JPS5926733A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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- JPS5926733A JPS5926733A JP57136612A JP13661282A JPS5926733A JP S5926733 A JPS5926733 A JP S5926733A JP 57136612 A JP57136612 A JP 57136612A JP 13661282 A JP13661282 A JP 13661282A JP S5926733 A JPS5926733 A JP S5926733A
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- JP
- Japan
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- carbon atoms
- silver halide
- carbon
- alkyl
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/815—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by means for filtering or absorbing ultraviolet light, e.g. optical bleaching
- G03C1/8155—Organic compounds therefor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/132—Anti-ultraviolet fading
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は]・ロゲン化銀写真感光イ:1月(以下、゛「
写真感光材料」と記す)に関し、特に塗布適性及び帯電
防止性を改良した写真感光材料に関する。
写真感光材料」と記す)に関し、特に塗布適性及び帯電
防止性を改良した写真感光材料に関する。
写真感光材料は一般に電気絶柿°コ性を有する支持体お
よび写i〔層から成っているので写真感光材料の製造工
程中ならびに使用時に同種または異種物質の表面との間
の接角虫摩擦−1:たけ剥離をうけることによって靜W
tL荷が蓄積されることが多い、この蓄積された静電電
荷は多くの障害を引起すが、最も重大な障害は現像処理
前に蓄積された静電電荷が放電することによって感光性
乳剤層が感光し写真フィルムを現像処理した際に点状ス
ポット又は樹枝状や羽毛状の線肌を生ずることである。
よび写i〔層から成っているので写真感光材料の製造工
程中ならびに使用時に同種または異種物質の表面との間
の接角虫摩擦−1:たけ剥離をうけることによって靜W
tL荷が蓄積されることが多い、この蓄積された静電電
荷は多くの障害を引起すが、最も重大な障害は現像処理
前に蓄積された静電電荷が放電することによって感光性
乳剤層が感光し写真フィルムを現像処理した際に点状ス
ポット又は樹枝状や羽毛状の線肌を生ずることである。
これがいわゆるスタチックマークと呼ばれているもので
写真フィル1、の商品1i1[i値を著しく損ね場合に
よっては全く失なわしめる。例えば医療用又は工業用X
−レイフィルム等に現われた場合には非常に危険な判断
につながることは容易Kg識されるであろう、この現象
は現像してみ°〔初めて明らかになるもので非常に厄介
な問題の一つである。またこれらの蓄積された靜+ti
電荷はフィルム表面へ塵埃が付着したり、塗布が均一に
行なえないなどの第1次的な故障を誘起せしめる原因に
もなる。
写真フィル1、の商品1i1[i値を著しく損ね場合に
よっては全く失なわしめる。例えば医療用又は工業用X
−レイフィルム等に現われた場合には非常に危険な判断
につながることは容易Kg識されるであろう、この現象
は現像してみ°〔初めて明らかになるもので非常に厄介
な問題の一つである。またこれらの蓄積された靜+ti
電荷はフィルム表面へ塵埃が付着したり、塗布が均一に
行なえないなどの第1次的な故障を誘起せしめる原因に
もなる。
かかる靜電屯荷は前述したように写真感光材料の製造お
よび使用時にしばしは蓄積されるのである。例えば製造
工程に於ては写真フィルムとローラーとの接触摩郁ある
いは写J(〕・fルムの巻取り、巻戻し工程中での支持
体面と乳剤面の剥離等によって発生する。またはX−レ
イ7・rルムの自動撮影機中での機械部分あるいは螢光
増感紙との間の接触剥離等が原因となって発生し/こり
、カラーネガフィルム、カラー反転フィルムに於ては、
カメラ内や現像所における接合機、自動現像機でゴム、
金属、グラスチック等のローフ−、バーとの接触剥離に
より発生する、その他包装材料との接触などでも発生す
る。かかる静電電荷の蓄積によって誘起される写真感光
材料のスタチックマークは写X感光材料の感度の上昇お
よび処理速度の増加によって顕著となる。特に最近にお
いては、写真感光材料の高感度化および高速塗布、高速
撮影、高速自動処理化等の苛酷な取り扱いを受ける機会
が多くなったことによって一層スタチックマークの発生
が生じやすくなっている。
よび使用時にしばしは蓄積されるのである。例えば製造
工程に於ては写真フィルムとローラーとの接触摩郁ある
いは写J(〕・fルムの巻取り、巻戻し工程中での支持
体面と乳剤面の剥離等によって発生する。またはX−レ
イ7・rルムの自動撮影機中での機械部分あるいは螢光
増感紙との間の接触剥離等が原因となって発生し/こり
、カラーネガフィルム、カラー反転フィルムに於ては、
カメラ内や現像所における接合機、自動現像機でゴム、
金属、グラスチック等のローフ−、バーとの接触剥離に
より発生する、その他包装材料との接触などでも発生す
る。かかる静電電荷の蓄積によって誘起される写真感光
材料のスタチックマークは写X感光材料の感度の上昇お
よび処理速度の増加によって顕著となる。特に最近にお
いては、写真感光材料の高感度化および高速塗布、高速
撮影、高速自動処理化等の苛酷な取り扱いを受ける機会
が多くなったことによって一層スタチックマークの発生
が生じやすくなっている。
これらの静電気による障害をなくするための一つの方法
として写真感光材料に紫夕8線吸収剤を用いる方法があ
る。これはスフブーツクーl−りを生じせしめる放電発
光の分光エネルギー分布が200nm−joonrnで
あ”)s ’h’lc 300〜4’ 00nmにかけ
ての強度が著しく、この範囲の光エネルギーがスタテッ
クマーク発生の原因になっていることから米ているので
ある。従来より、例えば特公昭60−107.2A号公
報、特開11jイ、f/−2A。
として写真感光材料に紫夕8線吸収剤を用いる方法があ
る。これはスフブーツクーl−りを生じせしめる放電発
光の分光エネルギー分布が200nm−joonrnで
あ”)s ’h’lc 300〜4’ 00nmにかけ
ての強度が著しく、この範囲の光エネルギーがスタテッ
クマーク発生の原因になっていることから米ているので
ある。従来より、例えば特公昭60−107.2A号公
報、特開11jイ、f/−2A。
02/号明細書、仏画特許第2,03t、/、79号明
イIII 4!j、等に記載されているように紫外線吸
収剤により、特に200〜4tooHH)の紫外線光を
遮光することによりスタチックマーク発生を防止する試
みがなされて来た。紫外線吸収剤は保fU層や、青感層
に用いられる外、パック側での族111発光による赤感
層のスタチックマークを防止するために、ハレーション
防止層(AI−I)又は、ゼラチンバック+4(BC)
に用いることができる。しかしながらA、H又はBCに
紫外線吸収剤をオイル乳化した乳化物を添加して塗布す
ると塗布性が著るしく悪化することがあった。これti
t 、いわゆる油滴と称する乳化に用いたオイル(高沸
点有機溶剤)Kよる面のハジキ現象で、乳化物が多いほ
ど、又、乳化物を溶解経時する時間の永いほど発生しや
すいことが分っている。この現象のために、AHIgや
BC層に用いる乳化物の鼠を制限する8敦があシ、その
ため充分な帯電防止性を写真感光材料に所持せしめるこ
とが困難であった1、 従って本発明の第一の目的は塗布適性を改良した写真感
光材料を提供することにある。
イIII 4!j、等に記載されているように紫外線吸
収剤により、特に200〜4tooHH)の紫外線光を
遮光することによりスタチックマーク発生を防止する試
みがなされて来た。紫外線吸収剤は保fU層や、青感層
に用いられる外、パック側での族111発光による赤感
層のスタチックマークを防止するために、ハレーション
防止層(AI−I)又は、ゼラチンバック+4(BC)
に用いることができる。しかしながらA、H又はBCに
紫外線吸収剤をオイル乳化した乳化物を添加して塗布す
ると塗布性が著るしく悪化することがあった。これti
t 、いわゆる油滴と称する乳化に用いたオイル(高沸
点有機溶剤)Kよる面のハジキ現象で、乳化物が多いほ
ど、又、乳化物を溶解経時する時間の永いほど発生しや
すいことが分っている。この現象のために、AHIgや
BC層に用いる乳化物の鼠を制限する8敦があシ、その
ため充分な帯電防止性を写真感光材料に所持せしめるこ
とが困難であった1、 従って本発明の第一の目的は塗布適性を改良した写真感
光材料を提供することにある。
本発明の第二の目的はスタチックマークの発生ことにバ
ック面での放電による発生をtヨとんど防止した写真感
光飼料を辺供することにある。
ック面での放電による発生をtヨとんど防止した写真感
光飼料を辺供することにある。
本発明者らは鋭意検討した結果、本発明のこれらの目的
は下記一般式CI)で表わされる単量体から誘4される
繰返し単位を有する重合体又は共重合体紫外線吸収性ポ
リマーラテックスを乳剤層と支持体の間もしくは支持体
の乳剤層とは反対側に存在する親水性コロイド層に用い
ることにより達成きれる事を見出した。
は下記一般式CI)で表わされる単量体から誘4される
繰返し単位を有する重合体又は共重合体紫外線吸収性ポ
リマーラテックスを乳剤層と支持体の間もしくは支持体
の乳剤層とは反対側に存在する親水性コロイド層に用い
ることにより達成きれる事を見出した。
一般式[I]
CH2= C−X−+A÷而イ面 、)−j−Q式中R
は水素原子、炭素原子数/〜弘の低級アルギルノc((
例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−プチルノん等)、ま/こVi塩素を表わ
し、Xは一〇〇NH−1−COO−またはフェニレン基
を表わし、AVi炭素原子数ノ〜−〇のアルキレン基(
例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン:’!、
51.2−ヒドロキシトリメチレン基、ペンタメチレン
基、ヘキザメチレン基、エチルエチレン基、フロピレン
基、テカメチレン基6)、又は炭素原子数1−.2θの
アリーレン基(l+lIえばフェニレン基等)で示さノ
する連結基を表わし、Yは−COO−1−oco−1−
CONH−1−NHCO−1−8O2NH−1−NII
SO□−1−SO2−1又は−〇−を表わす。またnl
とnは各々Oまたはlの整数を表わす。
は水素原子、炭素原子数/〜弘の低級アルギルノc((
例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプ
ロピル基、n−プチルノん等)、ま/こVi塩素を表わ
し、Xは一〇〇NH−1−COO−またはフェニレン基
を表わし、AVi炭素原子数ノ〜−〇のアルキレン基(
例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン:’!、
51.2−ヒドロキシトリメチレン基、ペンタメチレン
基、ヘキザメチレン基、エチルエチレン基、フロピレン
基、テカメチレン基6)、又は炭素原子数1−.2θの
アリーレン基(l+lIえばフェニレン基等)で示さノ
する連結基を表わし、Yは−COO−1−oco−1−
CONH−1−NHCO−1−8O2NH−1−NII
SO□−1−SO2−1又は−〇−を表わす。またnl
とnは各々Oまたはlの整数を表わす。
Qii下記一般式〔■〕、又は〔■〕で表わされる紫外
線吸収性基を表わす。
線吸収性基を表わす。
一般式CI[)
式中、R1とR2は各々水素原子、炭素原子数/〜、2
0のアルキル基(例えばメチルノン、エチル基、n−ブ
チル基、シクロヘキシル基、n〜ドデシル基、フタデシ
ル基、メトキシエチル基、エトキシプロピル基、ヒドロ
ギシエチル基、クロロプロピル蒸、シアノエチル基、フ
ェネチル基、ヘンジノkL エトキシカルボニルメチル ーヒドロキシエトギシ)エテルW:等)、又は炭素原子
数に〜.20のアリール基(例えば、トリル基、フェニ
ル基、り【jロフェニル基、λ,4t−シーt−アミル
フェニル基等)を表わし、更にR□とR2は互いに同一
もしくは異っていても、1、いが、同時に水奏原子を表
わすことはない。更にR1とR2は一体化してもよく、
その場合i;t ]ffY状アミノ基(例えば、ピペリ
ジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基、ヘキサヒドロア
ゼピノ基、ピペラジノ基等)を形成するのに必要な原子
団を表わす。R3はシアノ基、−COOR−CONII
R4i1−CO)こい1 又は−SO□R5を表わし、R4r、Iシアノ基、−C
00R−CONIIR6−COR6,3/、)j−80
2R6を表わし、RとR6は各々炭素原子数/〜、20
のアルキル基、同4−20のアリール基を表わし、I工
1Ql:R2が表わすアルキル基、アリ−・ル基と同意
義である。四にR5とR6は結合して一体化してもよく
、一体化した場合は、/、3−ジオキソシクロヘキセン
環(例えば、ジメドン、等)、’+3−ジアザーλ、
4’、 &−トリオキンシクロヘキサンFJ (I
IIJエババルビッール酸、/−フェエソレバルビツー
ル酸浄)、/、、2−ジアザ−j、j−ジオキソシクロ
ペンタン環(例えば/、2−ジアザ−/、−一ジメチル
ー3.!−ジオキソシクロペンクン等)、又はコ、4t
−ジサザー/−アルコキシ−j、j−ジオキノシクロヘ
キセンm <v+>tば、λ、1LL−ジアザー/−
エトキシ−l−エチル−3゜j−ジオキソシクロヘキセ
ン等)全形成するのに必要な原子団を表わす。
0のアルキル基(例えばメチルノン、エチル基、n−ブ
チル基、シクロヘキシル基、n〜ドデシル基、フタデシ
ル基、メトキシエチル基、エトキシプロピル基、ヒドロ
ギシエチル基、クロロプロピル蒸、シアノエチル基、フ
ェネチル基、ヘンジノkL エトキシカルボニルメチル ーヒドロキシエトギシ)エテルW:等)、又は炭素原子
数に〜.20のアリール基(例えば、トリル基、フェニ
ル基、り【jロフェニル基、λ,4t−シーt−アミル
フェニル基等)を表わし、更にR□とR2は互いに同一
もしくは異っていても、1、いが、同時に水奏原子を表
わすことはない。更にR1とR2は一体化してもよく、
その場合i;t ]ffY状アミノ基(例えば、ピペリ
ジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基、ヘキサヒドロア
ゼピノ基、ピペラジノ基等)を形成するのに必要な原子
団を表わす。R3はシアノ基、−COOR−CONII
R4i1−CO)こい1 又は−SO□R5を表わし、R4r、Iシアノ基、−C
00R−CONIIR6−COR6,3/、)j−80
2R6を表わし、RとR6は各々炭素原子数/〜、20
のアルキル基、同4−20のアリール基を表わし、I工
1Ql:R2が表わすアルキル基、アリ−・ル基と同意
義である。四にR5とR6は結合して一体化してもよく
、一体化した場合は、/、3−ジオキソシクロヘキセン
環(例えば、ジメドン、等)、’+3−ジアザーλ、
4’、 &−トリオキンシクロヘキサンFJ (I
IIJエババルビッール酸、/−フェエソレバルビツー
ル酸浄)、/、、2−ジアザ−j、j−ジオキソシクロ
ペンタン環(例えば/、2−ジアザ−/、−一ジメチル
ー3.!−ジオキソシクロペンクン等)、又はコ、4t
−ジサザー/−アルコキシ−j、j−ジオキノシクロヘ
キセンm <v+>tば、λ、1LL−ジアザー/−
エトキシ−l−エチル−3゜j−ジオキソシクロヘキセ
ン等)全形成するのに必要な原子団を表わす。
更にJ、R2,R3,及びR4のうち少lくとも1つは
先に述べた連結基を介L 、ビニル基と結合するものと
する。
先に述べた連結基を介L 、ビニル基と結合するものと
する。
一般式〔1F〕において好ましく 1.目ζ1とR21
−1:各々炭素数l〜λOのアルキル基イj:表わし、
R3はシアン基、又は−5O2R5を賢わし、R4はシ
アノ基、又は−C00R6を表わす。R5とR6は各々
炭素数1−20のアルキル基又れ1炭素数t〜λ0のア
リール基を衆わす。
−1:各々炭素数l〜λOのアルキル基イj:表わし、
R3はシアン基、又は−5O2R5を賢わし、R4はシ
アノ基、又は−C00R6を表わす。R5とR6は各々
炭素数1−20のアルキル基又れ1炭素数t〜λ0のア
リール基を衆わす。
一般式〔1■〕において特に好ましくはR1とI12は
炭素数/〜乙のアルキル基を表わし、R3は一8O2R
5を表し、R4は−C00R6を表わす。
炭素数/〜乙のアルキル基を表わし、R3は一8O2R
5を表し、R4は−C00R6を表わす。
R5は、置換してもよいフェニル基(例えばフェニル基
、トリル基等)を表わし、R6は炭素数/〜、20のア
ルキル基を表わす。
、トリル基等)を表わし、R6は炭素数/〜、20のア
ルキル基を表わす。
一般式CTI[]
式中1R11・R12・R13・■也14及びR15は
各々水素原子、ハロゲン原子(例えば川床原子、臭素原
子等)、炭素数/〜、20のアルギル基(例えばメチル
基、エチル基、h−プロピル基、n−ブチル基、t−ブ
チル基、t−アミル基、n−オクチル基、メトキシエチ
ル基、エトキシプロピル基、クロロプロピル基、ベンジ
ル基、等)、炭素数t〜20のアリール基(例えば、フ
ェニル基、トリル基、クロロフェニル基等)、炭素数7
〜.20(7)アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、メトキシエトキシ基等)、炭
素数t、、20のアリールオキシ基(例えば、フェノキ
シ基等)、炭素数/〜、2(7のアルキルチオ基(倒れ
に、メチルチオ基、プロピルチオ基等)、炭素Qt〜−
Oのアリールチオ基(例えばフェニルチオ基等)、アミ
ン基、炭素数/〜λθのアルギルアミノ基(例えば、メ
チルアミン基、゛ジメチルアミノ基等)、炭素数l〜−
0のアリールアミノ基(例オーば、アニリノ基、ジフェ
ニルアミノ基等)、ヒドロギア基、/アノ基、ニトロ基
、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基等)、カ
ルバモイル基(例えば、メチルカルバモイル基等)、ス
ルホニル29(filえば、メチルスルホニル基、フェ
ニルスルホニル&等) 、スルファモイル基(例えばエ
チルスルファモイル、41) 、スルホンアミド基(例
えば、メタンスルポンアミドM等) 、7シルオキシ基
(例え6.1’ 、アセトキシ基等)、又はオキシカル
ボニル基(例えば、メトキシカルボニル基等)、を表わ
し、R1□とR1□e R,□とR13#R13とR1
4又けR14とR15け閉ルして!またはtは央を形成
してもよい(例えばメチレンジオキシ基49−)。
各々水素原子、ハロゲン原子(例えば川床原子、臭素原
子等)、炭素数/〜、20のアルギル基(例えばメチル
基、エチル基、h−プロピル基、n−ブチル基、t−ブ
チル基、t−アミル基、n−オクチル基、メトキシエチ
ル基、エトキシプロピル基、クロロプロピル基、ベンジ
ル基、等)、炭素数t〜20のアリール基(例えば、フ
ェニル基、トリル基、クロロフェニル基等)、炭素数7
〜.20(7)アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、メトキシエトキシ基等)、炭
素数t、、20のアリールオキシ基(例えば、フェノキ
シ基等)、炭素数/〜、2(7のアルキルチオ基(倒れ
に、メチルチオ基、プロピルチオ基等)、炭素Qt〜−
Oのアリールチオ基(例えばフェニルチオ基等)、アミ
ン基、炭素数/〜λθのアルギルアミノ基(例えば、メ
チルアミン基、゛ジメチルアミノ基等)、炭素数l〜−
0のアリールアミノ基(例オーば、アニリノ基、ジフェ
ニルアミノ基等)、ヒドロギア基、/アノ基、ニトロ基
、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基等)、カ
ルバモイル基(例えば、メチルカルバモイル基等)、ス
ルホニル29(filえば、メチルスルホニル基、フェ
ニルスルホニル&等) 、スルファモイル基(例えばエ
チルスルファモイル、41) 、スルホンアミド基(例
えば、メタンスルポンアミドM等) 、7シルオキシ基
(例え6.1’ 、アセトキシ基等)、又はオキシカル
ボニル基(例えば、メトキシカルボニル基等)、を表わ
し、R1□とR1□e R,□とR13#R13とR1
4又けR14とR15け閉ルして!またはtは央を形成
してもよい(例えばメチレンジオキシ基49−)。
R16は水素原子、炭素数/〜−□のアルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基、11−プロピル基、n−ブチ
ル基、n−オクチル基等)、を表わす。
ば、メチル基、エチル基、11−プロピル基、n−ブチ
ル基、n−オクチル基等)、を表わす。
Rはシアン基、−COOR、−CONHR19,171
9 −COR,9、又は−5O2R19を表わし、R18は
シアン基、−COOR2o、−CONHR2o。
9 −COR,9、又は−5O2R19を表わし、R18は
シアン基、−COOR2o、−CONHR2o。
−COR2o又は−S 02R20を表わ[−7、R1
9とR2゜は各々先に述べた様なアルキル基、アリール
基を表わす。
9とR2゜は各々先に述べた様なアルキル基、アリール
基を表わす。
史に■え111RI。+ Rta、 R141R1,、
R,6,R1□。
R,6,R1□。
RlBのうち少なくとも1つは先に述べた連結基を介し
、ビニル基と結合するものどする1、一般式C111]
に於てR11,R1□、1也131 R141及びR1
5は各々水素原子、ハ11ゲンハ;1子、炭素数/〜2
0のアルキル基、炭素数6〜20のアIJ−ル基、炭素
数/ 、−,20のアルコキシ基、炭素数2〜.20の
アリールオキシ基、炭素数/〜、20のアルキルアミノ
基、炭素数t−20のアリールアミノ基、ヒドロキ7基
、アシルアミノ基、カルバモイル基、アシルオキシ基、
オキシカルボニル基を表わし、R1□とR1□、R1□
とR13、R,3とR14スはR14とR工、は閉環し
てもよい。R1(Jは、水素原子、炭′g数/−,2θ
のアルキル基を表わし、R1□はシフ/基、−COOR
,0、−CONHR、−COR10、9 又は−S O2R1eを表わし、R18けシアン基、−
COOR2o、−CONHR2o、 −COR2,、又
は−8O□R2oを表わし、R1,と1′12oは各々
炭素数/〜、20のアルキル基、炭素数A−,20のア
リール基を表わす。更しこR14tR1□、 R13
,R14tR15s R16p R17#及びI”18
のうち少なくとも1つけ先に述べた連結基を介し、ビ
ニル基と結合するものとする。
、ビニル基と結合するものどする1、一般式C111]
に於てR11,R1□、1也131 R141及びR1
5は各々水素原子、ハ11ゲンハ;1子、炭素数/〜2
0のアルキル基、炭素数6〜20のアIJ−ル基、炭素
数/ 、−,20のアルコキシ基、炭素数2〜.20の
アリールオキシ基、炭素数/〜、20のアルキルアミノ
基、炭素数t−20のアリールアミノ基、ヒドロキ7基
、アシルアミノ基、カルバモイル基、アシルオキシ基、
オキシカルボニル基を表わし、R1□とR1□、R1□
とR13、R,3とR14スはR14とR工、は閉環し
てもよい。R1(Jは、水素原子、炭′g数/−,2θ
のアルキル基を表わし、R1□はシフ/基、−COOR
,0、−CONHR、−COR10、9 又は−S O2R1eを表わし、R18けシアン基、−
COOR2o、−CONHR2o、 −COR2,、又
は−8O□R2oを表わし、R1,と1′12oは各々
炭素数/〜、20のアルキル基、炭素数A−,20のア
リール基を表わす。更しこR14tR1□、 R13
,R14tR15s R16p R17#及びI”18
のうち少なくとも1つけ先に述べた連結基を介し、ビ
ニル基と結合するものとする。
前記一般式CI]て表わさyする化合物において特に好
ましくは、Rけ水素原子、炭素数l〜参の低級アルキル
基、−または塩素を表わし、Xは−COO−を表わし、
mとnは0を表わす。Qけ一般式[I III ]で示
される紫外線吸収性基を表わし、一般式[IIT )に
於てlえ11.R□21 R14及びR1,は各々水
素原子を表わし、R13は水素原子又は炭素数/〜!の
アルキル基を表わし、It、、け水素原子、RI7はシ
アノ基、■(□8は−C00R2oを表わし、Rは炭素
数/〜20のアルキレン基を示し、ビ0 ニル基と結合するものとする。
ましくは、Rけ水素原子、炭素数l〜参の低級アルキル
基、−または塩素を表わし、Xは−COO−を表わし、
mとnは0を表わす。Qけ一般式[I III ]で示
される紫外線吸収性基を表わし、一般式[IIT )に
於てlえ11.R□21 R14及びR1,は各々水
素原子を表わし、R13は水素原子又は炭素数/〜!の
アルキル基を表わし、It、、け水素原子、RI7はシ
アノ基、■(□8は−C00R2oを表わし、Rは炭素
数/〜20のアルキレン基を示し、ビ0 ニル基と結合するものとする。
又、紫外線吸収性単量体と共重合する際に[重用するl
1l−hl1体(コモノマー)は、アクリル酸、fl−
クロロアクリル酸、α−アルアクリル酸(例えばメタア
クリル酸などのアクリル酸類から誘導されるエステル好
ましくは、低級アルキルエステルおよびアミド例えばア
クリルアミド、メタアクリルアミド、メチルアクリレ−
1−、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、
エチルメタ゛アクリレート、n−プロピルアクリレート
、n−ブチルアクリレート、n−へキシルアクIJ L
/−1・秒よびラウリルメタアクリレート等)、ビニル
ニス−2ル(例えばビニルアセテート等)、アクリロニ
トリル、メタアクリロニトリル、芳香族ビニル化合物(
例えばスチレンおよびその誘導体、例えばビニルトルエ
ン、ジビニルベンゼン等)、イタコン酸、クロトン酸、
ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル(fL
tii:、ビニルエチルエーテル等)、マレイン酸エス
テル、N−ビニル−λ−ピロリドン、N−ビニルピリジ
ン、−一およびl−ビニルピリジン等がある。
1l−hl1体(コモノマー)は、アクリル酸、fl−
クロロアクリル酸、α−アルアクリル酸(例えばメタア
クリル酸などのアクリル酸類から誘導されるエステル好
ましくは、低級アルキルエステルおよびアミド例えばア
クリルアミド、メタアクリルアミド、メチルアクリレ−
1−、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、
エチルメタ゛アクリレート、n−プロピルアクリレート
、n−ブチルアクリレート、n−へキシルアクIJ L
/−1・秒よびラウリルメタアクリレート等)、ビニル
ニス−2ル(例えばビニルアセテート等)、アクリロニ
トリル、メタアクリロニトリル、芳香族ビニル化合物(
例えばスチレンおよびその誘導体、例えばビニルトルエ
ン、ジビニルベンゼン等)、イタコン酸、クロトン酸、
ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル(fL
tii:、ビニルエチルエーテル等)、マレイン酸エス
テル、N−ビニル−λ−ピロリドン、N−ビニルピリジ
ン、−一およびl−ビニルピリジン等がある。
このうちl峙tこアクリル酸エステル、メタアクリル酸
エステル、芳香族ビニル化合物が好ましい。
エステル、芳香族ビニル化合物が好ましい。
上記コモノマー化合物の、2棟以」二を一緒に使用する
こともできる。
こともできる。
例えば、n−ブチルアクリレートとジビニルベンゼン、
スチレンとメチルメタアクリレート、メチルアクリレー
トとメタアクリル酸等を使用できる。
スチレンとメチルメタアクリレート、メチルアクリレー
トとメタアクリル酸等を使用できる。
前記一般式CI]に相当する紫外線吸収性単量体と共重
合させるためのエチレン糸小飽和単針体は形成される共
重合体の物理的性り1(および/または化学的性質例え
ばm解度、写真二10イド組成物の結合剤、例えばゼラ
チンあるい1.1他の写J(用添加剤例えば公知の写真
用の紫外線吸収剤、公知の写真用酸化防止剤、及び公知
のカラー画像形成剤との相m(生、その可撓性、熱安定
性等が好影響を受けるように選択することができる。
合させるためのエチレン糸小飽和単針体は形成される共
重合体の物理的性り1(および/または化学的性質例え
ばm解度、写真二10イド組成物の結合剤、例えばゼラ
チンあるい1.1他の写J(用添加剤例えば公知の写真
用の紫外線吸収剤、公知の写真用酸化防止剤、及び公知
のカラー画像形成剤との相m(生、その可撓性、熱安定
性等が好影響を受けるように選択することができる。
例えば添υ11する親水性コロイド層を硬くする目的で
ラテックスそのものを硬くする場合は、ガラス転移点(
1”g)の高いコモノマー(91J エu:スチレン、
メチルメタアクリレート)を用いるのが好゛ましい。
ラテックスそのものを硬くする場合は、ガラス転移点(
1”g)の高いコモノマー(91J エu:スチレン、
メチルメタアクリレート)を用いるのが好゛ましい。
本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマーラテックスは
乳化重合法で作ってもよく、あるいは紫夕)線吸収性単
量体の重合で得られた:¥+l油性ポリマーを有4′8
溶媒中(1+Qえば酢酸エヂル)にmかしたものをゼラ
チン水溶液中にて界面活性剤どともに攪拌(7てラテッ
クスの形で分散して作ってもよい。
乳化重合法で作ってもよく、あるいは紫夕)線吸収性単
量体の重合で得られた:¥+l油性ポリマーを有4′8
溶媒中(1+Qえば酢酸エヂル)にmかしたものをゼラ
チン水溶液中にて界面活性剤どともに攪拌(7てラテッ
クスの形で分散して作ってもよい。
これらの方法はホモ重合体の形成」?よび共重合体の形
成にも応用でき、彼渚の〃2)合、コモノマーは液体コ
モノマーであれば乳化3111合の場合に常態で固体で
ある紫外線吸収性単量体の、/7Iめのn・I媒と(2
ても作用するブCめ好まし7いエチレン糸不J胞、[1
1固体Qii体のフリーラジカル重合は化学的開始剤の
熱分解゛または酸化化化合物における1ス″1元剤の作
用(レドックス1〕1]始剤)゛または物理的作用例え
ば紫外線または他の高エネルギー輻射、高周波等により
形成きれるフリーラジカルの単量体分子に付加すること
によって開始される。
成にも応用でき、彼渚の〃2)合、コモノマーは液体コ
モノマーであれば乳化3111合の場合に常態で固体で
ある紫外線吸収性単量体の、/7Iめのn・I媒と(2
ても作用するブCめ好まし7いエチレン糸不J胞、[1
1固体Qii体のフリーラジカル重合は化学的開始剤の
熱分解゛または酸化化化合物における1ス″1元剤の作
用(レドックス1〕1]始剤)゛または物理的作用例え
ば紫外線または他の高エネルギー輻射、高周波等により
形成きれるフリーラジカルの単量体分子に付加すること
によって開始される。
主な化学的開始剤としては、パーサルフェート(5すえ
ば、アンモニウムあるいはカリラムノく一サルフェート
等)、過酸化水素、過酸化物(例えば、ペンゾイルパー
オギツイド、クロロペンゾイルノ(−オキザイド昏)、
アゾニトリル化合物などがあげられる。普通のレドック
ス開始剤には過酸化水素−鉄(1丁)塩、過(P[【酸
カリウムー亜硫酸カリウム、セリウム塩アルコール等が
ある、 開始剤の例およびその作用はF、人、Bovey著[’
−Emulsion Polymerization
IntergcienC:e Publishes I
nc、 Now York発行 /?J!年 第59−
第93頁に記載されている。
ば、アンモニウムあるいはカリラムノく一サルフェート
等)、過酸化水素、過酸化物(例えば、ペンゾイルパー
オギツイド、クロロペンゾイルノ(−オキザイド昏)、
アゾニトリル化合物などがあげられる。普通のレドック
ス開始剤には過酸化水素−鉄(1丁)塩、過(P[【酸
カリウムー亜硫酸カリウム、セリウム塩アルコール等が
ある、 開始剤の例およびその作用はF、人、Bovey著[’
−Emulsion Polymerization
IntergcienC:e Publishes I
nc、 Now York発行 /?J!年 第59−
第93頁に記載されている。
乳化重合の際用いられる乳化剤としく−は界面活性を持
つ(ヒ合物が用いられ好ましく#41スルホイ・−トお
よびザルフェート、カチオン化0・物、両性化合物およ
び尚分子保護コロイドが挙げられる。これらの群の例お
よびそれらの作用iJ’、 He l g i s c
h eChemische Industriei
、2丁巻第76〜.20頁(/ 9 A 7年)に記載
されている。
つ(ヒ合物が用いられ好ましく#41スルホイ・−トお
よびザルフェート、カチオン化0・物、両性化合物およ
び尚分子保護コロイドが挙げられる。これらの群の例お
よびそれらの作用iJ’、 He l g i s c
h eChemische Industriei
、2丁巻第76〜.20頁(/ 9 A 7年)に記載
されている。
一方親油性ボリマー井外線吸収剤をゼラチン水溶液中に
ラテックスの形で分散する際、親油性ポリマー紫外線吸
収剤を溶解するために用いる有機溶媒は分散液を塗布す
る前あるいは(あまシ好“ましくないが)塗布した分散
液の乾燥中の気化の際に除かれる。溶媒を除去する方法
としてはたとえば、ゼラチンヌードル型で水洗すること
により除去しうるようにある程度水溶性のもの、および
噴霧乾燥、真空′または水蒸気パージング法によって除
かれるものがある。
ラテックスの形で分散する際、親油性ポリマー紫外線吸
収剤を溶解するために用いる有機溶媒は分散液を塗布す
る前あるいは(あまシ好“ましくないが)塗布した分散
液の乾燥中の気化の際に除かれる。溶媒を除去する方法
としてはたとえば、ゼラチンヌードル型で水洗すること
により除去しうるようにある程度水溶性のもの、および
噴霧乾燥、真空′または水蒸気パージング法によって除
かれるものがある。
又、この除去しうる有機溶媒としてt、I: エステル
(例えハ低級アルキルエステル)、匹級アルキルエーテ
ル、ケトン、ハロゲン化炭化水素(例えば塩化メチレン
−まプζはトリクロルエチレン等)、フッ素化炭化水素
、アルコール(例えll−11、ハーブチルないしオク
チルまでのアルコール)およびそれらの431合せを包
含する。
(例えハ低級アルキルエステル)、匹級アルキルエーテ
ル、ケトン、ハロゲン化炭化水素(例えば塩化メチレン
−まプζはトリクロルエチレン等)、フッ素化炭化水素
、アルコール(例えll−11、ハーブチルないしオク
チルまでのアルコール)およびそれらの431合せを包
含する。
親油性ポリマー紫外線吸収剤を分散する分散剤として1
は、どのような形式のものを用いてもよいが、イオン性
界面活性剤特にアニ、Jン性型のものが好適である。
は、どのような形式のものを用いてもよいが、イオン性
界面活性剤特にアニ、Jン性型のものが好適である。
また、C−セチルベタイン、N−アルキルアミノプロピ
オン酸痣、N−アルキルイミノジプロピオン酸塩のよう
な両ME型のものも用いることもできる。
オン酸痣、N−アルキルイミノジプロピオン酸塩のよう
な両ME型のものも用いることもできる。
また永久的溶媒を用いるに当ってrよ、最終の乳剤層ま
た0親水性コロイド層の皮膜の厚ををできるだけ薄くし
て高い鮮鋭度を維持するためにできるかぎり少量である
方が好ましい。
た0親水性コロイド層の皮膜の厚ををできるだけ薄くし
て高い鮮鋭度を維持するためにできるかぎり少量である
方が好ましい。
本発明の紫外線吸収性ポリマーラテックス中に占める紫
外線吸収?jlJ部分(一般式(I)のモノマー)の割
合は通常j〜ioo重jft%が望iしいが、膜厚、安
定性の点でな−1特にjO〜700重括多が好−ましい
。
外線吸収?jlJ部分(一般式(I)のモノマー)の割
合は通常j〜ioo重jft%が望iしいが、膜厚、安
定性の点でな−1特にjO〜700重括多が好−ましい
。
以下に本発明の前記一般式[I)で表わされる紫外線吸
収性単量体の代表例を示すが、と、れによって本発明の
化a物が限定されるものではない。
収性単量体の代表例を示すが、と、れによって本発明の
化a物が限定されるものではない。
(2)
(3)
H
(4)
(5)
(7)
(8)
(9)
CH2=C−CONH
(10)
(l 1)
(12)
(13)
(14)
11
(15)
(16)
(1B)
(19)
(20)
II3
(21)
し。t15UN
外線吸収剤の好ましい組成の具体例を示す。
P−/〜P−、2/:例示化合物(1)〜(21)のホ
モポリマー P−,2,2:例示化合物(5):メチルメタアクリレ
ートー7:3 (重it比)の コポリマー p−,13:例示化合物(5):メチルメタアクリレー
ト=!:jのコポリマー P−,24t:例示化合物(5):メチルアクリレー)
=7 : jのコポリマー P−λ!:例示化合物(8):スチレンーr:zのコポ
リマー p−,2A:例示化合物(8):ブチルアクリレートエ
y、s:、2゜!のコポリ p−,27:例示化合物(1):メチルメタアクリレー
)+=7 : jのコポリマー p−、2r:例示化合物(1):メチルメタアクリレー
)−j : jのコポリマー P ’x 9m例示化合物(8):メチルアクリレー
)=7 : iのコポリマー p−3o;例示化合物(2):メチルメタアクリレ−ト
コよ:jのコポリマー p−3/:例示化合物(16):メチルヌクアクリレ−
1−=フ:Jのコボリート P−J、2:例示化合物(16):メチルアクリレート
j:jのコポリマー p−3i:例示化合物(tS):メチルメタクリレート
lr:、2(重置比)のコ ポリマー p−j≠:例示化合物(1B):メチルメタクリレート
ー!:3 (重りj比)の コポリマー p−3r:例示化合物(21):n−・ブチルアクリレ
−)、、、7:J(止爪比) のコポリマー 一般式CI]に相当する紫外線吸収性単敵体は、例れば
米国特許≠、200,4’Aμ号、同≠、/qs、qq
q号、Be1lsteins Handbuch de
rOrganichen Chemle (第7版)/
(7巻32/頁(/94t、2年)特開昭、tl−jA
l、10号等に記載の方法により合成される化合物とア
クリル酸′またはα−置換アクリル酸の酸ハライド例え
ばアクリロイルおよびメタアクリロイルクロライドとの
反応により合成することもできるし、特公昭≠2−.2
f/、2.2、特開昭4#−//10.2に記載されて
いる如くコーンアノ−3−フェニルアクリル酸トヒドロ
キシエチルアクリレー)・、ヒドロギシエチルメタアク
リレート、グリシジルアクリレート等との反応によって
も合成することができる。
モポリマー P−,2,2:例示化合物(5):メチルメタアクリレ
ートー7:3 (重it比)の コポリマー p−,13:例示化合物(5):メチルメタアクリレー
ト=!:jのコポリマー P−,24t:例示化合物(5):メチルアクリレー)
=7 : jのコポリマー P−λ!:例示化合物(8):スチレンーr:zのコポ
リマー p−,2A:例示化合物(8):ブチルアクリレートエ
y、s:、2゜!のコポリ p−,27:例示化合物(1):メチルメタアクリレー
)+=7 : jのコポリマー p−、2r:例示化合物(1):メチルメタアクリレー
)−j : jのコポリマー P ’x 9m例示化合物(8):メチルアクリレー
)=7 : iのコポリマー p−3o;例示化合物(2):メチルメタアクリレ−ト
コよ:jのコポリマー p−3/:例示化合物(16):メチルヌクアクリレ−
1−=フ:Jのコボリート P−J、2:例示化合物(16):メチルアクリレート
j:jのコポリマー p−3i:例示化合物(tS):メチルメタクリレート
lr:、2(重置比)のコ ポリマー p−j≠:例示化合物(1B):メチルメタクリレート
ー!:3 (重りj比)の コポリマー p−3r:例示化合物(21):n−・ブチルアクリレ
−)、、、7:J(止爪比) のコポリマー 一般式CI]に相当する紫外線吸収性単敵体は、例れば
米国特許≠、200,4’Aμ号、同≠、/qs、qq
q号、Be1lsteins Handbuch de
rOrganichen Chemle (第7版)/
(7巻32/頁(/94t、2年)特開昭、tl−jA
l、10号等に記載の方法により合成される化合物とア
クリル酸′またはα−置換アクリル酸の酸ハライド例え
ばアクリロイルおよびメタアクリロイルクロライドとの
反応により合成することもできるし、特公昭≠2−.2
f/、2.2、特開昭4#−//10.2に記載されて
いる如くコーンアノ−3−フェニルアクリル酸トヒドロ
キシエチルアクリレー)・、ヒドロギシエチルメタアク
リレート、グリシジルアクリレート等との反応によって
も合成することができる。
本発明に用いる化合物の代表的な合成例を以下に示す。
[A]単量体化合物
合成例−1(例示化合物(5))
トルアルデヒド(t、toog)とンアノ酢酸(377
g)と酢(f (A Oml) と酢酸アンモニウム(
2j、J、9)全エチルアルコール(i、i、1)中で
弘間間加熱還流する。反応後、減圧下にエチルアルコー
ルをtootnliで濃縮し、氷水/ l Kあけると
結晶が析出する。析出した結晶を吸引濾過し、エチルア
ルコール、2ノから再結晶すると1.210〜2/!
0Cで溶融するλ−シアノー3−(弘−メチルフェニル
)−アクリル(llヲj′tOiの収量で得る。この化
合物(3,2o 、9)と塩化チオニル(u j 、2
g)をアセトニトリル(200mg)中1時間加熱溶
解し、反応後減圧下にアセトニトリルと塩化チオニルを
留去し、得られた固体をヒドロキシエチルメタアクリレ
ート (,2≠≠。、rg)、ピリジン(lILt9g
)、アセトニトリル(2))の溶液に添加する。反応温
度を≠o ’C以下におさえながら、1時間反応させる
。反応後、反応液を氷水にあけ晶析し、得られた結晶を
エチルアルコール(3))から再結晶すると7≠〜7t
”Cで溶融する目的物5toIlを得る。
g)と酢(f (A Oml) と酢酸アンモニウム(
2j、J、9)全エチルアルコール(i、i、1)中で
弘間間加熱還流する。反応後、減圧下にエチルアルコー
ルをtootnliで濃縮し、氷水/ l Kあけると
結晶が析出する。析出した結晶を吸引濾過し、エチルア
ルコール、2ノから再結晶すると1.210〜2/!
0Cで溶融するλ−シアノー3−(弘−メチルフェニル
)−アクリル(llヲj′tOiの収量で得る。この化
合物(3,2o 、9)と塩化チオニル(u j 、2
g)をアセトニトリル(200mg)中1時間加熱溶
解し、反応後減圧下にアセトニトリルと塩化チオニルを
留去し、得られた固体をヒドロキシエチルメタアクリレ
ート (,2≠≠。、rg)、ピリジン(lILt9g
)、アセトニトリル(2))の溶液に添加する。反応温
度を≠o ’C以下におさえながら、1時間反応させる
。反応後、反応液を氷水にあけ晶析し、得られた結晶を
エチルアルコール(3))から再結晶すると7≠〜7t
”Cで溶融する目的物5toIlを得る。
IR,NMR,元素分析結果により[1的物を確認した
。
。
元素分析値(C,□H1□NO4)
理論値 H:j、 7.2% Cニア+r、 、2.
2% N:F、 Af%実験値H:j、 7.t% C
:A1. /A% N:4’、 7(,07゜合成例−
2(例1示化合物(8)) ベンズアルデヒド(、zoog)と、シアノ酢酸(/7
49)と酢酸(30,ll1)と酢酸アンモニウム(i
p、rB をエチルアルコール(1’ 00 ml)中
でV時間加熱還流する。反応後減圧下にエチルアルコー
ルをtitoomtまで濃縮し、氷水llにあけ晶近し
、得られた結晶をアセトニトリル210iから再結晶す
ると、/III〜irr 0cで浴融するλ−シアノー
3−フェニルアクリル酸を、2A!iの収量で得る。こ
の化合物(ljOg)と、塩化チオニル(/ 7 A
p)をアセトニトリル(loo、1)中1時間加熱溶解
し、反応後減圧下にアセトニトリルと塩化チオニルを留
去し、得られた固体をヒドロキシエチルメタアクリレー
ト (1,21ftg)、ピリジン(”y)、アセトニ
トリル(/ l)の溶液に添加する。反応温度を≠0°
C以下におさえなからコ時間反応させる。反応佼、反応
液を氷水にあけ晶析し、得られた結晶をエチルアルコー
ル(/ l)から再結晶−Jると1.!:、f〜70
Cで浴融する目的物λozgを得る。
2% N:F、 Af%実験値H:j、 7.t% C
:A1. /A% N:4’、 7(,07゜合成例−
2(例1示化合物(8)) ベンズアルデヒド(、zoog)と、シアノ酢酸(/7
49)と酢酸(30,ll1)と酢酸アンモニウム(i
p、rB をエチルアルコール(1’ 00 ml)中
でV時間加熱還流する。反応後減圧下にエチルアルコー
ルをtitoomtまで濃縮し、氷水llにあけ晶近し
、得られた結晶をアセトニトリル210iから再結晶す
ると、/III〜irr 0cで浴融するλ−シアノー
3−フェニルアクリル酸を、2A!iの収量で得る。こ
の化合物(ljOg)と、塩化チオニル(/ 7 A
p)をアセトニトリル(loo、1)中1時間加熱溶解
し、反応後減圧下にアセトニトリルと塩化チオニルを留
去し、得られた固体をヒドロキシエチルメタアクリレー
ト (1,21ftg)、ピリジン(”y)、アセトニ
トリル(/ l)の溶液に添加する。反応温度を≠0°
C以下におさえなからコ時間反応させる。反応佼、反応
液を氷水にあけ晶析し、得られた結晶をエチルアルコー
ル(/ l)から再結晶−Jると1.!:、f〜70
Cで浴融する目的物λozgを得る。
■R,% NMR,元素分析結果により目的物を解認し
た。
た。
元素分析値(C16H14NO4)
理論値 )(:II、 ?t%C:A7.AO%N:p
、p3%実験値 )(:l/L、f7%C:A7.4Z
% N:4Z、??多CB3重合体化合物 合成例−3例示化合物(5)のホモポリマーラテックス オレイルメチルタウライドのすl・リウム塩lOgのA
OOmlの水溶液を攪拌下栓々に窒素気流を通じつつ9
0°Cに加熱した。この混合物に過硫酸カリウム3JO
〜の20m1水溶液を加えた。次いで紫外線吸収性単量
体(5)topをエタノール、200m1に加熱溶解し
、添加した。添加後、1時間I3〜9Q 0Cで加熱攪
拌し/L後、過硫酸カリウム/jO〜の10づ水溶液を
加え、さらに1時間反応した後、エタノールを水の共沸
混合物として留去した。形成したラテックスを冷却しp
HをIN−水酸化ナトリウムでt、oに調整したのち濾
過した。ラテックスの重合体濃度は7゜lr/チを示し
た。渣たラテックス液tit水溶媒系で33onmの吸
収極太を示した。
、p3%実験値 )(:l/L、f7%C:A7.4Z
% N:4Z、??多CB3重合体化合物 合成例−3例示化合物(5)のホモポリマーラテックス オレイルメチルタウライドのすl・リウム塩lOgのA
OOmlの水溶液を攪拌下栓々に窒素気流を通じつつ9
0°Cに加熱した。この混合物に過硫酸カリウム3JO
〜の20m1水溶液を加えた。次いで紫外線吸収性単量
体(5)topをエタノール、200m1に加熱溶解し
、添加した。添加後、1時間I3〜9Q 0Cで加熱攪
拌し/L後、過硫酸カリウム/jO〜の10づ水溶液を
加え、さらに1時間反応した後、エタノールを水の共沸
混合物として留去した。形成したラテックスを冷却しp
HをIN−水酸化ナトリウムでt、oに調整したのち濾
過した。ラテックスの重合体濃度は7゜lr/チを示し
た。渣たラテックス液tit水溶媒系で33onmの吸
収極太を示した。
合成例−V
例示化合物(5)と、メチルメタアクリレートとのコポ
リマーラテックスオレイルメチルタウライドのナトリウ
ム塩7jf/の4t1.の水浴液を攪拌下栓々に窒素気
流を通じつつ900Cに加熱した。
リマーラテックスオレイルメチルタウライドのナトリウ
ム塩7jf/の4t1.の水浴液を攪拌下栓々に窒素気
流を通じつつ900Cに加熱した。
この混合物に過硫酸カリウムλ、AIの10ml水溶液
を加えた。
を加えた。
次いで紫外線吸収性単量体(s)loopとメチルメタ
アクリレートtopをllのエタノールに溶解し、添加
した。添加後7時間r!〜q o OCで加熱攪拌した
後過硫酸カリウム/、/yの、20d水溶液を加え、さ
らに1時間反応した後、エタノール及び、未反応のメチ
ルメタアクリレートを水の共沸混合物として留去した。
アクリレートtopをllのエタノールに溶解し、添加
した。添加後7時間r!〜q o OCで加熱攪拌した
後過硫酸カリウム/、/yの、20d水溶液を加え、さ
らに1時間反応した後、エタノール及び、未反応のメチ
ルメタアクリレートを水の共沸混合物として留去した。
形成したラテックスを冷却し、pHをIN−水酸化ナト
リウムで乙。0に調整したのち濾過した。ラテックスの
重合体濃度は9.j2係、窒素分析値は形成された共重
合体が7ざ、9%の紫外線吸収V1三モノマーユニット
を含有していることを示した。またラテックス液は水溶
媒系で3.27nmの吸収極大を示した、 合成例−f 親油性ポリマー紫外線吸収剤の合成例−1紫外線吸収性
単鎖体(s)2/pとメチルアクリレート9Iとをジオ
キサン730m1に溶用frシ、窒素気流下71:)0
Cで加熱攪拌しながらジオキサンj ml K溶解した
λ、λ′〜アゾビスーCノ、≠−ジメチルバレロニ)・
リル)270■を加えた後1時間反応した。次にこの生
成物を氷水−!!中に注ぎ、析出する固体を炉別L7、
さらに十分、水で洗浄した。この生成物を乾燥すること
により親油性ポリマー紫外線吸収剤2オ、39を得た。
リウムで乙。0に調整したのち濾過した。ラテックスの
重合体濃度は9.j2係、窒素分析値は形成された共重
合体が7ざ、9%の紫外線吸収V1三モノマーユニット
を含有していることを示した。またラテックス液は水溶
媒系で3.27nmの吸収極大を示した、 合成例−f 親油性ポリマー紫外線吸収剤の合成例−1紫外線吸収性
単鎖体(s)2/pとメチルアクリレート9Iとをジオ
キサン730m1に溶用frシ、窒素気流下71:)0
Cで加熱攪拌しながらジオキサンj ml K溶解した
λ、λ′〜アゾビスーCノ、≠−ジメチルバレロニ)・
リル)270■を加えた後1時間反応した。次にこの生
成物を氷水−!!中に注ぎ、析出する固体を炉別L7、
さらに十分、水で洗浄した。この生成物を乾燥すること
により親油性ポリマー紫外線吸収剤2オ、39を得た。
この親油性ポリマー紫外線吸収剤は窒奏分析により形成
された共M合体が、441.3%のジS外線吸収性モノ
マーユニットを含有していることを示した。
された共M合体が、441.3%のジS外線吸収性モノ
マーユニットを含有していることを示した。
紫外線吸収性ポリマーラテックス(A)の製法まず以下
のようにして(a)と (b)の1種の溶液を調整した
。
のようにして(a)と (b)の1種の溶液を調整した
。
(a) 骨ゼラチンの10m贋%水溶液(pHj、+
。
。
3j 0Cにおいて)70gを3λ0Cに加熱溶解する
。
。
(b) 上記親油性ポリマーpgをir 0cにおい
て酢酸エチル、2ogに溶解し、ドデシルベンゼンスル
ポン酸ナトリウム塩の70重猷係メタノール溶液を加え
る。次いて(a)と(b)を爆発防止混合機に入れ、7
分間高速でlfl押した後、混合機を停止し、酢酸エチ
ルを減圧留去した。このようにして親油性ポリマー紫外
線吸収剤を希ゼラチン水浴液中に分11tシたラテック
スを作った。
て酢酸エチル、2ogに溶解し、ドデシルベンゼンスル
ポン酸ナトリウム塩の70重猷係メタノール溶液を加え
る。次いて(a)と(b)を爆発防止混合機に入れ、7
分間高速でlfl押した後、混合機を停止し、酢酸エチ
ルを減圧留去した。このようにして親油性ポリマー紫外
線吸収剤を希ゼラチン水浴液中に分11tシたラテック
スを作った。
合成例−を
親油性ポリマー紫外線吸収剤の合成レリーλ紫外線吸収
性単鼠体(5)t3jjとメチルメタアクリレート、2
7.9とをジオキサン4’ 、t Om1VcfjJ解
し、窒素気流下70°Cで加熱I蹟拌しながら、ジオキ
サンltdににイ解したλ 、l / −7ゾビス〜
(,2,II−ジメチルバレロニトリル)Ilomfを
加えた後1時間反応した。次にこの生成物を氷水!!中
に注ぎ析出する固体をp別し、さらに十分水、メタノー
ルで洗浄した。この生成物を乾燥することにより、親油
性ポリマー紫9′1純吸収剤Zrgを得た。この親油性
ポリマー紫外線吸収剤は窒素分析により形成された共重
合体がAに。3%の紫外線吸収性モノマーユニットを含
有しているCHC00CR ことを示した。λ 3 2 5=、3/jnma
X 紫外線吸収性ポリマーラテックス(B)の製法前記ポリ
マーラテックス(A)の製法と同様の処理をし、ポリマ
ーラテックス(B)を作った。
性単鼠体(5)t3jjとメチルメタアクリレート、2
7.9とをジオキサン4’ 、t Om1VcfjJ解
し、窒素気流下70°Cで加熱I蹟拌しながら、ジオキ
サンltdににイ解したλ 、l / −7ゾビス〜
(,2,II−ジメチルバレロニトリル)Ilomfを
加えた後1時間反応した。次にこの生成物を氷水!!中
に注ぎ析出する固体をp別し、さらに十分水、メタノー
ルで洗浄した。この生成物を乾燥することにより、親油
性ポリマー紫9′1純吸収剤Zrgを得た。この親油性
ポリマー紫外線吸収剤は窒素分析により形成された共重
合体がAに。3%の紫外線吸収性モノマーユニットを含
有しているCHC00CR ことを示した。λ 3 2 5=、3/jnma
X 紫外線吸収性ポリマーラテックス(B)の製法前記ポリ
マーラテックス(A)の製法と同様の処理をし、ポリマ
ーラテックス(B)を作った。
本発明に於ける紫外線吸収剤ポリマーラテックスの1史
用附については特に制限はないが/平方メートル当り/
0〜2. 000vsl、l持に、t O〜/ 。
用附については特に制限はないが/平方メートル当り/
0〜2. 000vsl、l持に、t O〜/ 。
000■であることが好ましい。
本発明に於ける紫外線吸収ポリマージテックスの添加用
Bjは支持体とハロゲン化銀乳剤層との間の層(9Il
えばアンチノ・レーション層)又はゼラチンパック層で
ある。
Bjは支持体とハロゲン化銀乳剤層との間の層(9Il
えばアンチノ・レーション層)又はゼラチンパック層で
ある。
本発明の感光材料としてはカラーネガフィルム、カラー
リバーザルフィルム、カラーペーパー及ヒカラー拡散転
写法感材などを挙げることが出来る。
リバーザルフィルム、カラーペーパー及ヒカラー拡散転
写法感材などを挙げることが出来る。
以下に本発明のハロゲン化銀写A感光材料の紫外線吸収
剤ポリマーラテックス以外の組成及び現像処理方法等に
ついて簡単に記載する。
剤ポリマーラテックス以外の組成及び現像処理方法等に
ついて簡単に記載する。
本発明の親水性コロイド層の保護コロイドとして目1、
ゼラチン音用いるのが有利であるが、それ以外の親水性
コロイドも用いることができる。
ゼラチン音用いるのが有利であるが、それ以外の親水性
コロイドも用いることができる。
本発明のハロゲン化銀乳剤l−に用いられるハロゲン化
銀として臭化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀、塩臭化銀およ
び塩化銀のいずれを用いてもよい。
銀として臭化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀、塩臭化銀およ
び塩化銀のいずれを用いてもよい。
・・ロゲン化銀粒子形成または物理熟成の過程において
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩ま7′Ci”tその錯塩、ロジウム塩またはその錯
塩、鉄塩または鉄錯塩などを共存させてもよい。
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩ま7′Ci”tその錯塩、ロジウム塩またはその錯
塩、鉄塩または鉄錯塩などを共存させてもよい。
本発明のハロゲン化銀乳剤は通常の方法で化学増感する
ことが出来る。
ことが出来る。
本発明の写真感光材料には色形成カプラー、j″なわち
発色現像処理において芳香族1級アミン現像薬(例えば
、フェニレンジアミン誘導体や、アミンフェノール誘導
体など)との酸化カップリングによって発色しうる化合
物を例えば、マゼンタカプラーとして、j−ビラゾロン
カプラー、ビラゾロベンツイミダゾールカプラー、シア
ノアセチルクマロンカプラー、開鎖アシルアセトニトリ
ルカプラー等があり、イエローカプラーとして、アシル
アセトアミドカプラー(fLtはベンゾイルアセトアニ
リド類、ピメeロイルアセトアニリド類j1等があり、
シアンカプラーとして、ナフトールカプラー、およびフ
ェノールカプラー、等がある。
発色現像処理において芳香族1級アミン現像薬(例えば
、フェニレンジアミン誘導体や、アミンフェノール誘導
体など)との酸化カップリングによって発色しうる化合
物を例えば、マゼンタカプラーとして、j−ビラゾロン
カプラー、ビラゾロベンツイミダゾールカプラー、シア
ノアセチルクマロンカプラー、開鎖アシルアセトニトリ
ルカプラー等があり、イエローカプラーとして、アシル
アセトアミドカプラー(fLtはベンゾイルアセトアニ
リド類、ピメeロイルアセトアニリド類j1等があり、
シアンカプラーとして、ナフトールカプラー、およびフ
ェノールカプラー、等がある。
これらのカプラーは分子中にパラスト基とよばれる疎水
基全方Tる非拡散のものが望ましい。カプラーは銀イオ
ンに対しV当量性あるいtよコ当量性のどちらでもよい
。また色補正の効果音もつカラードカプラー、あるいは
現像にともなって現像抑制剤を放出するカプラー(いわ
ゆるDI几カゾラー)であっても工い。
基全方Tる非拡散のものが望ましい。カプラーは銀イオ
ンに対しV当量性あるいtよコ当量性のどちらでもよい
。また色補正の効果音もつカラードカプラー、あるいは
現像にともなって現像抑制剤を放出するカプラー(いわ
ゆるDI几カゾラー)であっても工い。
またLAIRカプラー以外にも、カップリング反応の生
成物が無色であって現像j臭fllll /’ilJを
放出する無呈色DI几カップリング化合物を含んでもよ
い。
成物が無色であって現像j臭fllll /’ilJを
放出する無呈色DI几カップリング化合物を含んでもよ
い。
本発明を実施するに際して下記の公知の退色防止剤を併
用することもでき、1fc2i・、清明に用いる色像安
定剤は単独または、2種以上併用することもできる。公
知の退色防止剤としては゛、ハ・イドロキノン誘導体、
没食子酸誘導体、p−アル、コキシフエノーJ′L類、
p−オキシフェノール誘導体及びビスフェノール類等が
6る。
用することもでき、1fc2i・、清明に用いる色像安
定剤は単独または、2種以上併用することもできる。公
知の退色防止剤としては゛、ハ・イドロキノン誘導体、
没食子酸誘導体、p−アル、コキシフエノーJ′L類、
p−オキシフェノール誘導体及びビスフェノール類等が
6る。
さらに本発明の感光月別のその他の稍々の素材、例えば
界面活性剤、ゼラチン硬化剤、?RF)剤、カブリ防止
剤、安定化剤、帯電防止剤、化学増感剤、増感色素、染
F)、増白剤色カプリ防止剤、マット剤、支持体等につ
いてはRe5carcb Disclosure/7t
、 、2/〜、i!J’ (/り7g年/−月)に記載
されている如き当業界でよく知られた累拐全いづれも用
いることが出来る。
界面活性剤、ゼラチン硬化剤、?RF)剤、カブリ防止
剤、安定化剤、帯電防止剤、化学増感剤、増感色素、染
F)、増白剤色カプリ防止剤、マット剤、支持体等につ
いてはRe5carcb Disclosure/7t
、 、2/〜、i!J’ (/り7g年/−月)に記載
されている如き当業界でよく知られた累拐全いづれも用
いることが出来る。
さらに本発明の感光材料のj:(九現像条件に関しても
’?4に制限はなく上記几esearcb I)isc
losureの、2J’〜30負の記載全参考に°ノー
ることが出来る。
’?4に制限はなく上記几esearcb I)isc
losureの、2J’〜30負の記載全参考に°ノー
ることが出来る。
さらに実施例を挙げて本発明を詳J用VC説明Tるが、
本発明けこれに限定されるものではない。
本発明けこれに限定されるものではない。
実施例1
セルローストリアセテートフィルム支持体IK、下記P
C示すような組成の各層よりなる多層カラー感光材料全
作製しl(。
C示すような組成の各層よりなる多層カラー感光材料全
作製しl(。
第1層:ハレーション防止層(AJII、)思色コロイ
ド銀全含むゼラチン層 第−ノー:中間層(ML) λ、!−ジーt−オクチルハイドロキノンの乳化分散物
を含むゼラチン層 第3層:第1赤感乳剤Jfi5()tLl)沃臭化銀乳
剤(沃化銀;jモルト用・・銀塗布量
/、7Pr/フル2増感色累■・・・
・・・銀1モルに対してAX70 モル 増感色素■・・・・・・銀1モルに対し−C/ 、jX
/ 0 モル カプラーA・・曲・銀1モルニ対し−c0.0μモルカ
プラーC−/・・・・・・釧1モルに対シて01001
1モル カプラーC−λ・・・・・・銀1モルに対して0.00
/タモル カプラーD−・・・・銀1モルに対してo、ooo(、
モル 第μ層:第λ赤感乳剤層(几L2) 沃臭化銀乳剤(沃化銀:qそル%)・・・・・・銀塗布
H(、/ 、 4’ t / m2 増感色素I・・・・・・銀1モルに対して3×10
モル 増感色素■・・・・・・#!1モルに対して/、、2×
10 モル カプラーA・・・・・・釧1モルに対してo、oλモル カプラーC−/・・・・・・銀1モルに対してo、oo
otモル カプラーC−λ・・・・・・銀1モルに対してO1θo
orモル 第j/脅:中間J脅(ML) 第、2層と同じ 第を層:第1緑感乳剤層(GLI) 沃臭化銀乳剤(沃化銀:グモルチ)・・・・・・塗布銀
量 /、jf’/m2増感色
素■・・・・・・銀1モルに対して3×lOモル 増感色素■・・・・・・銀1モルに対し−〔/X10
モル カプラーB・・・・・・銀1モルに対し−〔O、OSS
モルカブラ−−/・・・・・・銀1モルに対してo 、
ooyモル カプラーD・・・・・・銀1モルに対して0.00/よ
モル 第7層:第1緑感乳剤層(GL2) 沃臭化銀乳剤(沃化銀:jモルチ)・・・・・・塗布銀
量 /、AY/m2増感色累
■・・・・・・銀1モルに対してλ、jxio モ
ル 増感色素■・・・・・・銀1モルに対してo、rxio
モル カプラーB・・・・・・銀1モルに対しで0.0.2モ
ルカプラーM=/・・・・・・銀1モルに対してo、o
o、tモル カプラーD・・・・・・銀/モノしに対して0.000
3モル parm:イエローフィルタ一層(Yli’l、)ゼラ
チン水浴液中に黄色コロ・1ド銀とλ・j−ジー1−オ
クチルノ・イドロキノンの乳化分散物とを含むゼラチン
/L 第21偏:第1青感乳剤層CB、Ll)沃臭化銀乳剤(
沃化銀:6モル%)・・・・・・塗布銀]t
/ 、 J’ ?/nL2カプラー
Y−/・・・・・・銀1モルに対して0.2タモル 前記の化合物(8)・・・・・・銀1モルに対してo
、oosモル 化合物(8)はカプラーY−/と共に乳化分散して添加
した。
ド銀全含むゼラチン層 第−ノー:中間層(ML) λ、!−ジーt−オクチルハイドロキノンの乳化分散物
を含むゼラチン層 第3層:第1赤感乳剤Jfi5()tLl)沃臭化銀乳
剤(沃化銀;jモルト用・・銀塗布量
/、7Pr/フル2増感色累■・・・
・・・銀1モルに対してAX70 モル 増感色素■・・・・・・銀1モルに対し−C/ 、jX
/ 0 モル カプラーA・・曲・銀1モルニ対し−c0.0μモルカ
プラーC−/・・・・・・釧1モルに対シて01001
1モル カプラーC−λ・・・・・・銀1モルに対して0.00
/タモル カプラーD−・・・・銀1モルに対してo、ooo(、
モル 第μ層:第λ赤感乳剤層(几L2) 沃臭化銀乳剤(沃化銀:qそル%)・・・・・・銀塗布
H(、/ 、 4’ t / m2 増感色素I・・・・・・銀1モルに対して3×10
モル 増感色素■・・・・・・#!1モルに対して/、、2×
10 モル カプラーA・・・・・・釧1モルに対してo、oλモル カプラーC−/・・・・・・銀1モルに対してo、oo
otモル カプラーC−λ・・・・・・銀1モルに対してO1θo
orモル 第j/脅:中間J脅(ML) 第、2層と同じ 第を層:第1緑感乳剤層(GLI) 沃臭化銀乳剤(沃化銀:グモルチ)・・・・・・塗布銀
量 /、jf’/m2増感色
素■・・・・・・銀1モルに対して3×lOモル 増感色素■・・・・・・銀1モルに対し−〔/X10
モル カプラーB・・・・・・銀1モルに対し−〔O、OSS
モルカブラ−−/・・・・・・銀1モルに対してo 、
ooyモル カプラーD・・・・・・銀1モルに対して0.00/よ
モル 第7層:第1緑感乳剤層(GL2) 沃臭化銀乳剤(沃化銀:jモルチ)・・・・・・塗布銀
量 /、AY/m2増感色累
■・・・・・・銀1モルに対してλ、jxio モ
ル 増感色素■・・・・・・銀1モルに対してo、rxio
モル カプラーB・・・・・・銀1モルに対しで0.0.2モ
ルカプラーM=/・・・・・・銀1モルに対してo、o
o、tモル カプラーD・・・・・・銀/モノしに対して0.000
3モル parm:イエローフィルタ一層(Yli’l、)ゼラ
チン水浴液中に黄色コロ・1ド銀とλ・j−ジー1−オ
クチルノ・イドロキノンの乳化分散物とを含むゼラチン
/L 第21偏:第1青感乳剤層CB、Ll)沃臭化銀乳剤(
沃化銀:6モル%)・・・・・・塗布銀]t
/ 、 J’ ?/nL2カプラー
Y−/・・・・・・銀1モルに対して0.2タモル 前記の化合物(8)・・・・・・銀1モルに対してo
、oosモル 化合物(8)はカプラーY−/と共に乳化分散して添加
した。
第io)ω:第、2青感乳剤層(BL2)沃臭化銀(沃
化銀:tモルチ)・・・・・・塗布銀量/、/y/m2 カプラーY−/・・・・・・銀1モルに対して0.01
モル 第1/層:保護層(P L ) ポリメチルメタアクリレート粒子(ik径約/。
化銀:tモルチ)・・・・・・塗布銀量/、/y/m2 カプラーY−/・・・・・・銀1モルに対して0.01
モル 第1/層:保護層(P L ) ポリメチルメタアクリレート粒子(ik径約/。
jμ)を含むゼラチン層を塗布。
各層には上記組成物の他に、ゼラチン硬化剤や界面活性
剤を添加した。
剤を添加した。
試料全作るのに用いた化合物
増感色素Iニア/ヒドロ−j−6’−ジクロロ−3・3
7 .9 (γ−スルホゾロピル)−ターエチルーチ
アカルポシアニンヒドロヤサイド・ピリジニウム」jに 増感色素II:アンヒドロー2−二チノド・−3・3′
−シー(γ−スルポプロピル)−μ・」−V′5/−ジ
ペンゾチア力ルポシアニンヒドロギサイド・トリエチル
アミン塩 増感色素■I:アンヒドロー7−エチルー!−、!r’
−シクロロー3・3’−ジー(r−スルホゾロビル)オ
キサカルボシアニン・ナトリウム塩増感色累■:アンヒ
ドローj−A−j’・6′−テトラクロロ−/・/′−
ジエチルーJ・3′−ジー(β−〔β−(γ−スルポゾ
ロホギシ)エトキシ〕エチルイミダゾロ力ルボシアニン
ヒドロキザイドナトリウム塩 カプラーB カプラーC−λ カプラーD iia カプラーM−/ カプラーY−/ H3 上記試料を試料IとしfC6 試料IQハレーション防止層に合成flljおよびt″
′c′c調製ポリマーラテックス(A)および(B)全
容々の1)う121体(r)、(j)および下記構造(
λ7ン全有する系外線吸収剤の単■体と比較するために
、<r>、(りおよび(,27)の乳化分散物(C)、
(D)および(E)k下記のように調製し、それぞれI
l、37/rrL2混合塗布した。
7 .9 (γ−スルホゾロピル)−ターエチルーチ
アカルポシアニンヒドロヤサイド・ピリジニウム」jに 増感色素II:アンヒドロー2−二チノド・−3・3′
−シー(γ−スルポプロピル)−μ・」−V′5/−ジ
ペンゾチア力ルポシアニンヒドロギサイド・トリエチル
アミン塩 増感色素■I:アンヒドロー7−エチルー!−、!r’
−シクロロー3・3’−ジー(r−スルホゾロビル)オ
キサカルボシアニン・ナトリウム塩増感色累■:アンヒ
ドローj−A−j’・6′−テトラクロロ−/・/′−
ジエチルーJ・3′−ジー(β−〔β−(γ−スルポゾ
ロホギシ)エトキシ〕エチルイミダゾロ力ルボシアニン
ヒドロキザイドナトリウム塩 カプラーB カプラーC−λ カプラーD iia カプラーM−/ カプラーY−/ H3 上記試料を試料IとしfC6 試料IQハレーション防止層に合成flljおよびt″
′c′c調製ポリマーラテックス(A)および(B)全
容々の1)う121体(r)、(j)および下記構造(
λ7ン全有する系外線吸収剤の単■体と比較するために
、<r>、(りおよび(,27)の乳化分散物(C)、
(D)および(E)k下記のように調製し、それぞれI
l、37/rrL2混合塗布した。
Cll3−C−C[13
1
1111
塗布試料を順にn、 III、IV、■、■と称する。
これらの試料について下記の如き方法で塗布性及び帯電
防止性を測定し、表/に示1゛結果を得た。
防止性を測定し、表/に示1゛結果を得た。
〈塗布適性〉 壕ずAHL、MLを同時塗布した段階で
100ctn2当りに存在する30μ以上の油滴の敷金
かぞえた。全くないことが望ましく、50個以上存在す
る場合には、感光材料として用いることは不適切である
。
100ctn2当りに存在する30μ以上の油滴の敷金
かぞえた。全くないことが望ましく、50個以上存在す
る場合には、感光材料として用いることは不適切である
。
((f?電電防付性 未露光の試料を、2s0c10%
It Hで1時間調湿しlこ後、同一空調条件の暗室中
において、試料のバック面をゴムローラ及びナイロンバ
ーで摩擦しlc後、下記の3J、’、 ■処理全行なっ
てスタチックマークの発生度k iJ□1] ヘた。
It Hで1時間調湿しlこ後、同一空調条件の暗室中
において、試料のバック面をゴムローラ及びナイロンバ
ーで摩擦しlc後、下記の3J、’、 ■処理全行なっ
てスタチックマークの発生度k iJ□1] ヘた。
現像は下記に示す処理を用いた。
1、 カラー現像・・・・・・・・・・・・3分/J′
秒2 漂 白・・・・・・・・・・・・・・・・・・を
分30秒& 水 洗・・・・・・・・・・・・・・・・
・・3分/j秒t 足 府・・・・・・・・・・・・・
・・・・・2分30秒五 水 洗・・・・・・・・・・
・・・・・・・・3分/j秒改 安 定・・・・・・・
・・・・・・・・・・・3分/j秒各工程に用いた処理
液組成は下記のものである。
秒2 漂 白・・・・・・・・・・・・・・・・・・を
分30秒& 水 洗・・・・・・・・・・・・・・・・
・・3分/j秒t 足 府・・・・・・・・・・・・・
・・・・・2分30秒五 水 洗・・・・・・・・・・
・・・・・・・・3分/j秒改 安 定・・・・・・・
・・・・・・・・・・・3分/j秒各工程に用いた処理
液組成は下記のものである。
カラー現像液
ニトリロ三酢酸ナトリウム i、oy亜硫酸ナ
トリウム μ、oy炭酸すトリウム
30.θy臭化カリ
/、V2ヒドロキシルアミン硫酸塩
λ、弘?u−(N−エチル−N−βヒド ロキシエチルアミノ)−一一 メチル−アニリン硫酸塩 u、jy水を加えて
l l僅白液 臭化アンモニウム /10.Ofアンモニ
ア水(コt%) 、2よ、Omeエチレンジア
ミン−四酢酸すト リウム鉄塩 /30 F氷酢酸
/ 4/me水を加えて
/ e定着液 テトラポリリン酸ナトリウノ、 、z、oy
亜硫酸ナトリウム t、t、、oyチ
オ硫酸す′ンモニウム(7θ襲) / 7 J 、 0
rne重亜硫酸すトリウム 41 、
A r水を加えて / l
安定液 ホルマリン i、0mg水を加
えて / l上表中スタチ
ックマークの発生度の評価は、A:スタチックマークの
発生が全く認められず■3:
少し認められるC: I カ
ミり認められるD: # はt′l
:全面に認められる のび段階に分けて行った。
トリウム μ、oy炭酸すトリウム
30.θy臭化カリ
/、V2ヒドロキシルアミン硫酸塩
λ、弘?u−(N−エチル−N−βヒド ロキシエチルアミノ)−一一 メチル−アニリン硫酸塩 u、jy水を加えて
l l僅白液 臭化アンモニウム /10.Ofアンモニ
ア水(コt%) 、2よ、Omeエチレンジア
ミン−四酢酸すト リウム鉄塩 /30 F氷酢酸
/ 4/me水を加えて
/ e定着液 テトラポリリン酸ナトリウノ、 、z、oy
亜硫酸ナトリウム t、t、、oyチ
オ硫酸す′ンモニウム(7θ襲) / 7 J 、 0
rne重亜硫酸すトリウム 41 、
A r水を加えて / l
安定液 ホルマリン i、0mg水を加
えて / l上表中スタチ
ックマークの発生度の評価は、A:スタチックマークの
発生が全く認められず■3:
少し認められるC: I カ
ミり認められるD: # はt′l
:全面に認められる のび段階に分けて行った。
第1表から明らかなように、本発明の紫外線吸収ポリマ
ーラテックスを用いて’:i) 11!、防止し1こ試
料はスタチックマークの発生が殆んどII3められない
すぐれ^イ↑Y電肋止効果全Mすると共に、良好な塗布
性を示す。
ーラテックスを用いて’:i) 11!、防止し1こ試
料はスタチックマークの発生が殆んどII3められない
すぐれ^イ↑Y電肋止効果全Mすると共に、良好な塗布
性を示す。
実施例2 合成例(J)、 (4’)の例示化合物を
一’thそれ/、μccおよび/ 、A cc/m2、
下記化合物(−rンとブチルアクリレートの3//コポ
リマー(固形分濃度7.J、2チ)を合成例(4’)と
同様の処方で合成し、2 、/ cc/++t2、化合
物(コr ) ’(r実施例1の乳化処方で既出紫外線
吸収剤単量体の替シにゼラチン1otas水浴液に対し
λり、7v使用して調製した乳化物音p、J?/m2夾
施例1と同様K・・レーション防止層に混合塗布した試
料を順に、■、〜1且、■、Xとする。更に実施例1と
同様に塗布適性、帯布防止性を調べた結果を表−に示す
。
一’thそれ/、μccおよび/ 、A cc/m2、
下記化合物(−rンとブチルアクリレートの3//コポ
リマー(固形分濃度7.J、2チ)を合成例(4’)と
同様の処方で合成し、2 、/ cc/++t2、化合
物(コr ) ’(r実施例1の乳化処方で既出紫外線
吸収剤単量体の替シにゼラチン1otas水浴液に対し
λり、7v使用して調製した乳化物音p、J?/m2夾
施例1と同様K・・レーション防止層に混合塗布した試
料を順に、■、〜1且、■、Xとする。更に実施例1と
同様に塗布適性、帯布防止性を調べた結果を表−に示す
。
第2表によシ明らかなように41を電防正性及び塗布適
性を満足する試料は紫外線吸収性ポリマーラテックスを
含有するもののみである。
性を満足する試料は紫外線吸収性ポリマーラテックスを
含有するもののみである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも7つの感光性ハロゲン化銀乳剤層
と、少なくとも7つの非感光性層を有するハロゲン化銀
写真感光材料において、下記一般式CI]で表わされる
単量体から誘導される繰り返し単位を有する重合体又は
共重合体紫外線吸収性ポリマーラテックスを支持体と・
・ロゲン化銀乳剤層の間の親水性コロイド層又は、支持
体のハロゲン化銀乳剤層に対して反対側に存在する親水
性コロイド層に含有することを特徴とする・・ロゲン化
銀写真感光材料。 一般式CI] CH,、=C−X−(−At靭下Q 式中、Rは水素原子、炭素原子数/〜グの低級アルキル
基、−または塩素を表わし1.Xl−J: −C0NH
−1−coo−’Eたはフェニレン基を表わし7、Aは
炭素原子数/〜、20のアルキレン基又は炭素原子数A
−一〇のアリーレン基で示される連結基を弄わし、Yは
−coo −1−oco−1−CONH−1−N HC
0−1−8O2NH−1−NIISO2−1−8O2−
1又は−〇−を表わす。又、m +L: nは各々、O
又はlの整数を表わす。Qは下記一般式〔■〕又は〔n
]〕で示される紫外線吸収基を表わす。 一般式〔1F〕 式中、R1と■ζ2は各々水素原子、炭素原子数l−λ
Oのアルギル基又は同t〜、20のアリール基を表わし
、更に、R1とR2は互いに同一もしくは異っていても
よいが、同時に水素原子を表わすことはない。更KR,
とR2は結合して一体化してもよく、その場合r、xm
状アミノ基を形成するのに必快な原子団を表わす。R、
はシアノ基、−COOR5−CONHR5−CoI15
又は−802R5を表わし、R4はシアノ基、−COO
R6、−CONHR6、−COR,、又は−S 02
R6を表わし、R5とR6は各々炭素原子数/〜2.0
のアルキル基、同t−一〇のアリール基を表わし、史に
R5とR6は結合して一体化してもよく一体化した場合
け/、3−ジオギソシク1ノヘギザン、バルビッール酸
、/1.2−ジアザ−、?、 J′−ジオキソンクロ
ペンタン又i1x、p−ジノ゛ザー/−アセー ルコ片シー3.j−ジオキソシクIJ−\−1−21勺
ノの核を形成するのに必要な原子団を表わす。 但し、R1e R2* R3、R4ノうち少なくと
も7つは先に述べた連結基を介しビニル基と結合するも
のとする。 一般式[III ] R14R15 式中、■也11.R□2. R13,R□4及びR□5
は各々水素原子、ハロゲン原子、炭素数/〜−20のア
ルキル基、炭素数/−,20のアリール基、炭素数l〜
、20のアルコキシ基、炭素数A、、20のアIJ−ル
オキシ基、炭素数/〜20のアルキルチオ基、炭素数t
〜、20のアリールチオ基、アミノ基、炭素数/〜、2
0のアルキルアミノ基、炭素数t−λOのアリールアミ
ノ基、ヒドロキシ基、シアン基、ニトロ基、アシルアミ
ノ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル
基、スルポンアミド基、アシルオキシ基又はオギシカル
ボニル基を表わし、R1□とR□2.1尤1□とR13
、I(13とlt、、又はR14とR15は閉環して!
〜を員u1を形成してもよい。 R1(iは水素原子、炭素数/〜、20のアルキル基を
表わす。 R,71ま’/7/基、−C00R,9、−C0NHR
19、−COR19、又は−5O2R19を表わす。 R181−tンアノノ&% −COOR2(、−C0N
HR2o。 −COR2o1又は−5o2R2oを表ゎず。 R19とR20は各々、炭素数/〜、21S+のアルキ
ル基又は炭素数t〜、20のアリール基を表わす。 但し、■也111 R1□、 R,3,1勺43R
151”16 TR17及びR18の内の少なくとも7
つは先に述べた連結基を介してビニル基と結合するもの
とする。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57136612A JPS5926733A (ja) | 1982-08-05 | 1982-08-05 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
US06/712,314 US4645735A (en) | 1982-08-05 | 1985-03-13 | Silver halide photographic light-sensitive material containing ultraviolet ray absorbing polymer latex |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57136612A JPS5926733A (ja) | 1982-08-05 | 1982-08-05 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5926733A true JPS5926733A (ja) | 1984-02-13 |
JPH0127410B2 JPH0127410B2 (ja) | 1989-05-29 |
Family
ID=15179367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57136612A Granted JPS5926733A (ja) | 1982-08-05 | 1982-08-05 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4645735A (ja) |
JP (1) | JPS5926733A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61118749A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-06 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
JPH07305433A (ja) * | 1994-05-13 | 1995-11-21 | Minoru Shibazaki | 壁 体 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4791188A (en) * | 1987-12-21 | 1988-12-13 | Eastman Kodak Company | Condensation polymer containing the residue of a benzodioxylmethine compound and shaped articles produced therefrom |
US5362598A (en) * | 1989-04-10 | 1994-11-08 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Quinone diazide photoresist composition containing alkali-soluble resin and an ultraviolet ray absorbing dye |
US5286619A (en) * | 1992-04-15 | 1994-02-15 | Konica Corporation | Silver halide photographic light-sensitive material |
US5372922A (en) * | 1993-12-29 | 1994-12-13 | Eastman Kodak Company | Method of preparing photographic elements incorporating polymeric ultraviolet absorbers |
US5948605A (en) * | 1996-08-16 | 1999-09-07 | Eastman Kodak Company | Ultraviolet ray absorbing polymer latex compositions, method of making same, and imaging elements employing such particles |
IL160684A0 (en) * | 2001-09-04 | 2004-08-31 | Dow Global Technologies Inc | Process for coating solid particles |
RU2532916C2 (ru) * | 2013-02-22 | 2014-11-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Чувашский государственный университет имени И.Н. Ульянова" | Способ получения 2-циано-3-арилакриловых кислот |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58111942A (ja) * | 1981-12-25 | 1983-07-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS58178351A (ja) * | 1982-04-14 | 1983-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS5923344A (ja) * | 1982-07-30 | 1984-02-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1982
- 1982-08-05 JP JP57136612A patent/JPS5926733A/ja active Granted
-
1985
- 1985-03-13 US US06/712,314 patent/US4645735A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61118749A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-06 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
JPH0554937B2 (ja) * | 1984-11-14 | 1993-08-13 | Konishiroku Photo Ind | |
JPH07305433A (ja) * | 1994-05-13 | 1995-11-21 | Minoru Shibazaki | 壁 体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4645735A (en) | 1987-02-24 |
JPH0127410B2 (ja) | 1989-05-29 |
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