JPS59232289A - 一様な紅色ないし紫色の金―銅―ビスマス合金を電解析出するための水浴 - Google Patents
一様な紅色ないし紫色の金―銅―ビスマス合金を電解析出するための水浴Info
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- JPS59232289A JPS59232289A JP59104892A JP10489284A JPS59232289A JP S59232289 A JPS59232289 A JP S59232289A JP 59104892 A JP59104892 A JP 59104892A JP 10489284 A JP10489284 A JP 10489284A JP S59232289 A JPS59232289 A JP S59232289A
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- bismuth
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/62—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of gold
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- Materials Engineering (AREA)
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ジシアノ金(1)酸アルカリ又は−アンモニ
ウム、銅シアン化アルカリ、シアン化アルカリ、ビスマ
ス化合物並びに場合によっては有機湿潤剤及び光沢剤を
含有する、一様な紅色ないし紫色の金合金を電解析出す
るための水浴に関する。
ウム、銅シアン化アルカリ、シアン化アルカリ、ビスマ
ス化合物並びに場合によっては有機湿潤剤及び光沢剤を
含有する、一様な紅色ないし紫色の金合金を電解析出す
るための水浴に関する。
従来の技術水準
従来、′電解的に2元−又は3元合金を析出させること
のできるビスマス含有浴は公知である。ビスマス化合物
としては、一般に、三弗化ビスマス又はトリ過りロル酸
ビスマスもしくは、ビスマス酸アルカリが使用されてお
り、そのうち最初のものは酸性領域でのみ、かつ最後の
ものは強アルカリ性領域でのみ使用できる。即ち、これ
ら化合物はpH6〜工3の領域では難溶性である。
のできるビスマス含有浴は公知である。ビスマス化合物
としては、一般に、三弗化ビスマス又はトリ過りロル酸
ビスマスもしくは、ビスマス酸アルカリが使用されてお
り、そのうち最初のものは酸性領域でのみ、かつ最後の
ものは強アルカリ性領域でのみ使用できる。即ち、これ
ら化合物はpH6〜工3の領域では難溶性である。
この組成の浴は、それらは不安定で、僅かな光沢のみを
有する被覆を析出するので、工業的な重要性がない。
有する被覆を析出するので、工業的な重要性がない。
発明の解決しようとする問題点
本発明の課題は、高いビスマス含分〒、光沢のある三元
金合金の析出を可能とする安定なビスマス含有金合金を
得ることである。
金合金の析出を可能とする安定なビスマス含有金合金を
得ることである。
問題を解決するための手段
この課題は、本発明により、先に記載の種類の水浴にビ
スマス化合物としてビスマスの水溶性錯化合物を含有さ
せることにより解決される。
スマス化合物としてビスマスの水溶性錯化合物を含有さ
せることにより解決される。
作 用
本発明の浴は、公知の類似組成の浴では不可能であった
装飾物体例えばアクセサリ−1時計及び眼鏡上に、一様
な紅色ないし紫色の三元金合金を析出するために阜越し
て好適↑ある。
装飾物体例えばアクセサリ−1時計及び眼鏡上に、一様
な紅色ないし紫色の三元金合金を析出するために阜越し
て好適↑ある。
ビスマスを30重量%以上までの極めて高い含分で合金
中に導入することができ、これに伴ない広い用途範囲が
HH発されることは工業的に特に重要である。従って、
本発明の浴は以外に。
中に導入することができ、これに伴ない広い用途範囲が
HH発されることは工業的に特に重要である。従って、
本発明の浴は以外に。
も、電気的構造材料例えば差込み継手の仕上げ加工のた
めにも好適である。それというのも、これにより析出す
る沈殿は、特に硬く、良好な導電性並びに優れた耐磨耗
性を有するからである。
めにも好適である。それというのも、これにより析出す
る沈殿は、特に硬く、良好な導電性並びに優れた耐磨耗
性を有するからである。
本発明における錯化合物としては、殊に、ビスマスと有
機ホスホン酸類、カルボン酸類又はアミンアルコール類
とのものが好適である。
機ホスホン酸類、カルボン酸類又はアミンアルコール類
とのものが好適である。
本発明による水溶性のビスマス錯化合物を形成するため
に、ホスホン酸類としては、例えば〔式中R′は水素又
は01〜C3−アルキル基例えばメチル、エチル又はプ
ロピルであり、Rは01〜C3−アルキレン基例えばメ
チレン、エチレン又はトリメチレンであり、nは1〜3
の整数である〕の化合物が好適である。
に、ホスホン酸類としては、例えば〔式中R′は水素又
は01〜C3−アルキル基例えばメチル、エチル又はプ
ロピルであり、Rは01〜C3−アルキレン基例えばメ
チレン、エチレン又はトリメチレンであり、nは1〜3
の整数である〕の化合物が好適である。
特に好適なホスホン酸類の例としては、例えばエチレン
ジアミンテトラメチルホスホン酸、1−ヒドロキシエタ
ンジホスホン酸及び2.3−ジヒドロキシプロピル−ホ
スホン酸が挙ケラれる。
ジアミンテトラメチルホスホン酸、1−ヒドロキシエタ
ンジホスホン酸及び2.3−ジヒドロキシプロピル−ホ
スホン酸が挙ケラれる。
更に、例えば次の一般式:
%式%()
〔式中Xは基: −((OHR□)、n−000H’l
lでありR1は水素、C1〜C3−アルキル、例えばメ
チル、エチル又はプロピルであり、nは1〜3の整数で
ある〕に相当するカルボン酸類も使用できる。
lでありR1は水素、C1〜C3−アルキル、例えばメ
チル、エチル又はプロピルであり、nは1〜3の整数で
ある〕に相当するカルボン酸類も使用できる。
殊に好適なカル日?ン酸類の例としては、二FIJ 口
) ’J 酢酸、4−オキシフェニルマロン酸及び1.
2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸が挙げられる。
) ’J 酢酸、4−オキシフェニルマロン酸及び1.
2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸が挙げられる。
更に好適なカルボン酸類としては、更に、ぼりヒドロキ
シ酸、例えばd−糖酸、d−マンノ糖酸、粘液酸、1,
2,3.4−テトラヒドロキシ−ブタン−1,1,4−
)リカルボン酸及び3,4.5−)リヒドロキシ安息香
酸が指摘される。
シ酸、例えばd−糖酸、d−マンノ糖酸、粘液酸、1,
2,3.4−テトラヒドロキシ−ブタン−1,1,4−
)リカルボン酸及び3,4.5−)リヒドロキシ安息香
酸が指摘される。
錯形成のためのアミノアルコール類トしては結局、一般
式: %式%)() 〔式中R2は水素又は0、〜C3−アルキル例えばメチ
ル、エチル又はプロピルであり、nは1又は2である〕
の化合物が好適である。
式: %式%)() 〔式中R2は水素又は0、〜C3−アルキル例えばメチ
ル、エチル又はプロピルであり、nは1又は2である〕
の化合物が好適である。
特に好適なアルコールとしては、エチレンジアミノテト
ラプロビルアルコールが挙げられる。
ラプロビルアルコールが挙げられる。
可溶性ビスマス錯化合物は、その本発明による使用の前
に製造することができ、この際、例えば、錯形成剤と水
酸化ビスマス又は硝酸ビスマスとを水溶液中でビスマス
1モルに対し錯形成剤1〜4モルとのモル比で、室温で
反応させる。しかしながら、水酸化ビスマス又は硝酸ビ
スマス及び錯形成剤を浴液に直接添加することもできる
。
に製造することができ、この際、例えば、錯形成剤と水
酸化ビスマス又は硝酸ビスマスとを水溶液中でビスマス
1モルに対し錯形成剤1〜4モルとのモル比で、室温で
反応させる。しかしながら、水酸化ビスマス又は硝酸ビ
スマス及び錯形成剤を浴液に直接添加することもできる
。
浴としては、一般に、ジシアノ金(1) 酸アルカリ又
は−アンモニウム、銅シアン化アルカリ、シアン化アル
カリ及び水溶性ビスマス錯化合物を含有する水溶液を使
用する。
は−アンモニウム、銅シアン化アルカリ、シアン化アル
カリ及び水溶性ビスマス錯化合物を含有する水溶液を使
用する。
有利な濃度は次のとおり(ビスマスに対して)ニジシア
ノ金酸アルカリ又は− アンモニウム 0.5〜15り/ll
ジシアン化アルカリ 20.0〜2009/lビ
スマスの錯化合物 2.0〜309/1シア
ン化アルカリ 0.1〜509/1アルカ
リ壌としてはナトリウム−及びカリウム塩を使用するの
が有利↑ある。
ノ金酸アルカリ又は− アンモニウム 0.5〜15り/ll
ジシアン化アルカリ 20.0〜2009/lビ
スマスの錯化合物 2.0〜309/1シア
ン化アルカリ 0.1〜509/1アルカ
リ壌としてはナトリウム−及びカリウム塩を使用するの
が有利↑ある。
添加物として、この浴は、非イオン性、カチオン性又は
アニオン性の慣用の湿I剤を含有していてよい。これら
物質は0.O1〜209/1の濃度費光沢形成剤として
も作用しつる。
アニオン性の慣用の湿I剤を含有していてよい。これら
物質は0.O1〜209/1の濃度費光沢形成剤として
も作用しつる。
pH−値は、使用錯形成体に応じて決まり、6〜13−
Qあってよく、所望の場合には、水酸化アルカリの添加
により調節される。
Qあってよく、所望の場合には、水酸化アルカリの添加
により調節される。
実施例
この浴は、有利に20〜70℃の温度〒操業され、この
際0.1〜3 A /aイの電流密度を使用するのが有
利1ある。
際0.1〜3 A /aイの電流密度を使用するのが有
利1ある。
次の実施例につき、本発明を説明する。
例1
ジシアノ金(1)dカリウム KAu (ON)
2 4.59/ IJ銅ジシアン化カリウム
x 20u (ON ) a 200.09/
1シアン化カリウム KON
20.09/13エチレンジアミンテト2メチレンホス
ホンp so、l/lアルキルフェノールポリグリ
コールエーテル 0.29/111.5のpH値は、
水酸化カリウムによって調節される。
2 4.59/ IJ銅ジシアン化カリウム
x 20u (ON ) a 200.09/
1シアン化カリウム KON
20.09/13エチレンジアミンテト2メチレンホス
ホンp so、l/lアルキルフェノールポリグリ
コールエーテル 0.29/111.5のpH値は、
水酸化カリウムによって調節される。
0.4A/dイの平均電流密度で、子分純度75010
00の紅色波器が析出される。この被覆は、HK20の
硬度を有する。
00の紅色波器が析出される。この被覆は、HK20の
硬度を有する。
例2
ジシアノ金(1)IIカリウム KAu(ON)2
4.0り/llジシアン化カリウム K20
u(ON)3150.0り/l水酸化ビスマス
Bi(OH)320.09/1シアン化カリウム
KON o、59/11.2
−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸 30.0り/
l!ラウリル硫酸ナトリウム
1.+1#pH7,5 温度 65℃ 電流密度 o、s A / a77$この゛Lm解液
から、子分純度8501000〒、沈殿が析出される。
4.0り/llジシアン化カリウム K20
u(ON)3150.0り/l水酸化ビスマス
Bi(OH)320.09/1シアン化カリウム
KON o、59/11.2
−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸 30.0り/
l!ラウリル硫酸ナトリウム
1.+1#pH7,5 温度 65℃ 電流密度 o、s A / a77$この゛Lm解液
から、子分純度8501000〒、沈殿が析出される。
被覆は予想外に高い耐蝕性を有し、摩耗試験〒優れた挙
動をする。
動をする。
例3
ジシアノ金(1)酸カリウム KAu (ON)
z 4.5 g/ l銅シアン化カリウム
Kzau(oN)a 110.09/lj硝酸ヒ
ス−rスBi(No3)3・5H202x、o9/73
シアン化カリウム KON
3.09/1乳 酸
60,0り/lエチレンオキサイド約
30モル%で エトキシル化された脂肪アミン 2.
0 ’;l/1pH9、5 温度 65℃ 電流密度 0.3〜0.5 A / d71?この電
解液から、子分純度650 / 000で沈殿が析出さ
れる。ろう付は特性は、優れている。この被覆は、1μ
で既に孔不含であるので、耐蝕性は良好である。
z 4.5 g/ l銅シアン化カリウム
Kzau(oN)a 110.09/lj硝酸ヒ
ス−rスBi(No3)3・5H202x、o9/73
シアン化カリウム KON
3.09/1乳 酸
60,0り/lエチレンオキサイド約
30モル%で エトキシル化された脂肪アミン 2.
0 ’;l/1pH9、5 温度 65℃ 電流密度 0.3〜0.5 A / d71?この電
解液から、子分純度650 / 000で沈殿が析出さ
れる。ろう付は特性は、優れている。この被覆は、1μ
で既に孔不含であるので、耐蝕性は良好である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 □1. ジシアノ金(Jiffアルカリ又−は−アンモ
ニウム、銅シアン化アルカリ、シアン化アルカリ、ビス
マス化合物並びに場合により有機湿潤剤及び光沢剤を含
有する、・一様な紅色ないし紫色の金合金を’r:Ii
解析出するだめの水浴において、これはビスマス化合物
として、ビスマスの水溶性錯化合物を含有することを特
徴とする、一様な紅色ないし紫色の金合金を電解析出す
るための水浴。 2、 ビスマスト有機ホスホン酸、カルゼン酸又はアミ
ノアルコールとの錯化合物を特徴する特許請求の範囲第
1項記載の水浴。 3、 ビスマスとエチレンジアミンテトラメチルホスホ
ン酸、2,3−ジヒドロキシプロピルホスホン酸、2,
3−ジヒドロキシプロピルホスホン酸、1−ヒドロキシ
エタンジホスホン酸、ニトリロトリ酢酸、4−オキシフ
ェニルマロン[6,1,2−ジアミノシクロヘキサンテ
トラ酢酸、d−糖酸、d−マンノ糖酸、粘液酸、1,2
,3.4−テトラヒドロキシ−ブタン−1,1,4−)
リカルゼン酸、3.4.5−)リヒドロキシ安息香酸又
はエチレンジアミンテトラインプロビルアルコールとの
錯化合物を特徴する特許請求の範囲第1項又は第2項に
記載の水浴。 4、細化合物を、ビスマスに対して、10mq/l〜x
oo9/lの濃度で含有する、特許請求の範囲第1項記
載の水浴。 5、 錯化合物中で、ビスマスと錯形成体とはl:1〜
1;4のモル比で存在する、特許請求の範囲第1項記載
の水浴。 6、 pk16〜13を有する、特許請求の範囲第1
項記載の水浴。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3319772.5 | 1983-05-27 | ||
DE19833319772 DE3319772A1 (de) | 1983-05-27 | 1983-05-27 | Bad fuer die galvanische abscheidung von goldlegierungen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59232289A true JPS59232289A (ja) | 1984-12-27 |
JPH0565598B2 JPH0565598B2 (ja) | 1993-09-20 |
Family
ID=6200354
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59104892A Granted JPS59232289A (ja) | 1983-05-27 | 1984-05-25 | 一様な紅色ないし紫色の金―銅―ビスマス合金を電解析出するための水浴 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4517060A (ja) |
EP (1) | EP0126921B1 (ja) |
JP (1) | JPS59232289A (ja) |
AT (1) | AT383148B (ja) |
DE (2) | DE3319772A1 (ja) |
ES (1) | ES8502741A1 (ja) |
HK (1) | HK74389A (ja) |
IE (1) | IE56353B1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8903818D0 (en) * | 1989-02-20 | 1989-04-05 | Engelhard Corp | Electrolytic deposition of gold-containing alloys |
DE3905705A1 (de) * | 1989-02-24 | 1990-08-30 | Degussa | Bad zur galvanischen abscheidung von feingoldueberzuegen |
GB2309032A (en) * | 1996-01-11 | 1997-07-16 | Procter & Gamble | Bismuth salts and complexes with nitrogen-free organic diphosphonic acids |
DE10110743A1 (de) * | 2001-02-28 | 2002-09-05 | Wieland Dental & Technik Gmbh | Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Goldlegierungen sowie dessen Verwendung |
SG127854A1 (en) | 2005-06-02 | 2006-12-29 | Rohm & Haas Elect Mat | Improved gold electrolytes |
US20090104463A1 (en) | 2006-06-02 | 2009-04-23 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Gold alloy electrolytes |
WO2023041972A1 (en) | 2021-09-16 | 2023-03-23 | Galvasols P & S | High-speed pure gold electroforming/electroplating bath |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5421820A (en) * | 1977-07-20 | 1979-02-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recorder-reproducer |
JPS579893A (en) * | 1980-06-19 | 1982-01-19 | Seiko Epson Corp | Gold alloy plating bath |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH494284A (fr) * | 1968-11-28 | 1970-07-31 | Sel Rex Corp | Procédé pour le dépôt électrolytique d'un alliage d'or avec au moins un autre métal commun et bain aqueux de placage pour la mise en oeuvre de ce procédé |
FR2053770A5 (en) * | 1969-07-17 | 1971-04-16 | Radiotechnique Compelec | Electrolytic deposition of gold-bismuth - alloys |
CH615464A5 (en) * | 1976-06-01 | 1980-01-31 | Systemes Traitements Surfaces | Special compositions and particular additives for gold electrolysis baths and their use |
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FR2405312A1 (fr) * | 1977-10-10 | 1979-05-04 | Oxy Metal Industries Corp | Bains electrolytiques pour le depot d'alliages d'or |
-
1983
- 1983-05-27 DE DE19833319772 patent/DE3319772A1/de active Granted
-
1984
- 1984-04-10 DE DE8484103995T patent/DE3476225D1/de not_active Expired
- 1984-04-10 EP EP84103995A patent/EP0126921B1/de not_active Expired
- 1984-05-22 IE IE1268/84A patent/IE56353B1/en not_active IP Right Cessation
- 1984-05-22 AT AT0168784A patent/AT383148B/de not_active IP Right Cessation
- 1984-05-25 JP JP59104892A patent/JPS59232289A/ja active Granted
- 1984-05-25 ES ES532837A patent/ES8502741A1/es not_active Expired
- 1984-05-29 US US06/615,471 patent/US4517060A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-09-14 HK HK743/89A patent/HK74389A/xx not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5421820A (en) * | 1977-07-20 | 1979-02-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recorder-reproducer |
JPS579893A (en) * | 1980-06-19 | 1982-01-19 | Seiko Epson Corp | Gold alloy plating bath |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4517060A (en) | 1985-05-14 |
ES532837A0 (es) | 1985-02-01 |
HK74389A (en) | 1989-09-22 |
EP0126921A2 (de) | 1984-12-05 |
AT383148B (de) | 1987-05-25 |
DE3319772A1 (de) | 1984-11-29 |
EP0126921B1 (de) | 1989-01-18 |
EP0126921A3 (en) | 1985-01-30 |
ATA168784A (de) | 1986-10-15 |
IE56353B1 (en) | 1991-07-03 |
DE3476225D1 (en) | 1989-02-23 |
DE3319772C2 (ja) | 1991-05-16 |
JPH0565598B2 (ja) | 1993-09-20 |
IE841268L (en) | 1984-11-27 |
ES8502741A1 (es) | 1985-02-01 |
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