(9計
である。 第5図を参照すると、屈曲平面又は半径方向平面内のウ
ェスト(<ひJL部分、walsj) glび横方向平
曲(横断面)内のウェストが、2軸土の異なるfi′L
+西、で諦IMきれている一般的伏況が示され−Cいる
4、かくして、成る平i[ilにおいでビーム色糸i5
114!が収束していでも、111シの平曲で乞り収束
1.・1い。」二連のように、初数の11市1り素子が
613合良く配列づれて、これらのウェスト金具>il
lの位11゛、z&こ一孜さする。好適実施例において
、磁易出+ + 」)H′J′目(J・・げるdx−0
の結果とともVC5d’ x = O及び〔コ、−0の
条件が対称平面のところで6i・し足される。きらに、
このことがらCXが、6餞イ] k J川して111(
曲−P−ifu内で平行削平行変工衷を躬fIJ、で5
0る。仙lυ1if+117Jにj、・りる平イ]″対
平行変換が、磯椋11λ訂に条イ/1づけらJする。 故に、4141祈而父eユ屈曲平而のイ111れか(f
−記述・ノーる行列は、上述のJ:うな形1ル奮とる。 本装置■の人口におけるl+重h4シングレット(qu
IIdrupole slnglet)の効果は、次の
形7114をとる。 ここで、f  iJ、41代極司変焦点距べ1tに等し
くとることかできる。ビームのウェスl V(J、以下
の式の表現からイ1 ’))れる。 l X(1)12=  1CXX(0)I2+ l S
 xx′(0)121 Y(1)+2=  l (: 
yY(0)12+ I S 、 Y’(0)12Sx及
びSyの軌跡d定義より、z = Oのところで振幅が
零なので、Sx及びSyはll1i:体子により影!I
I官ノーない。軌跡C9及びC工の変位は、逆の性質で
ある。もし範囲1.+12が適正に選択きれるならば、
Ill「険の焦点距離を、ti++合良くi!IAl整
することができ、半径方向ウェスト及び横方向ウェスト
を一1&−Jせることか可能となる。 以下の行列方程式は、垂直平面及びJu(開平面内に訃
いてドリフト空間を含む全光学系を記述する。 y(1)= rt 、 Ty (0) ?−(D h 外方a 式rs、例えばc o d e
 TRANSP(Ilj’l’ (使用方法は、スタン
フォード線ル加入中’J+:Vセンターから人手可能な
5LAC:Report  91にml述され−Cいる
)などの適切な磁気)し学プログラムによって、都合良
く解くことができる。TRANSPORT co・IO
は、パラメータの調和した4、11を探すのに用いも7
Lる。 パラメータとしては、以下のようなものがある。 β1 、領域511内でのP。の曲率半径。 ρ42.領域5 It内のP。の曲率半径の、領域56
内の曲率半径に対する比。 β1 、仮想的磁場境界への軌跡P。の入射角。 α8.高磁場領域56内での中心軌跡P。の回転角。α
、は、内方仮想的磁場境界へのPoの入射角β、を決定
する。 α0.低磁場領域511内での参拙軌跡P。の回転角。 ■(1,低磁場領域511と外方の自由磁場領域との間
の仮想的磁場境界についてのパラメータ。 K2A11品磁場領域と低磁場領域との間の仮想的内方
fit? 場1Q界’f7己述する相対的パラメータ。 好適夾/J16秒I+ −(: fJ、対称性が、条件
とされている。 すなわち、F−2(α1 +α、)である。電子11.
i向270についての1組の代表重設5!゛パラメータ
においては、所■ノの平均電子エネルギーは6NIev
と4o5MeVとの旧で可変である。このll11〕、
v4+にわたって、1次アクロマチイック条件が安水さ
れる。 軌跡の入射及び射出部分に対する入射角βけII5であ
り、外方仮想的磁iJA税界69は、入射コリJ−タ(
2=0)の開口に対してZ = 10 cmのところに
位1Hされる。中心軌跡は、11.17キロガウスの磁
場BIの影響の下でl+ 1.5の角度6重だけ回転し
、2−53 CIt+のところで55であるβ2−90
−α、の角度をもって内方仮想的@場境界55と父差し
、z−37,14Cmのところで対称平面に到達し、1
へ9キロガウスの磁場B、の影響の下に角度α*  (
9sV)だけ回転する。軌跡は両磁場境界の内で対称で
あり、ターゲットは外方仮想的磁場堺界を越えて位1a
これる。入射コリメータのところで、ビーム色糸is 
#j! V土、直径25UITあり、2.1重mr の
両面によ、・いて発散する性′員を43する。 磁石′の幾(pI形状11、餉[gI平面Vこよる千イ
]対平行変換を作曲−する。対称平面におけるd’ x
−0の条件n1蓮!l!111](独立をもたらす。横
111
【而にお&Jる平行対平行条件は、拘束条件であ
る。D[望の設d1パラメータの組を綴るために、力J
(曲角α電及びα。 並びに磁場強恥比プ1工震化宴れる。 270の偏向角につ込ての1次アクロマチイック偏向系
が、(3)式で示すれ々の磁場比1;ワ−とともに達成
され得る。 さらに、水平及び垂1u平而の内方についての対応する
行列費累の絶対値が優られ、それらはほとんど同一であ
り、対称な像ビームスポットをもたらす。 同様に建造された偏向系によって他の偏向角度が達成こ
れ得ることが、当業者に認識吉れるであろう。さらに、
内方磁場境界は、所望の曲byの影線をとることもでき
る。従って、前述したところは本発明の牟なる1実施例
であり、本発明の真のdin、 ull E’l 爵#
f a+!4水/7) nib、 [711V(−、J
ニー7) テ定t ル。 4図曲の1111酢な稽明 第11イ1rI、本発明の特色を用いkX線治僚機株の
概略11t:l 11+i iン1で凌・る。 aL2図を1、本発明のノ1[(曲事[川における各軌
跡を示−) 〇 第5A図り、1、第2図のボールキャップを含む磁石の
1υr +11+v自ノBli曲半+t+i+こ世it
Nである。 絹5+31ン陳1−5好適実施し1]の8”j4クラン
プ4・示す。 第4図eL、全中心軌跡に沿って、折りIIjJげらg
てい4い、松・方向にすjYり出し/ζ軌跡である。 〜t5図11、半イモ方向〜エスト及び横方向ウェスト
のl:4’=i 1禾を示す。 〔主臂行号のti!?、 t!’−+ )1o    
   x、1;HH治影、6砲イ戎1 】      
イIZす気イ伺向コペシIN’I I+     ガン
トリー 16   回転軸線 18床 20   支柱 22   トラニオン 214、26  腕 27   線形軍イ加速器 28  111極子 2つ   ターゲット 50    X線吸収メ、子 う2   患イ 511    板台 ・ 50.50  ボールキャップ 52、52  ステップ 5う、55′ ステップ表面 54.56  領域 55   磁場境界 58.58′  コイル+J造早体 60.60’  外方ボール 62   ヨーク 66   磁場クランプ 67    A空エンベロープ 68   空胴 69   値」易境界 72   スリット 特許出願人 パリアン・アソシエイツ・FIG、1 、)、 1.1 胡 、

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 l ズ・j尿q′!/jを1((1射するkめの荷′T
    iL粒子加速照射装置1!/であって: II)与えられた一11線に沿って荷′−粒子のビーム
    ケ力11速するための荷1L粒子加速器手段;並びに b)削−己の−りえられた11勝に関【7成る偏向Pt
    4たけ1111己ビームを+itl gピー11勝から
    屈出1きせるためのMl1曲用曲用系であり、 1)第1の一様磁」易領域及びそこに瞬接した第2の一
    様磁場領域であり、 渠2の領域の磁」易を一1第1の領域の碩嚇よりも大き
    く、第1の領域は第2 のち11或から−1:/1.た第1の磁場りt界を含み
    、第l及び第2の−p14城r1第2の磁場境界全台む
    、ところの第l及び 第2の領域、 2)偏向311面内で前記第1の境界に対して角度βを
    もって、前記荷1に粒子 のビーノ、を前記第]の境界を通して 前記第1の領域へと導入させるため の手段であり、以て前記ビームはイ(4内子面内で角1
    ψα1 だけ1lril向(7て前1fi2第2の領域
    へ向い、角18j/、をもって前記iτ2の境界を通り
    、前記第 2の領域内で角度2α2だけζらに 114向して門/記第1の領域に再進入し、前記ビーム
    はさらに角度α電だけ偏 向する、ところの2!ト入手段、及び う)前記第1の領域から前記ビームを 引出すための手段、 から成る屈曲用磁石系; から成る照射装置。 2 特許Rrノ求の範囲第1mに記、j、:じれた16
    射装置Mであって:さらに 前記ビームとのイtji突から透過放射縁を生成するた
    めのターゲット手段; から成る照射装置。 5 特許N11l;、1<の範囲i1T l又は2項に
    記載された照射装置8であって;さらに +ifJ記対象物をす11;L′ルする2つの直交平向
    のそれぞtlの平間内の角hxをもって、当該11u射
    :p7t’ H〆tを回転きせるだめのガントリ一手段
    ;から成る1((1射“i、′21道。 4、 偏向角Vだけ萌14粒子を(1,tl同させるた
    めの1次アクロマチイック偏向装置であって:少なくと
    も近接した第1及び第2の磁場領゛域を(ii+・立す
    るために中間面の寸わりに配(nされた、第1及び第2
    のボールキャップ;から成り、各前記磁場領域が実質的
    に一様な磁場から成る、ところの偏向装がt0 5、 特許dIV求の範囲第1番項に記載された117
    4向装置であって: 前記磁場領域の間に第2の磁場境界を確立するために、
    各前記ポールキャップの厚さに少なくとも1つのステッ
    プを設けた:ところの装置。 6 特メ1:8N求の範囲第6項に記載された偏向装置
    Itであって: ++iJ MQステップが、前6己ボールキヤツフ“の
    平面円の直線に沿っていゐ: ところの装置a0 7、+〕許請求の範囲第5又はら狽に記載された偏向装
    置であって: 前記荷電粒子が前記第1の磁場領域に実質的に角度1β
    1をもって入射し、所望の集束状況が得られ、前riC
    向′亀粒子の運動証が角度α電たけ回転される; ところの装置。 8 特許請求の範囲第7項に記載された1H向装置aで
    あって: 前記荷′醒粒子が前nM第1の磁場領域から射出すると
    同時に前6)2第2の6e場領域へと前dピ第2の磁場
    境界を通して角度β、で入射し、他の7’/l望の集束
    状況が得られ、前記荷電粒子の運動計は追加的角度α2
    (β2−9゜−αt)だけ回転される; ところの’Mz 11 。 9 牛j許d々求の範囲第8項に記載された114向装
    置14′であって: M’J it’、荷電粒子が追加的角度増分α2だけ回
    転ざ71.、 tI+び前j’i12第2の磁場境界に
    前記角(及1β、1で交差し、該第2の磁場境界に沿っ
    て以Mifとは異なる位iaで前龜己第1の磁場領域に
    進入し、第うの集束状況が達成される; ところの)ムII!7.。 lO刊、tl’ ff+’4求の範囲第9狽に自己載さ
    れた1−間装+12IIであって: 前記りf1L粒士が追加的角度増分α、たけさらに回転
    され、以て全制用I F=2 (α1千偽月が達成これ
    、前記荷電粒子の運動縫が第1の磁場1J1.痒に沿っ
    た1点で前記第lの磁」易領域をt’tit t t 
    、核点は前記の入射の点からは離れて−IJ記第1の磁
    場堝界に関して角度βをなす; ところの装置i(。 ひ+、t、 F虚θ)
JP57201225A 1981-11-19 1982-11-18 ステップギャップ付きアクロマティック屈曲用磁石を組み入れた照射装置および偏向装置 Granted JPS5931500A (ja)

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