JPS5926733A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は］・ロゲン化銀写真感光イ：１月（以下、゛「
写真感光材料」と記す）に関し、特に塗布適性及び帯電
防止性を改良した写真感光材料に関する。

写真感光材料は一般に電気絶柿°コ性を有する支持体お
よび写ｉ〔層から成っているので写真感光材料の製造工
程中ならびに使用時に同種または異種物質の表面との間
の接角虫摩擦−１：たけ剥離をうけることによって靜Ｗ
ｔＬ荷が蓄積されることが多い、この蓄積された静電電
荷は多くの障害を引起すが、最も重大な障害は現像処理
前に蓄積された静電電荷が放電することによって感光性
乳剤層が感光し写真フィルムを現像処理した際に点状ス
ポット又は樹枝状や羽毛状の線肌を生ずることである。

これがいわゆるスタチックマークと呼ばれているもので
写真フィル１、の商品１ｉ１［ｉ値を著しく損ね場合に
よっては全く失なわしめる。例えば医療用又は工業用Ｘ
−レイフィルム等に現われた場合には非常に危険な判断
につながることは容易Ｋｇ識されるであろう、この現象
は現像してみ°〔初めて明らかになるもので非常に厄介
な問題の一つである。またこれらの蓄積された靜＋ｔｉ
電荷はフィルム表面へ塵埃が付着したり、塗布が均一に
行なえないなどの第１次的な故障を誘起せしめる原因に
もなる。

かかる靜電屯荷は前述したように写真感光材料の製造お
よび使用時にしばしは蓄積されるのである。例えば製造
工程に於ては写真フィルムとローラーとの接触摩郁ある
いは写Ｊ（〕・ｆルムの巻取り、巻戻し工程中での支持
体面と乳剤面の剥離等によって発生する。またはＸ−レ
イ７・ｒルムの自動撮影機中での機械部分あるいは螢光
増感紙との間の接触剥離等が原因となって発生し／こり
、カラーネガフィルム、カラー反転フィルムに於ては、
カメラ内や現像所における接合機、自動現像機でゴム、
金属、グラスチック等のローフ−、バーとの接触剥離に
より発生する、その他包装材料との接触などでも発生す
る。かかる静電電荷の蓄積によって誘起される写真感光
材料のスタチックマークは写Ｘ感光材料の感度の上昇お
よび処理速度の増加によって顕著となる。特に最近にお
いては、写真感光材料の高感度化および高速塗布、高速
撮影、高速自動処理化等の苛酷な取り扱いを受ける機会
が多くなったことによって一層スタチックマークの発生
が生じやすくなっている。

これらの静電気による障害をなくするための一つの方法
として写真感光材料に紫夕８線吸収剤を用いる方法があ
る。これはスフブーツクーｌ−りを生じせしめる放電発
光の分光エネルギー分布が２００ｎｍ−ｊｏｏｎｒｎで
あ”）ｓ　’ｈ’ｌｃ　３００〜４’　００ｎｍにかけ
ての強度が著しく、この範囲の光エネルギーがスタテッ
クマーク発生の原因になっていることから米ているので
ある。従来より、例えば特公昭６０−１０７．２Ａ号公
報、特開１１ｊイ、ｆ／−２Ａ。

０２／号明細書、仏画特許第２，０３ｔ、／、７９号明
イＩＩＩ　４！ｊ、等に記載されているように紫外線吸
収剤により、特に２００〜４ｔｏｏＨＨ）の紫外線光を
遮光することによりスタチックマーク発生を防止する試
みがなされて来た。紫外線吸収剤は保ｆＵ層や、青感層
に用いられる外、パック側での族１１１発光による赤感
層のスタチックマークを防止するために、ハレーション
防止層（ＡＩ−Ｉ）又は、ゼラチンバック＋４（ＢＣ）
に用いることができる。しかしながらＡ、Ｈ又はＢＣに
紫外線吸収剤をオイル乳化した乳化物を添加して塗布す
ると塗布性が著るしく悪化することがあった。これｔｉ
ｔ　、いわゆる油滴と称する乳化に用いたオイル（高沸
点有機溶剤）Ｋよる面のハジキ現象で、乳化物が多いほ
ど、又、乳化物を溶解経時する時間の永いほど発生しや
すいことが分っている。この現象のために、ＡＨＩｇや
ＢＣ層に用いる乳化物の鼠を制限する８敦があシ、その
ため充分な帯電防止性を写真感光材料に所持せしめるこ
とが困難であった１、 従って本発明の第一の目的は塗布適性を改良した写真感
光材料を提供することにある。

本発明の第二の目的はスタチックマークの発生ことにバ
ック面での放電による発生をｔヨとんど防止した写真感
光飼料を辺供することにある。

本発明者らは鋭意検討した結果、本発明のこれらの目的
は下記一般式ＣＩ）で表わされる単量体から誘４される
繰返し単位を有する重合体又は共重合体紫外線吸収性ポ
リマーラテックスを乳剤層と支持体の間もしくは支持体
の乳剤層とは反対側に存在する親水性コロイド層に用い
ることにより達成きれる事を見出した。

一般式［Ｉ］ ＣＨ２＝　Ｃ−Ｘ−＋Ａ÷而イ面　、）−ｊ−Ｑ式中Ｒ
は水素原子、炭素原子数／〜弘の低級アルギルノｃ（（
例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプ
ロピル基、ｎ−プチルノん等）、ま／こＶｉ塩素を表わ
し、Ｘは一〇〇ＮＨ−１−ＣＯＯ−またはフェニレン基
を表わし、ＡＶｉ炭素原子数ノ〜−〇のアルキレン基（
例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン：’！、
５１．２−ヒドロキシトリメチレン基、ペンタメチレン
基、ヘキザメチレン基、エチルエチレン基、フロピレン
基、テカメチレン基６）、又は炭素原子数１−．２θの
アリーレン基（ｌ＋ｌＩえばフェニレン基等）で示さノ
する連結基を表わし、Ｙは−ＣＯＯ−１−ｏｃｏ−１−
ＣＯＮＨ−１−ＮＨＣＯ−１−８Ｏ２ＮＨ−１−ＮＩＩ
ＳＯ□−１−ＳＯ２−１又は−〇−を表わす。またｎｌ
とｎは各々Ｏまたはｌの整数を表わす。

Ｑｉｉ下記一般式〔■〕、又は〔■〕で表わされる紫外
線吸収性基を表わす。

一般式ＣＩ［） 式中、Ｒ１とＲ２は各々水素原子、炭素原子数／〜、２
０のアルキル基（例えばメチルノン、エチル基、ｎ−ブ
チル基、シクロヘキシル基、ｎ〜ドデシル基、フタデシ
ル基、メトキシエチル基、エトキシプロピル基、ヒドロ
ギシエチル基、クロロプロピル蒸、シアノエチル基、フ
ェネチル基、ヘンジノｋＬ　エトキシカルボニルメチル ーヒドロキシエトギシ）エテルＷ：等）、又は炭素原子
数に〜．２０のアリール基（例えば、トリル基、フェニ
ル基、り【ｊロフェニル基、λ，４ｔ−シーｔ−アミル
フェニル基等）を表わし、更にＲ□とＲ２は互いに同一
もしくは異っていても、１、いが、同時に水奏原子を表
わすことはない。更にＲ１とＲ２は一体化してもよく、
その場合ｉ；ｔ　］ｆｆＹ状アミノ基（例えば、ピペリ
ジノ基、モルホリノ基、ピロリジノ基、ヘキサヒドロア
ゼピノ基、ピペラジノ基等）を形成するのに必要な原子
団を表わす。Ｒ３はシアノ基、−ＣＯＯＲ−ＣＯＮＩＩ
Ｒ４ｉ１−ＣＯ）こい１ 又は−ＳＯ□Ｒ５を表わし、Ｒ４ｒ、Ｉシアノ基、−Ｃ
００Ｒ−ＣＯＮＩＩＲ６−ＣＯＲ６，３／、）ｊ−８０
２Ｒ６を表わし、ＲとＲ６は各々炭素原子数／〜、２０
のアルキル基、同４−２０のアリール基を表わし、Ｉ工
１Ｑｌ：Ｒ２が表わすアルキル基、アリ−・ル基と同意
義である。四にＲ５とＲ６は結合して一体化してもよく
、一体化した場合は、／、３−ジオキソシクロヘキセン
環（例えば、ジメドン、等）、’＋３−ジアザーλ、　
　４’、　　＆−トリオキンシクロヘキサンＦＪ　（Ｉ
ＩＩＪエババルビッール酸、／−フェエソレバルビツー
ル酸浄）、／、、２−ジアザ−ｊ、ｊ−ジオキソシクロ
ペンタン環（例えば／、２−ジアザ−／、−一ジメチル
ー３．！−ジオキソシクロペンクン等）、又はコ、４ｔ
−ジサザー／−アルコキシ−ｊ、ｊ−ジオキノシクロヘ
キセンｍ　　＜ｖ＋＞ｔば、λ、１ＬＬ−ジアザー／−
エトキシ−ｌ−エチル−３゜ｊ−ジオキソシクロヘキセ
ン等）全形成するのに必要な原子団を表わす。

更にＪ、Ｒ２，Ｒ３，及びＲ４のうち少ｌくとも１つは
先に述べた連結基を介Ｌ　、ビニル基と結合するものと
する。

一般式〔１Ｆ〕において好ましく　１．目ζ１とＲ２１
−１：各々炭素数ｌ〜λＯのアルキル基イｊ：表わし、
Ｒ３はシアン基、又は−５Ｏ２Ｒ５を賢わし、Ｒ４はシ
アノ基、又は−Ｃ００Ｒ６を表わす。Ｒ５とＲ６は各々
炭素数１−２０のアルキル基又れ１炭素数ｔ〜λ０のア
リール基を衆わす。

一般式〔１■〕において特に好ましくはＲ１とＩ１２は
炭素数／〜乙のアルキル基を表わし、Ｒ３は一８Ｏ２Ｒ
５を表し、Ｒ４は−Ｃ００Ｒ６を表わす。

Ｒ５は、置換してもよいフェニル基（例えばフェニル基
、トリル基等）を表わし、Ｒ６は炭素数／〜、２０のア
ルキル基を表わす。

一般式ＣＴＩ［］ 式中１Ｒ１１・Ｒ１２・Ｒ１３・■也１４及びＲ１５は
各々水素原子、ハロゲン原子（例えば川床原子、臭素原
子等）、炭素数／〜、２０のアルギル基（例えばメチル
基、エチル基、ｈ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基、ｔ−アミル基、ｎ−オクチル基、メトキシエチ
ル基、エトキシプロピル基、クロロプロピル基、ベンジ
ル基、等）、炭素数ｔ〜２０のアリール基（例えば、フ
ェニル基、トリル基、クロロフェニル基等）、炭素数７
〜．２０（７）アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、メトキシエトキシ基等）、炭
素数ｔ、、２０のアリールオキシ基（例えば、フェノキ
シ基等）、炭素数／〜、２（７のアルキルチオ基（倒れ
に、メチルチオ基、プロピルチオ基等）、炭素Ｑｔ〜−
Ｏのアリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、アミ
ン基、炭素数／〜λθのアルギルアミノ基（例えば、メ
チルアミン基、゛ジメチルアミノ基等）、炭素数ｌ〜−
０のアリールアミノ基（例オーば、アニリノ基、ジフェ
ニルアミノ基等）、ヒドロギア基、／アノ基、ニトロ基
、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基等）、カ
ルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基等）、ス
ルホニル２９（ｆｉｌえば、メチルスルホニル基、フェ
ニルスルホニル＆等）　、スルファモイル基（例えばエ
チルスルファモイル、４１）　、スルホンアミド基（例
えば、メタンスルポンアミドＭ等）　、７シルオキシ基
（例え６．１’　、アセトキシ基等）、又はオキシカル
ボニル基（例えば、メトキシカルボニル基等）、を表わ
し、Ｒ１□とＲ１□ｅ　Ｒ，□とＲ１３＃Ｒ１３とＲ１
４又けＲ１４とＲ１５け閉ルして！またはｔは央を形成
してもよい（例えばメチレンジオキシ基４９−）。

Ｒ１６は水素原子、炭素数／〜−□のアルキル基（例え
ば、メチル基、エチル基、１１−プロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｎ−オクチル基等）、を表わす。

Ｒはシアン基、−ＣＯＯＲ、−ＣＯＮＨＲ１９，１７１
９ −ＣＯＲ，９、又は−５Ｏ２Ｒ１９を表わし、Ｒ１８は
シアン基、−ＣＯＯＲ２ｏ、−ＣＯＮＨＲ２ｏ。

−ＣＯＲ２ｏ又は−Ｓ　０２Ｒ２０を表わ［−７、Ｒ１
９とＲ２゜は各々先に述べた様なアルキル基、アリール
基を表わす。

史に■え１１１ＲＩ。＋　Ｒｔａ、　Ｒ１４１Ｒ１，、
Ｒ，６，Ｒ１□。

ＲｌＢのうち少なくとも１つは先に述べた連結基を介し
、ビニル基と結合するものどする１、一般式Ｃ１１１］
に於てＲ１１，Ｒ１□、１也１３１　Ｒ１４１及びＲ１
５は各々水素原子、ハ１１ゲンハ；１子、炭素数／〜２
０のアルキル基、炭素数６〜２０のアＩＪ−ル基、炭素
数／　、−，２０のアルコキシ基、炭素数２〜．２０の
アリールオキシ基、炭素数／〜、２０のアルキルアミノ
基、炭素数ｔ−２０のアリールアミノ基、ヒドロキ７基
、アシルアミノ基、カルバモイル基、アシルオキシ基、
オキシカルボニル基を表わし、Ｒ１□とＲ１□、Ｒ１□
とＲ１３、Ｒ，３とＲ１４スはＲ１４とＲ工、は閉環し
てもよい。Ｒ１（Ｊは、水素原子、炭′ｇ数／−，２θ
のアルキル基を表わし、Ｒ１□はシフ／基、−ＣＯＯＲ
，０、−ＣＯＮＨＲ、−ＣＯＲ１０、９ 又は−Ｓ　Ｏ２Ｒ１ｅを表わし、Ｒ１８けシアン基、−
ＣＯＯＲ２ｏ、−ＣＯＮＨＲ２ｏ、　−ＣＯＲ２，、又
は−８Ｏ□Ｒ２ｏを表わし、Ｒ１，と１′１２ｏは各々
炭素数／〜、２０のアルキル基、炭素数Ａ−，２０のア
リール基を表わす。更しこＲ１４ｔＲ１□、　　Ｒ１３
，Ｒ１４ｔＲ１５ｓ　Ｒ１６ｐ　Ｒ１７＃及びＩ”１８
　のうち少なくとも１つけ先に述べた連結基を介し、ビ
ニル基と結合するものとする。

前記一般式ＣＩ］て表わさｙする化合物において特に好
ましくは、Ｒけ水素原子、炭素数ｌ〜参の低級アルキル
基、−または塩素を表わし、Ｘは−ＣＯＯ−を表わし、
ｍとｎは０を表わす。Ｑけ一般式［Ｉ　ＩＩＩ　］で示
される紫外線吸収性基を表わし、一般式［ＩＩＴ　）に
於てｌえ１１．Ｒ□２１　　Ｒ１４及びＲ１，は各々水
素原子を表わし、Ｒ１３は水素原子又は炭素数／〜！の
アルキル基を表わし、Ｉｔ、、け水素原子、ＲＩ７はシ
アノ基、■（□８は−Ｃ００Ｒ２ｏを表わし、Ｒは炭素
数／〜２０のアルキレン基を示し、ビ０ ニル基と結合するものとする。

又、紫外線吸収性単量体と共重合する際に［重用するｌ
１ｌ−ｈｌ１体（コモノマー）は、アクリル酸、ｆｌ−
クロロアクリル酸、α−アルアクリル酸（例えばメタア
クリル酸などのアクリル酸類から誘導されるエステル好
ましくは、低級アルキルエステルおよびアミド例えばア
クリルアミド、メタアクリルアミド、メチルアクリレ−
１−、メチルメタアクリレート、エチルアクリレート、
エチルメタ゛アクリレート、ｎ−プロピルアクリレート
、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−へキシルアクＩＪ　Ｌ
／−１・秒よびラウリルメタアクリレート等）、ビニル
ニス−２ル（例えばビニルアセテート等）、アクリロニ
トリル、メタアクリロニトリル、芳香族ビニル化合物（
例えばスチレンおよびその誘導体、例えばビニルトルエ
ン、ジビニルベンゼン等）、イタコン酸、クロトン酸、
ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル（ｆＬ
ｔｉｉ：、ビニルエチルエーテル等）、マレイン酸エス
テル、Ｎ−ビニル−λ−ピロリドン、Ｎ−ビニルピリジ
ン、−一およびｌ−ビニルピリジン等がある。

このうちｌ峙ｔこアクリル酸エステル、メタアクリル酸
エステル、芳香族ビニル化合物が好ましい。

上記コモノマー化合物の、２棟以」二を一緒に使用する
こともできる。

例えば、ｎ−ブチルアクリレートとジビニルベンゼン、
スチレンとメチルメタアクリレート、メチルアクリレー
トとメタアクリル酸等を使用できる。

前記一般式ＣＩ］に相当する紫外線吸収性単量体と共重
合させるためのエチレン糸小飽和単針体は形成される共
重合体の物理的性り１（および／または化学的性質例え
ばｍ解度、写真二１０イド組成物の結合剤、例えばゼラ
チンあるい１．１他の写Ｊ（用添加剤例えば公知の写真
用の紫外線吸収剤、公知の写真用酸化防止剤、及び公知
のカラー画像形成剤との相ｍ（生、その可撓性、熱安定
性等が好影響を受けるように選択することができる。

例えば添υ１１する親水性コロイド層を硬くする目的で
ラテックスそのものを硬くする場合は、ガラス転移点（
１”ｇ）の高いコモノマー（９１Ｊ　エｕ：スチレン、
メチルメタアクリレート）を用いるのが好゛ましい。

本発明に用いられる紫外線吸収性ポリマーラテックスは
乳化重合法で作ってもよく、あるいは紫夕）線吸収性単
量体の重合で得られた：￥＋ｌ油性ポリマーを有４′８
溶媒中（１＋Ｑえば酢酸エヂル）にｍかしたものをゼラ
チン水溶液中にて界面活性剤どともに攪拌（７てラテッ
クスの形で分散して作ってもよい。

これらの方法はホモ重合体の形成」？よび共重合体の形
成にも応用でき、彼渚の〃２）合、コモノマーは液体コ
モノマーであれば乳化３１１１合の場合に常態で固体で
ある紫外線吸収性単量体の、／７Ｉめのｎ・Ｉ媒と（２
ても作用するブＣめ好まし７いエチレン糸不Ｊ胞、［１
１固体Ｑｉｉ体のフリーラジカル重合は化学的開始剤の
熱分解゛または酸化化化合物における１ス″１元剤の作
用（レドックス１〕１］始剤）゛または物理的作用例え
ば紫外線または他の高エネルギー輻射、高周波等により
形成きれるフリーラジカルの単量体分子に付加すること
によって開始される。

主な化学的開始剤としては、パーサルフェート（５すえ
ば、アンモニウムあるいはカリラムノく一サルフェート
等）、過酸化水素、過酸化物（例えば、ペンゾイルパー
オギツイド、クロロペンゾイルノ（−オキザイド昏）、
アゾニトリル化合物などがあげられる。普通のレドック
ス開始剤には過酸化水素−鉄（１丁）塩、過（Ｐ［【酸
カリウムー亜硫酸カリウム、セリウム塩アルコール等が
ある、 開始剤の例およびその作用はＦ、人、Ｂｏｖｅｙ著［’
−Ｅｍｕｌｓｉｏｎ　　Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ
ＩｎｔｅｒｇｃｉｅｎＣ：ｅ　Ｐｕｂｌｉｓｈｅｓ　Ｉ
ｎｃ、　Ｎｏｗ　Ｙｏｒｋ発行　／？Ｊ！年　第５９−
第９３頁に記載されている。

乳化重合の際用いられる乳化剤としく−は界面活性を持
つ（ヒ合物が用いられ好ましく＃４１スルホイ・−トお
よびザルフェート、カチオン化０・物、両性化合物およ
び尚分子保護コロイドが挙げられる。これらの群の例お
よびそれらの作用ｉＪ’、　Ｈｅ　ｌ　ｇ　ｉ　ｓ　ｃ
　ｈ　ｅＣｈｅｍｉｓｃｈｅ　　Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｉ
、２丁巻第７６〜．２０頁（／　９　Ａ　７年）に記載
されている。

一方親油性ボリマー井外線吸収剤をゼラチン水溶液中に
ラテックスの形で分散する際、親油性ポリマー紫外線吸
収剤を溶解するために用いる有機溶媒は分散液を塗布す
る前あるいは（あまシ好“ましくないが）塗布した分散
液の乾燥中の気化の際に除かれる。溶媒を除去する方法
としてはたとえば、ゼラチンヌードル型で水洗すること
により除去しうるようにある程度水溶性のもの、および
噴霧乾燥、真空′または水蒸気パージング法によって除
かれるものがある。

又、この除去しうる有機溶媒としてｔ、Ｉ：　エステル
（例えハ低級アルキルエステル）、匹級アルキルエーテ
ル、ケトン、ハロゲン化炭化水素（例えば塩化メチレン
−まプζはトリクロルエチレン等）、フッ素化炭化水素
、アルコール（例えｌｌ−１１、ハーブチルないしオク
チルまでのアルコール）およびそれらの４３１合せを包
含する。

親油性ポリマー紫外線吸収剤を分散する分散剤として１
は、どのような形式のものを用いてもよいが、イオン性
界面活性剤特にアニ、Ｊン性型のものが好適である。

また、Ｃ−セチルベタイン、Ｎ−アルキルアミノプロピ
オン酸痣、Ｎ−アルキルイミノジプロピオン酸塩のよう
な両ＭＥ型のものも用いることもできる。

また永久的溶媒を用いるに当ってｒよ、最終の乳剤層ま
た０親水性コロイド層の皮膜の厚ををできるだけ薄くし
て高い鮮鋭度を維持するためにできるかぎり少量である
方が好ましい。

本発明の紫外線吸収性ポリマーラテックス中に占める紫
外線吸収？ｊｌＪ部分（一般式（Ｉ）のモノマー）の割
合は通常ｊ〜ｉｏｏ重ｊｆｔ％が望ｉしいが、膜厚、安
定性の点でな−１特にｊＯ〜７００重括多が好−ましい
。

以下に本発明の前記一般式［Ｉ）で表わされる紫外線吸
収性単量体の代表例を示すが、と、れによって本発明の
化ａ物が限定されるものではない。

（２） （３） Ｈ （４） （５） （７） （８） （９） ＣＨ２＝Ｃ−ＣＯＮＨ （１０） （ｌ　１） （１２） （１３） （１４） １１ （１５） （１６） （１Ｂ） （１９） （２０） ＩＩ３ （２１） し。ｔ１５ＵＮ 外線吸収剤の好ましい組成の具体例を示す。

Ｐ−／〜Ｐ−、２／：例示化合物（１）〜（２１）のホ
モポリマー Ｐ−，２，２：例示化合物（５）：メチルメタアクリレ
ートー７：３　（重ｉｔ比）の コポリマー ｐ−，１３：例示化合物（５）：メチルメタアクリレー
ト＝！：ｊのコポリマー Ｐ−，２４ｔ：例示化合物（５）：メチルアクリレー）
＝７　：　ｊのコポリマー Ｐ−λ！：例示化合物（８）：スチレンーｒ：ｚのコポ
リマー ｐ−，２Ａ：例示化合物（８）：ブチルアクリレートエ
ｙ、ｓ：、２゜！のコポリ ｐ−，２７：例示化合物（１）：メチルメタアクリレー
）＋＝７　：　ｊのコポリマー ｐ−、２ｒ：例示化合物（１）：メチルメタアクリレー
）−ｊ　：　ｊのコポリマー Ｐ　　’ｘ　９ｍ例示化合物（８）：メチルアクリレー
）＝７　：　ｉのコポリマー ｐ−３ｏ；例示化合物（２）：メチルメタアクリレ−ト
コよ：ｊのコポリマー ｐ−３／：例示化合物（１６）：メチルヌクアクリレ−
１−＝フ：Ｊのコボリート Ｐ−Ｊ、２：例示化合物（１６）：メチルアクリレート
ｊ：ｊのコポリマー ｐ−３ｉ：例示化合物（ｔＳ）：メチルメタクリレート
ｌｒ：、２（重置比）のコ ポリマー ｐ−ｊ≠：例示化合物（１Ｂ）：メチルメタクリレート
ー！：３　（重りｊ比）の コポリマー ｐ−３ｒ：例示化合物（２１）：ｎ−・ブチルアクリレ
−）、、、７：Ｊ（止爪比） のコポリマー 一般式ＣＩ］に相当する紫外線吸収性単敵体は、例れば
米国特許≠、２００，４’Ａμ号、同≠、／ｑｓ、ｑｑ
ｑ号、Ｂｅ１ｌｓｔｅｉｎｓ　Ｈａｎｄｂｕｃｈ　ｄｅ
ｒＯｒｇａｎｉｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍｌｅ　（第７版）／
（７巻３２／頁（／９４ｔ、２年）特開昭、ｔｌ−ｊＡ
ｌ、１０号等に記載の方法により合成される化合物とア
クリル酸′またはα−置換アクリル酸の酸ハライド例え
ばアクリロイルおよびメタアクリロイルクロライドとの
反応により合成することもできるし、特公昭≠２−．２
ｆ／、２．２、特開昭４＃−／／１０．２に記載されて
いる如くコーンアノ−３−フェニルアクリル酸トヒドロ
キシエチルアクリレー）・、ヒドロギシエチルメタアク
リレート、グリシジルアクリレート等との反応によって
も合成することができる。

本発明に用いる化合物の代表的な合成例を以下に示す。

［Ａ］単量体化合物 合成例−１（例示化合物（５）） トルアルデヒド（ｔ、ｔｏｏｇ）とンアノ酢酸（３７７
ｇ）と酢（ｆ　（Ａ　Ｏｍｌ）　と酢酸アンモニウム（
２ｊ、Ｊ、９）全エチルアルコール（ｉ、ｉ、１）中で
弘間間加熱還流する。反応後、減圧下にエチルアルコー
ルをｔｏｏｔｎｌｉで濃縮し、氷水／　ｌ　Ｋあけると
結晶が析出する。析出した結晶を吸引濾過し、エチルア
ルコール、２ノから再結晶すると１．２１０〜２／！　
０Ｃで溶融するλ−シアノー３−（弘−メチルフェニル
）−アクリル（ｌｌヲｊ′ｔＯｉの収量で得る。この化
合物（３，２ｏ　、９）と塩化チオニル（ｕ　ｊ　、２
　ｇ）をアセトニトリル（２００ｍｇ）中１時間加熱溶
解し、反応後減圧下にアセトニトリルと塩化チオニルを
留去し、得られた固体をヒドロキシエチルメタアクリレ
ート　（，２≠≠。、ｒｇ）、ピリジン（ｌＩＬｔ９ｇ
）、アセトニトリル（２））の溶液に添加する。反応温
度を≠ｏ　’Ｃ以下におさえながら、１時間反応させる
。反応後、反応液を氷水にあけ晶析し、得られた結晶を
エチルアルコール（３））から再結晶すると７≠〜７ｔ
”Ｃで溶融する目的物５ｔｏＩｌを得る。

ＩＲ，ＮＭＲ，元素分析結果により［１的物を確認した
。

元素分析値（Ｃ，□Ｈ１□ＮＯ４） 理論値　Ｈ：ｊ、　７．２％　　Ｃニア＋ｒ、　、２．
２％　Ｎ：Ｆ、　Ａｆ％実験値Ｈ：ｊ、　７．ｔ％　Ｃ
：Ａ１．　／Ａ％　Ｎ：４’、　７（，０７゜合成例−
２（例１示化合物（８）） ベンズアルデヒド（、ｚｏｏｇ）と、シアノ酢酸（／７
４９）と酢酸（３０，ｌｌ１）と酢酸アンモニウム（ｉ
ｐ、ｒＢ　をエチルアルコール（１’　００　ｍｌ）中
でＶ時間加熱還流する。反応後減圧下にエチルアルコー
ルをｔｉｔｏｏｍｔまで濃縮し、氷水ｌｌにあけ晶近し
、得られた結晶をアセトニトリル２１０ｉから再結晶す
ると、／ＩＩＩ〜ｉｒｒ　０ｃで浴融するλ−シアノー
３−フェニルアクリル酸を、２Ａ！ｉの収量で得る。こ
の化合物（ｌｊＯｇ）と、塩化チオニル（／　７　Ａ　
ｐ）をアセトニトリル（ｌｏｏ、１）中１時間加熱溶解
し、反応後減圧下にアセトニトリルと塩化チオニルを留
去し、得られた固体をヒドロキシエチルメタアクリレー
ト　（１，２１ｆｔｇ）、ピリジン（”ｙ）、アセトニ
トリル（／　ｌ）の溶液に添加する。反応温度を≠０°
Ｃ以下におさえなからコ時間反応させる。反応佼、反応
液を氷水にあけ晶析し、得られた結晶をエチルアルコー
ル（／　ｌ）から再結晶−Ｊると１．！：、ｆ〜７０　
Ｃで浴融する目的物λｏｚｇを得る。

■Ｒ，％　ＮＭＲ，元素分析結果により目的物を解認し
た。

元素分析値（Ｃ１６Ｈ１４ＮＯ４） 理論値　）（：ＩＩ、　？ｔ％Ｃ：Ａ７．ＡＯ％Ｎ：ｐ
、ｐ３％実験値　）（：ｌ／Ｌ、ｆ７％Ｃ：Ａ７．４Ｚ
％　Ｎ：４Ｚ、？？多ＣＢ３重合体化合物 合成例−３例示化合物（５）のホモポリマーラテックス オレイルメチルタウライドのすｌ・リウム塩ｌＯｇのＡ
ＯＯｍｌの水溶液を攪拌下栓々に窒素気流を通じつつ９
０°Ｃに加熱した。この混合物に過硫酸カリウム３ＪＯ
〜の２０ｍ１水溶液を加えた。次いで紫外線吸収性単量
体（５）ｔｏｐをエタノール、２００ｍ１に加熱溶解し
、添加した。添加後、１時間Ｉ３〜９Ｑ　０Ｃで加熱攪
拌し／Ｌ後、過硫酸カリウム／ｊＯ〜の１０づ水溶液を
加え、さらに１時間反応した後、エタノールを水の共沸
混合物として留去した。形成したラテックスを冷却しｐ
ＨをＩＮ−水酸化ナトリウムでｔ、ｏに調整したのち濾
過した。ラテックスの重合体濃度は７゜ｌｒ／チを示し
た。渣たラテックス液ｔｉｔ水溶媒系で３３ｏｎｍの吸
収極太を示した。

合成例−Ｖ 例示化合物（５）と、メチルメタアクリレートとのコポ
リマーラテックスオレイルメチルタウライドのナトリウ
ム塩７ｊｆ／の４ｔ１．の水浴液を攪拌下栓々に窒素気
流を通じつつ９００Ｃに加熱した。

この混合物に過硫酸カリウムλ、ＡＩの１０ｍｌ水溶液
を加えた。

次いで紫外線吸収性単量体（ｓ）ｌｏｏｐとメチルメタ
アクリレートｔｏｐをｌｌのエタノールに溶解し、添加
した。添加後７時間ｒ！〜ｑ　ｏ　ＯＣで加熱攪拌した
後過硫酸カリウム／、／ｙの、２０ｄ水溶液を加え、さ
らに１時間反応した後、エタノール及び、未反応のメチ
ルメタアクリレートを水の共沸混合物として留去した。

形成したラテックスを冷却し、ｐＨをＩＮ−水酸化ナト
リウムで乙。０に調整したのち濾過した。ラテックスの
重合体濃度は９．ｊ２係、窒素分析値は形成された共重
合体が７ざ、９％の紫外線吸収Ｖ１三モノマーユニット
を含有していることを示した。またラテックス液は水溶
媒系で３．２７ｎｍの吸収極大を示した、 合成例−ｆ 親油性ポリマー紫外線吸収剤の合成例−１紫外線吸収性
単鎖体（ｓ）２／ｐとメチルアクリレート９Ｉとをジオ
キサン７３０ｍ１に溶用ｆｒシ、窒素気流下７１：）０
Ｃで加熱攪拌しながらジオキサンｊ　ｍｌ　Ｋ溶解した
λ、λ′〜アゾビスーＣノ、≠−ジメチルバレロニ）・
リル）２７０■を加えた後１時間反応した。次にこの生
成物を氷水−！！中に注ぎ、析出する固体を炉別Ｌ７、
さらに十分、水で洗浄した。この生成物を乾燥すること
により親油性ポリマー紫外線吸収剤２オ、３９を得た。

この親油性ポリマー紫外線吸収剤は窒奏分析により形成
された共Ｍ合体が、４４１．３％のジＳ外線吸収性モノ
マーユニットを含有していることを示した。

紫外線吸収性ポリマーラテックス（Ａ）の製法まず以下
のようにして（ａ）と　（ｂ）の１種の溶液を調整した
。

（ａ）　　骨ゼラチンの１０ｍ贋％水溶液（ｐＨｊ、＋
。

３ｊ　０Ｃにおいて）７０ｇを３λ０Ｃに加熱溶解する
。

（ｂ）　　上記親油性ポリマーｐｇをｉｒ　０ｃにおい
て酢酸エチル、２ｏｇに溶解し、ドデシルベンゼンスル
ポン酸ナトリウム塩の７０重猷係メタノール溶液を加え
る。次いて（ａ）と（ｂ）を爆発防止混合機に入れ、７
分間高速でｌｆｌ押した後、混合機を停止し、酢酸エチ
ルを減圧留去した。このようにして親油性ポリマー紫外
線吸収剤を希ゼラチン水浴液中に分１１ｔシたラテック
スを作った。

合成例−を 親油性ポリマー紫外線吸収剤の合成レリーλ紫外線吸収
性単鼠体（５）ｔ３ｊｊとメチルメタアクリレート、２
７．９とをジオキサン４’　、ｔ　Ｏｍ１ＶｃｆｊＪ解
し、窒素気流下７０°Ｃで加熱Ｉ蹟拌しながら、ジオキ
サンｌｔｄににイ解したλ　、ｌ　／　　−７ゾビス〜
（，２，ＩＩ−ジメチルバレロニトリル）Ｉｌｏｍｆを
加えた後１時間反応した。次にこの生成物を氷水！！中
に注ぎ析出する固体をｐ別し、さらに十分水、メタノー
ルで洗浄した。この生成物を乾燥することにより、親油
性ポリマー紫９′１純吸収剤Ｚｒｇを得た。この親油性
ポリマー紫外線吸収剤は窒素分析により形成された共重
合体がＡに。３％の紫外線吸収性モノマーユニットを含
有しているＣＨＣ００ＣＲ ことを示した。λ　　３　　　２　５＝、３／ｊｎｍａ
Ｘ 紫外線吸収性ポリマーラテックス（Ｂ）の製法前記ポリ
マーラテックス（Ａ）の製法と同様の処理をし、ポリマ
ーラテックス（Ｂ）を作った。

本発明に於ける紫外線吸収剤ポリマーラテックスの１史
用附については特に制限はないが／平方メートル当り／
　０〜２．　０００ｖｓｌ、ｌ持に、ｔ　Ｏ〜／　。

０００■であることが好ましい。

本発明に於ける紫外線吸収ポリマージテックスの添加用
Ｂｊは支持体とハロゲン化銀乳剤層との間の層（９Ｉｌ
えばアンチノ・レーション層）又はゼラチンパック層で
ある。

本発明の感光材料としてはカラーネガフィルム、カラー
リバーザルフィルム、カラーペーパー及ヒカラー拡散転
写法感材などを挙げることが出来る。

以下に本発明のハロゲン化銀写Ａ感光材料の紫外線吸収
剤ポリマーラテックス以外の組成及び現像処理方法等に
ついて簡単に記載する。

本発明の親水性コロイド層の保護コロイドとして目１、
ゼラチン音用いるのが有利であるが、それ以外の親水性
コロイドも用いることができる。

本発明のハロゲン化銀乳剤ｌ−に用いられるハロゲン化
銀として臭化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀、塩臭化銀およ
び塩化銀のいずれを用いてもよい。

・・ロゲン化銀粒子形成または物理熟成の過程において
、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム塩、イリジウ
ム塩ま７′Ｃｉ”ｔその錯塩、ロジウム塩またはその錯
塩、鉄塩または鉄錯塩などを共存させてもよい。

本発明のハロゲン化銀乳剤は通常の方法で化学増感する
ことが出来る。

本発明の写真感光材料には色形成カプラー、ｊ″なわち
発色現像処理において芳香族１級アミン現像薬（例えば
、フェニレンジアミン誘導体や、アミンフェノール誘導
体など）との酸化カップリングによって発色しうる化合
物を例えば、マゼンタカプラーとして、ｊ−ビラゾロン
カプラー、ビラゾロベンツイミダゾールカプラー、シア
ノアセチルクマロンカプラー、開鎖アシルアセトニトリ
ルカプラー等があり、イエローカプラーとして、アシル
アセトアミドカプラー（ｆＬｔはベンゾイルアセトアニ
リド類、ピメｅロイルアセトアニリド類ｊ１等があり、
シアンカプラーとして、ナフトールカプラー、およびフ
ェノールカプラー、等がある。

これらのカプラーは分子中にパラスト基とよばれる疎水
基全方Ｔる非拡散のものが望ましい。カプラーは銀イオ
ンに対しＶ当量性あるいｔよコ当量性のどちらでもよい
。また色補正の効果音もつカラードカプラー、あるいは
現像にともなって現像抑制剤を放出するカプラー（いわ
ゆるＤＩ几カゾラー）であっても工い。

またＬＡＩＲカプラー以外にも、カップリング反応の生
成物が無色であって現像ｊ臭ｆｌｌｌｌ　／’ｉｌＪを
放出する無呈色ＤＩ几カップリング化合物を含んでもよ
い。

本発明を実施するに際して下記の公知の退色防止剤を併
用することもでき、１ｆｃ２ｉ・、清明に用いる色像安
定剤は単独または、２種以上併用することもできる。公
知の退色防止剤としては゛、ハ・イドロキノン誘導体、
没食子酸誘導体、ｐ−アル、コキシフエノーＪ′Ｌ類、
ｐ−オキシフェノール誘導体及びビスフェノール類等が
６る。

さらに本発明の感光月別のその他の稍々の素材、例えば
界面活性剤、ゼラチン硬化剤、？ＲＦ）剤、カブリ防止
剤、安定化剤、帯電防止剤、化学増感剤、増感色素、染
Ｆ）、増白剤色カプリ防止剤、マット剤、支持体等につ
いてはＲｅ５ｃａｒｃｂ　Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ／７ｔ
、　、２／〜、ｉ！Ｊ’　（／り７ｇ年／−月）に記載
されている如き当業界でよく知られた累拐全いづれも用
いることが出来る。

さらに本発明の感光材料のｊ：（九現像条件に関しても
’？４に制限はなく上記几ｅｓｅａｒｃｂ　Ｉ）ｉｓｃ
ｌｏｓｕｒｅの、２Ｊ’〜３０負の記載全参考に°ノー
ることが出来る。

さらに実施例を挙げて本発明を詳Ｊ用ＶＣ説明Ｔるが、
本発明けこれに限定されるものではない。

実施例１ セルローストリアセテートフィルム支持体ＩＫ、下記Ｐ
Ｃ示すような組成の各層よりなる多層カラー感光材料全
作製しｌ（。

第１層：ハレーション防止層（ＡＪＩＩ、）思色コロイ
ド銀全含むゼラチン層 第−ノー：中間層（ＭＬ） λ、！−ジーｔ−オクチルハイドロキノンの乳化分散物
を含むゼラチン層 第３層：第１赤感乳剤Ｊｆｉ５（）ｔＬｌ）沃臭化銀乳
剤（沃化銀；ｊモルト用・・銀塗布量　　　　　　　　
　　　　　　　　／、７Ｐｒ／フル２増感色累■・・・
・・・銀１モルに対してＡＸ７０　　　モル 増感色素■・・・・・・銀１モルに対し−Ｃ／　、ｊＸ
／　０　　　モル カプラーＡ・・曲・銀１モルニ対し−ｃ０．０μモルカ
プラーＣ−／・・・・・・釧１モルに対シて０１００１
１モル カプラーＣ−λ・・・・・・銀１モルに対して０．００
　／タモル カプラーＤ−・・・・銀１モルに対してｏ、ｏｏｏ（、
モル 第μ層：第λ赤感乳剤層（几Ｌ２） 沃臭化銀乳剤（沃化銀：ｑそル％）・・・・・・銀塗布
Ｈ（、／　、　４’　ｔ　／　ｍ２ 増感色素Ｉ・・・・・・銀１モルに対して３×１０　　
モル 増感色素■・・・・・・＃！１モルに対して／、、２×
１０　　　モル カプラーＡ・・・・・・釧１モルに対してｏ、ｏλモル カプラーＣ−／・・・・・・銀１モルに対してｏ、ｏｏ
ｏｔモル カプラーＣ−λ・・・・・・銀１モルに対してＯ１θｏ
ｏｒモル 第ｊ／脅：中間Ｊ脅（ＭＬ） 第、２層と同じ 第を層：第１緑感乳剤層（ＧＬＩ） 沃臭化銀乳剤（沃化銀：グモルチ）・・・・・・塗布銀
量　　　　　　　　　　　　　／、ｊｆ’／ｍ２増感色
素■・・・・・・銀１モルに対して３×ｌＯモル 増感色素■・・・・・・銀１モルに対し−〔／Ｘ１０　
　モル カプラーＢ・・・・・・銀１モルに対し−〔Ｏ、ＯＳＳ
モルカブラ−−／・・・・・・銀１モルに対してｏ　、
ｏｏｙモル カプラーＤ・・・・・・銀１モルに対して０．００／よ
モル 第７層：第１緑感乳剤層（ＧＬ２） 沃臭化銀乳剤（沃化銀：ｊモルチ）・・・・・・塗布銀
量　　　　　　　　　　　　　／、ＡＹ／ｍ２増感色累
■・・・・・・銀１モルに対してλ、ｊｘｉｏ　　　モ
ル 増感色素■・・・・・・銀１モルに対してｏ、ｒｘｉｏ
　　　モル カプラーＢ・・・・・・銀１モルに対しで０．０．２モ
ルカプラーＭ＝／・・・・・・銀１モルに対してｏ、ｏ
ｏ、ｔモル カプラーＤ・・・・・・銀／モノしに対して０．０００
３モル ｐａｒｍ：イエローフィルタ一層（Ｙｌｉ’ｌ、）ゼラ
チン水浴液中に黄色コロ・１ド銀とλ・ｊ−ジー１−オ
クチルノ・イドロキノンの乳化分散物とを含むゼラチン
／Ｌ 第２１偏：第１青感乳剤層ＣＢ、Ｌｌ）沃臭化銀乳剤（
沃化銀：６モル％）・・・・・・塗布銀］ｔ　　　　　
　　　　　　　　　／　、　Ｊ’　？／ｎＬ２カプラー
Ｙ−／・・・・・・銀１モルに対して０．２タモル 前記の化合物（８）・・・・・・銀１モルに対してｏ　
、ｏｏｓモル 化合物（８）はカプラーＹ−／と共に乳化分散して添加
した。

第ｉｏ）ω：第、２青感乳剤層（ＢＬ２）沃臭化銀（沃
化銀：ｔモルチ）・・・・・・塗布銀量／、／ｙ／ｍ２ カプラーＹ−／・・・・・・銀１モルに対して０．０１
モル 第１／層：保護層（Ｐ　Ｌ　） ポリメチルメタアクリレート粒子（ｉｋ径約／。

ｊμ）を含むゼラチン層を塗布。

各層には上記組成物の他に、ゼラチン硬化剤や界面活性
剤を添加した。

試料全作るのに用いた化合物 増感色素Ｉニア／ヒドロ−ｊ−６’−ジクロロ−３・３
７　．９　　（γ−スルホゾロピル）−ターエチルーチ
アカルポシアニンヒドロヤサイド・ピリジニウム」ｊに 増感色素ＩＩ：アンヒドロー２−二チノド・−３・３′
−シー（γ−スルポプロピル）−μ・」−Ｖ′５／−ジ
ペンゾチア力ルポシアニンヒドロギサイド・トリエチル
アミン塩 増感色素■Ｉ：アンヒドロー７−エチルー！−、！ｒ’
−シクロロー３・３’−ジー（ｒ−スルホゾロビル）オ
キサカルボシアニン・ナトリウム塩増感色累■：アンヒ
ドローｊ−Ａ−ｊ’・６′−テトラクロロ−／・／′−
ジエチルーＪ・３′−ジー（β−〔β−（γ−スルポゾ
ロホギシ）エトキシ〕エチルイミダゾロ力ルボシアニン
ヒドロキザイドナトリウム塩 カプラーＢ カプラーＣ−λ カプラーＤ ｉｉａ カプラーＭ−／ カプラーＹ−／ Ｈ３ 上記試料を試料ＩとしｆＣ６ 試料ＩＱハレーション防止層に合成ｆｌｌｊおよびｔ″
′ｃ′ｃ調製ポリマーラテックス（Ａ）および（Ｂ）全
容々の１）う１２１体（ｒ）、（ｊ）および下記構造（
λ７ン全有する系外線吸収剤の単■体と比較するために
、＜ｒ＞、（りおよび（，２７）の乳化分散物（Ｃ）、
（Ｄ）および（Ｅ）ｋ下記のように調製し、それぞれＩ
ｌ、３７／ｒｒＬ２混合塗布した。

Ｃｌｌ３−Ｃ−Ｃ［１３ １ １１１１ 塗布試料を順にｎ、　ＩＩＩ、ＩＶ、■、■と称する。

これらの試料について下記の如き方法で塗布性及び帯電
防止性を測定し、表／に示１゛結果を得た。

〈塗布適性〉　壕ずＡＨＬ、ＭＬを同時塗布した段階で
１００ｃｔｎ２当りに存在する３０μ以上の油滴の敷金
かぞえた。全くないことが望ましく、５０個以上存在す
る場合には、感光材料として用いることは不適切である
。

（（ｆ？電電防付性　未露光の試料を、２ｓ０ｃ１０％
Ｉｔ　Ｈで１時間調湿しｌこ後、同一空調条件の暗室中
において、試料のバック面をゴムローラ及びナイロンバ
ーで摩擦しｌｃ後、下記の３Ｊ、’、　■処理全行なっ
てスタチックマークの発生度ｋ　ｉＪ□１］　ヘた。

現像は下記に示す処理を用いた。

１、　カラー現像・・・・・・・・・・・・３分／Ｊ′
秒２　漂　白・・・・・・・・・・・・・・・・・・を
分３０秒＆　水　洗・・・・・・・・・・・・・・・・
・・３分／ｊ秒ｔ　足　府・・・・・・・・・・・・・
・・・・・２分３０秒五　水　洗・・・・・・・・・・
・・・・・・・・３分／ｊ秒改　安　定・・・・・・・
・・・・・・・・・・・３分／ｊ秒各工程に用いた処理
液組成は下記のものである。

カラー現像液 ニトリロ三酢酸ナトリウム　　　　　ｉ、ｏｙ亜硫酸ナ
トリウム　　　　　　　　　μ、ｏｙ炭酸すトリウム　
　　　　　　　　３０．θｙ臭化カリ　　　　　　　　
　　　　　　／、Ｖ２ヒドロキシルアミン硫酸塩　　　
　　λ、弘？ｕ−（Ｎ−エチル−Ｎ−βヒド ロキシエチルアミノ）−一一 メチル−アニリン硫酸塩　　　　　ｕ、ｊｙ水を加えて
　　　　　　　　　　　　　ｌ　　ｌ僅白液 臭化アンモニウム　　　　　　　／１０．Ｏｆアンモニ
ア水（コｔ％）　　　　　、２よ、Ｏｍｅエチレンジア
ミン−四酢酸すト リウム鉄塩　　　　　　　　　／３０　　　Ｆ氷酢酸　
　　　　　　　　　　　　／　４／ｍｅ水を加えて　　
　　　　　　　　　　　／　　ｅ定着液 テトラポリリン酸ナトリウノ、　　　　　　、ｚ、ｏｙ
亜硫酸ナトリウム　　　　　　　　　ｔ、ｔ、、ｏｙチ
オ硫酸す′ンモニウム（７θ襲）　／　７　Ｊ　、　０
ｒｎｅ重亜硫酸すトリウム　　　　　　　　　４１　、
Ａ　ｒ水を加えて　　　　　　　　　　　　　／　　ｌ
安定液 ホルマリン　　　　　　　　　　　　ｉ、０ｍｇ水を加
えて　　　　　　　　　　　　　／　　ｌ上表中スタチ
ックマークの発生度の評価は、Ａ：スタチックマークの
発生が全く認められず■３：　　　　　　　　　　　　
　少し認められるＣ：　　　　　　Ｉ　　　　　　　カ
ミり認められるＤ：　　　　　＃　　　　　　はｔ′ｌ
：全面に認められる のび段階に分けて行った。

第１表から明らかなように、本発明の紫外線吸収ポリマ
ーラテックスを用いて’：ｉ）　１１！、防止し１こ試
料はスタチックマークの発生が殆んどＩＩ３められない
すぐれ＾イ↑Ｙ電肋止効果全Ｍすると共に、良好な塗布
性を示す。

実施例２　合成例（Ｊ）、　　（４’）の例示化合物を
一’ｔｈそれ／、μｃｃおよび／　、Ａ　ｃｃ／ｍ２、
下記化合物（−ｒンとブチルアクリレートの３／／コポ
リマー（固形分濃度７．Ｊ、２チ）を合成例（４’）と
同様の処方で合成し、２　、／　ｃｃ／＋＋ｔ２、化合
物（コｒ　）　’（ｒ実施例１の乳化処方で既出紫外線
吸収剤単量体の替シにゼラチン１ｏｔａｓ水浴液に対し
λり、７ｖ使用して調製した乳化物音ｐ、Ｊ？／ｍ２夾
施例１と同様Ｋ・・レーション防止層に混合塗布した試
料を順に、■、〜１且、■、Ｘとする。更に実施例１と
同様に塗布適性、帯布防止性を調べた結果を表−に示す
。

第２表によシ明らかなように４１を電防正性及び塗布適
性を満足する試料は紫外線吸収性ポリマーラテックスを
含有するもののみである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも７つの感光性ハロゲン化銀乳剤層
   と、少なくとも７つの非感光性層を有するハロゲン化銀
   写真感光材料において、下記一般式ＣＩ］で表わされる
   単量体から誘導される繰り返し単位を有する重合体又は
   共重合体紫外線吸収性ポリマーラテックスを支持体と・
   ・ロゲン化銀乳剤層の間の親水性コロイド層又は、支持
   体のハロゲン化銀乳剤層に対して反対側に存在する親水
   性コロイド層に含有することを特徴とする・・ロゲン化
   銀写真感光材料。 一般式ＣＩ］ ＣＨ，、＝Ｃ−Ｘ−（−Ａｔ靭下Ｑ 式中、Ｒは水素原子、炭素原子数／〜グの低級アルキル
   基、−または塩素を表わし１．Ｘｌ−Ｊ：　−Ｃ０ＮＨ
   −１−ｃｏｏ−’Ｅたはフェニレン基を表わし７、Ａは
   炭素原子数／〜、２０のアルキレン基又は炭素原子数Ａ
   −一〇のアリーレン基で示される連結基を弄わし、Ｙは
   −ｃｏｏ　−１−ｏｃｏ−１−ＣＯＮＨ−１−Ｎ　ＨＣ
   ０−１−８Ｏ２ＮＨ−１−ＮＩＩＳＯ２−１−８Ｏ２−
   １又は−〇−を表わす。又、ｍ　＋Ｌ：　ｎは各々、Ｏ
   又はｌの整数を表わす。Ｑは下記一般式〔■〕又は〔ｎ
   ］〕で示される紫外線吸収基を表わす。 一般式〔１Ｆ〕 式中、Ｒ１と■ζ２は各々水素原子、炭素原子数ｌ−λ
   Ｏのアルギル基又は同ｔ〜、２０のアリール基を表わし
   、更に、Ｒ１とＲ２は互いに同一もしくは異っていても
   よいが、同時に水素原子を表わすことはない。更ＫＲ，
   とＲ２は結合して一体化してもよく、その場合ｒ、ｘｍ
   状アミノ基を形成するのに必快な原子団を表わす。Ｒ、
   はシアノ基、−ＣＯＯＲ５−ＣＯＮＨＲ５−ＣｏＩ１５
   又は−８０２Ｒ５を表わし、Ｒ４はシアノ基、−ＣＯＯ
   Ｒ６、−ＣＯＮＨＲ６、−ＣＯＲ，、又は−Ｓ　０２　
   Ｒ６を表わし、Ｒ５とＲ６は各々炭素原子数／〜２．０
   のアルキル基、同ｔ−一〇のアリール基を表わし、史に
   Ｒ５とＲ６は結合して一体化してもよく一体化した場合
   け／、３−ジオギソシク１ノヘギザン、バルビッール酸
   、／１．２−ジアザ−、？、　　Ｊ′−ジオキソンクロ
   ペンタン又ｉ１ｘ、ｐ−ジノ゛ザー／−アセー ルコ片シー３．ｊ−ジオキソシクＩＪ−＼−１−２１勺
   ノの核を形成するのに必要な原子団を表わす。 但し、Ｒ１ｅ　　Ｒ２＊　　Ｒ３、Ｒ４ノうち少なくと
   も７つは先に述べた連結基を介しビニル基と結合するも
   のとする。 一般式［ＩＩＩ　］ Ｒ１４Ｒ１５ 式中、■也１１．Ｒ□２．　Ｒ１３，Ｒ□４及びＲ□５
   は各々水素原子、ハロゲン原子、炭素数／〜−２０のア
   ルキル基、炭素数／−，２０のアリール基、炭素数ｌ〜
   、２０のアルコキシ基、炭素数Ａ、、２０のアＩＪ−ル
   オキシ基、炭素数／〜２０のアルキルチオ基、炭素数ｔ
   〜、２０のアリールチオ基、アミノ基、炭素数／〜、２
   ０のアルキルアミノ基、炭素数ｔ−λＯのアリールアミ
   ノ基、ヒドロキシ基、シアン基、ニトロ基、アシルアミ
   ノ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルファモイル
   基、スルポンアミド基、アシルオキシ基又はオギシカル
   ボニル基を表わし、Ｒ１□とＲ□２．１尤１□とＲ１３
   、Ｉ（１３とｌｔ、、又はＲ１４とＲ１５は閉環して！
   〜を員ｕ１を形成してもよい。 Ｒ１（ｉは水素原子、炭素数／〜、２０のアルキル基を
   表わす。 Ｒ，７１ま’／７／基、−Ｃ００Ｒ，９、−Ｃ０ＮＨＲ
   １９、−ＣＯＲ１９、又は−５Ｏ２Ｒ１９を表わす。 Ｒ１８１−ｔンアノノ＆％　−ＣＯＯＲ２（、−Ｃ０Ｎ
   ＨＲ２ｏ。 −ＣＯＲ２ｏ１又は−５ｏ２Ｒ２ｏを表ゎず。 Ｒ１９とＲ２０は各々、炭素数／〜、２１Ｓ＋のアルキ
   ル基又は炭素数ｔ〜、２０のアリール基を表わす。 但し、■也１１１　　Ｒ１□、　　Ｒ，３，１勺４３Ｒ
   １５１”１６　ＴＲ１７及びＲ１８の内の少なくとも７
   つは先に述べた連結基を介してビニル基と結合するもの
   とする。