JPS59232289A - 一様な紅色ないし紫色の金―銅―ビスマス合金を電解析出するための水浴 - Google Patents
一様な紅色ないし紫色の金―銅―ビスマス合金を電解析出するための水浴Info
- Publication number
- JPS59232289A JPS59232289A JP59104892A JP10489284A JPS59232289A JP S59232289 A JPS59232289 A JP S59232289A JP 59104892 A JP59104892 A JP 59104892A JP 10489284 A JP10489284 A JP 10489284A JP S59232289 A JPS59232289 A JP S59232289A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- bismuth
- water bath
- gold alloy
- complex compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/62—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of gold
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ジシアノ金(1)酸アルカリ又は−アンモニ
ウム、銅シアン化アルカリ、シアン化アルカリ、ビスマ
ス化合物並びに場合によっては有機湿潤剤及び光沢剤を
含有する、一様な紅色ないし紫色の金合金を電解析出す
るための水浴に関する。
ウム、銅シアン化アルカリ、シアン化アルカリ、ビスマ
ス化合物並びに場合によっては有機湿潤剤及び光沢剤を
含有する、一様な紅色ないし紫色の金合金を電解析出す
るための水浴に関する。
従来の技術水準
従来、′電解的に2元−又は3元合金を析出させること
のできるビスマス含有浴は公知である。ビスマス化合物
としては、一般に、三弗化ビスマス又はトリ過りロル酸
ビスマスもしくは、ビスマス酸アルカリが使用されてお
り、そのうち最初のものは酸性領域でのみ、かつ最後の
ものは強アルカリ性領域でのみ使用できる。即ち、これ
ら化合物はpH6〜工3の領域では難溶性である。
のできるビスマス含有浴は公知である。ビスマス化合物
としては、一般に、三弗化ビスマス又はトリ過りロル酸
ビスマスもしくは、ビスマス酸アルカリが使用されてお
り、そのうち最初のものは酸性領域でのみ、かつ最後の
ものは強アルカリ性領域でのみ使用できる。即ち、これ
ら化合物はpH6〜工3の領域では難溶性である。
この組成の浴は、それらは不安定で、僅かな光沢のみを
有する被覆を析出するので、工業的な重要性がない。
有する被覆を析出するので、工業的な重要性がない。
発明の解決しようとする問題点
本発明の課題は、高いビスマス含分〒、光沢のある三元
金合金の析出を可能とする安定なビスマス含有金合金を
得ることである。
金合金の析出を可能とする安定なビスマス含有金合金を
得ることである。
問題を解決するための手段
この課題は、本発明により、先に記載の種類の水浴にビ
スマス化合物としてビスマスの水溶性錯化合物を含有さ
せることにより解決される。
スマス化合物としてビスマスの水溶性錯化合物を含有さ
せることにより解決される。
作 用
本発明の浴は、公知の類似組成の浴では不可能であった
装飾物体例えばアクセサリ−1時計及び眼鏡上に、一様
な紅色ないし紫色の三元金合金を析出するために阜越し
て好適↑ある。
装飾物体例えばアクセサリ−1時計及び眼鏡上に、一様
な紅色ないし紫色の三元金合金を析出するために阜越し
て好適↑ある。
ビスマスを30重量%以上までの極めて高い含分で合金
中に導入することができ、これに伴ない広い用途範囲が
HH発されることは工業的に特に重要である。従って、
本発明の浴は以外に。
中に導入することができ、これに伴ない広い用途範囲が
HH発されることは工業的に特に重要である。従って、
本発明の浴は以外に。
も、電気的構造材料例えば差込み継手の仕上げ加工のた
めにも好適である。それというのも、これにより析出す
る沈殿は、特に硬く、良好な導電性並びに優れた耐磨耗
性を有するからである。
めにも好適である。それというのも、これにより析出す
る沈殿は、特に硬く、良好な導電性並びに優れた耐磨耗
性を有するからである。
本発明における錯化合物としては、殊に、ビスマスと有
機ホスホン酸類、カルボン酸類又はアミンアルコール類
とのものが好適である。
機ホスホン酸類、カルボン酸類又はアミンアルコール類
とのものが好適である。
本発明による水溶性のビスマス錯化合物を形成するため
に、ホスホン酸類としては、例えば〔式中R′は水素又
は01〜C3−アルキル基例えばメチル、エチル又はプ
ロピルであり、Rは01〜C3−アルキレン基例えばメ
チレン、エチレン又はトリメチレンであり、nは1〜3
の整数である〕の化合物が好適である。
に、ホスホン酸類としては、例えば〔式中R′は水素又
は01〜C3−アルキル基例えばメチル、エチル又はプ
ロピルであり、Rは01〜C3−アルキレン基例えばメ
チレン、エチレン又はトリメチレンであり、nは1〜3
の整数である〕の化合物が好適である。
特に好適なホスホン酸類の例としては、例えばエチレン
ジアミンテトラメチルホスホン酸、1−ヒドロキシエタ
ンジホスホン酸及び2.3−ジヒドロキシプロピル−ホ
スホン酸が挙ケラれる。
ジアミンテトラメチルホスホン酸、1−ヒドロキシエタ
ンジホスホン酸及び2.3−ジヒドロキシプロピル−ホ
スホン酸が挙ケラれる。
更に、例えば次の一般式:
%式%()
〔式中Xは基: −((OHR□)、n−000H’l
lでありR1は水素、C1〜C3−アルキル、例えばメ
チル、エチル又はプロピルであり、nは1〜3の整数で
ある〕に相当するカルボン酸類も使用できる。
lでありR1は水素、C1〜C3−アルキル、例えばメ
チル、エチル又はプロピルであり、nは1〜3の整数で
ある〕に相当するカルボン酸類も使用できる。
殊に好適なカル日?ン酸類の例としては、二FIJ 口
) ’J 酢酸、4−オキシフェニルマロン酸及び1.
2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸が挙げられる。
) ’J 酢酸、4−オキシフェニルマロン酸及び1.
2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸が挙げられる。
更に好適なカルボン酸類としては、更に、ぼりヒドロキ
シ酸、例えばd−糖酸、d−マンノ糖酸、粘液酸、1,
2,3.4−テトラヒドロキシ−ブタン−1,1,4−
)リカルボン酸及び3,4.5−)リヒドロキシ安息香
酸が指摘される。
シ酸、例えばd−糖酸、d−マンノ糖酸、粘液酸、1,
2,3.4−テトラヒドロキシ−ブタン−1,1,4−
)リカルボン酸及び3,4.5−)リヒドロキシ安息香
酸が指摘される。
錯形成のためのアミノアルコール類トしては結局、一般
式: %式%)() 〔式中R2は水素又は0、〜C3−アルキル例えばメチ
ル、エチル又はプロピルであり、nは1又は2である〕
の化合物が好適である。
式: %式%)() 〔式中R2は水素又は0、〜C3−アルキル例えばメチ
ル、エチル又はプロピルであり、nは1又は2である〕
の化合物が好適である。
特に好適なアルコールとしては、エチレンジアミノテト
ラプロビルアルコールが挙げられる。
ラプロビルアルコールが挙げられる。
可溶性ビスマス錯化合物は、その本発明による使用の前
に製造することができ、この際、例えば、錯形成剤と水
酸化ビスマス又は硝酸ビスマスとを水溶液中でビスマス
1モルに対し錯形成剤1〜4モルとのモル比で、室温で
反応させる。しかしながら、水酸化ビスマス又は硝酸ビ
スマス及び錯形成剤を浴液に直接添加することもできる
。
に製造することができ、この際、例えば、錯形成剤と水
酸化ビスマス又は硝酸ビスマスとを水溶液中でビスマス
1モルに対し錯形成剤1〜4モルとのモル比で、室温で
反応させる。しかしながら、水酸化ビスマス又は硝酸ビ
スマス及び錯形成剤を浴液に直接添加することもできる
。
浴としては、一般に、ジシアノ金(1) 酸アルカリ又
は−アンモニウム、銅シアン化アルカリ、シアン化アル
カリ及び水溶性ビスマス錯化合物を含有する水溶液を使
用する。
は−アンモニウム、銅シアン化アルカリ、シアン化アル
カリ及び水溶性ビスマス錯化合物を含有する水溶液を使
用する。
有利な濃度は次のとおり(ビスマスに対して)ニジシア
ノ金酸アルカリ又は− アンモニウム 0.5〜15り/ll
ジシアン化アルカリ 20.0〜2009/lビ
スマスの錯化合物 2.0〜309/1シア
ン化アルカリ 0.1〜509/1アルカ
リ壌としてはナトリウム−及びカリウム塩を使用するの
が有利↑ある。
ノ金酸アルカリ又は− アンモニウム 0.5〜15り/ll
ジシアン化アルカリ 20.0〜2009/lビ
スマスの錯化合物 2.0〜309/1シア
ン化アルカリ 0.1〜509/1アルカ
リ壌としてはナトリウム−及びカリウム塩を使用するの
が有利↑ある。
添加物として、この浴は、非イオン性、カチオン性又は
アニオン性の慣用の湿I剤を含有していてよい。これら
物質は0.O1〜209/1の濃度費光沢形成剤として
も作用しつる。
アニオン性の慣用の湿I剤を含有していてよい。これら
物質は0.O1〜209/1の濃度費光沢形成剤として
も作用しつる。
pH−値は、使用錯形成体に応じて決まり、6〜13−
Qあってよく、所望の場合には、水酸化アルカリの添加
により調節される。
Qあってよく、所望の場合には、水酸化アルカリの添加
により調節される。
実施例
この浴は、有利に20〜70℃の温度〒操業され、この
際0.1〜3 A /aイの電流密度を使用するのが有
利1ある。
際0.1〜3 A /aイの電流密度を使用するのが有
利1ある。
次の実施例につき、本発明を説明する。
例1
ジシアノ金(1)dカリウム KAu (ON)
2 4.59/ IJ銅ジシアン化カリウム
x 20u (ON ) a 200.09/
1シアン化カリウム KON
20.09/13エチレンジアミンテト2メチレンホス
ホンp so、l/lアルキルフェノールポリグリ
コールエーテル 0.29/111.5のpH値は、
水酸化カリウムによって調節される。
2 4.59/ IJ銅ジシアン化カリウム
x 20u (ON ) a 200.09/
1シアン化カリウム KON
20.09/13エチレンジアミンテト2メチレンホス
ホンp so、l/lアルキルフェノールポリグリ
コールエーテル 0.29/111.5のpH値は、
水酸化カリウムによって調節される。
0.4A/dイの平均電流密度で、子分純度75010
00の紅色波器が析出される。この被覆は、HK20の
硬度を有する。
00の紅色波器が析出される。この被覆は、HK20の
硬度を有する。
例2
ジシアノ金(1)IIカリウム KAu(ON)2
4.0り/llジシアン化カリウム K20
u(ON)3150.0り/l水酸化ビスマス
Bi(OH)320.09/1シアン化カリウム
KON o、59/11.2
−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸 30.0り/
l!ラウリル硫酸ナトリウム
1.+1#pH7,5 温度 65℃ 電流密度 o、s A / a77$この゛Lm解液
から、子分純度8501000〒、沈殿が析出される。
4.0り/llジシアン化カリウム K20
u(ON)3150.0り/l水酸化ビスマス
Bi(OH)320.09/1シアン化カリウム
KON o、59/11.2
−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸 30.0り/
l!ラウリル硫酸ナトリウム
1.+1#pH7,5 温度 65℃ 電流密度 o、s A / a77$この゛Lm解液
から、子分純度8501000〒、沈殿が析出される。
被覆は予想外に高い耐蝕性を有し、摩耗試験〒優れた挙
動をする。
動をする。
例3
ジシアノ金(1)酸カリウム KAu (ON)
z 4.5 g/ l銅シアン化カリウム
Kzau(oN)a 110.09/lj硝酸ヒ
ス−rスBi(No3)3・5H202x、o9/73
シアン化カリウム KON
3.09/1乳 酸
60,0り/lエチレンオキサイド約
30モル%で エトキシル化された脂肪アミン 2.
0 ’;l/1pH9、5 温度 65℃ 電流密度 0.3〜0.5 A / d71?この電
解液から、子分純度650 / 000で沈殿が析出さ
れる。ろう付は特性は、優れている。この被覆は、1μ
で既に孔不含であるので、耐蝕性は良好である。
z 4.5 g/ l銅シアン化カリウム
Kzau(oN)a 110.09/lj硝酸ヒ
ス−rスBi(No3)3・5H202x、o9/73
シアン化カリウム KON
3.09/1乳 酸
60,0り/lエチレンオキサイド約
30モル%で エトキシル化された脂肪アミン 2.
0 ’;l/1pH9、5 温度 65℃ 電流密度 0.3〜0.5 A / d71?この電
解液から、子分純度650 / 000で沈殿が析出さ
れる。ろう付は特性は、優れている。この被覆は、1μ
で既に孔不含であるので、耐蝕性は良好である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 □1. ジシアノ金(Jiffアルカリ又−は−アンモ
ニウム、銅シアン化アルカリ、シアン化アルカリ、ビス
マス化合物並びに場合により有機湿潤剤及び光沢剤を含
有する、・一様な紅色ないし紫色の金合金を’r:Ii
解析出するだめの水浴において、これはビスマス化合物
として、ビスマスの水溶性錯化合物を含有することを特
徴とする、一様な紅色ないし紫色の金合金を電解析出す
るための水浴。 2、 ビスマスト有機ホスホン酸、カルゼン酸又はアミ
ノアルコールとの錯化合物を特徴する特許請求の範囲第
1項記載の水浴。 3、 ビスマスとエチレンジアミンテトラメチルホスホ
ン酸、2,3−ジヒドロキシプロピルホスホン酸、2,
3−ジヒドロキシプロピルホスホン酸、1−ヒドロキシ
エタンジホスホン酸、ニトリロトリ酢酸、4−オキシフ
ェニルマロン[6,1,2−ジアミノシクロヘキサンテ
トラ酢酸、d−糖酸、d−マンノ糖酸、粘液酸、1,2
,3.4−テトラヒドロキシ−ブタン−1,1,4−)
リカルゼン酸、3.4.5−)リヒドロキシ安息香酸又
はエチレンジアミンテトラインプロビルアルコールとの
錯化合物を特徴する特許請求の範囲第1項又は第2項に
記載の水浴。 4、細化合物を、ビスマスに対して、10mq/l〜x
oo9/lの濃度で含有する、特許請求の範囲第1項記
載の水浴。 5、 錯化合物中で、ビスマスと錯形成体とはl:1〜
1;4のモル比で存在する、特許請求の範囲第1項記載
の水浴。 6、 pk16〜13を有する、特許請求の範囲第1
項記載の水浴。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19833319772 DE3319772A1 (de) | 1983-05-27 | 1983-05-27 | Bad fuer die galvanische abscheidung von goldlegierungen |
DE3319772.5 | 1983-05-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59232289A true JPS59232289A (ja) | 1984-12-27 |
JPH0565598B2 JPH0565598B2 (ja) | 1993-09-20 |
Family
ID=6200354
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59104892A Granted JPS59232289A (ja) | 1983-05-27 | 1984-05-25 | 一様な紅色ないし紫色の金―銅―ビスマス合金を電解析出するための水浴 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4517060A (ja) |
EP (1) | EP0126921B1 (ja) |
JP (1) | JPS59232289A (ja) |
AT (1) | AT383148B (ja) |
DE (2) | DE3319772A1 (ja) |
ES (1) | ES8502741A1 (ja) |
HK (1) | HK74389A (ja) |
IE (1) | IE56353B1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8903818D0 (en) * | 1989-02-20 | 1989-04-05 | Engelhard Corp | Electrolytic deposition of gold-containing alloys |
DE3905705A1 (de) * | 1989-02-24 | 1990-08-30 | Degussa | Bad zur galvanischen abscheidung von feingoldueberzuegen |
GB2309032A (en) * | 1996-01-11 | 1997-07-16 | Procter & Gamble | Bismuth salts and complexes with nitrogen-free organic diphosphonic acids |
DE10110743A1 (de) * | 2001-02-28 | 2002-09-05 | Wieland Dental & Technik Gmbh | Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Goldlegierungen sowie dessen Verwendung |
SG127854A1 (en) | 2005-06-02 | 2006-12-29 | Rohm & Haas Elect Mat | Improved gold electrolytes |
US20090104463A1 (en) | 2006-06-02 | 2009-04-23 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Gold alloy electrolytes |
US20240271306A1 (en) | 2021-09-16 | 2024-08-15 | P & S, Galvasols | High-speed pure gold electroforming/electroplating bath |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5421820A (en) * | 1977-07-20 | 1979-02-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recorder-reproducer |
JPS579893A (en) * | 1980-06-19 | 1982-01-19 | Seiko Epson Corp | Gold alloy plating bath |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH494284A (fr) * | 1968-11-28 | 1970-07-31 | Sel Rex Corp | Procédé pour le dépôt électrolytique d'un alliage d'or avec au moins un autre métal commun et bain aqueux de placage pour la mise en oeuvre de ce procédé |
FR2053770A5 (en) * | 1969-07-17 | 1971-04-16 | Radiotechnique Compelec | Electrolytic deposition of gold-bismuth - alloys |
CH615464A5 (en) * | 1976-06-01 | 1980-01-31 | Systemes Traitements Surfaces | Special compositions and particular additives for gold electrolysis baths and their use |
US4199416A (en) * | 1977-05-03 | 1980-04-22 | Johnson, Matthey & Co., Limited | Composition for the electroplating of gold |
FR2405312A1 (fr) * | 1977-10-10 | 1979-05-04 | Oxy Metal Industries Corp | Bains electrolytiques pour le depot d'alliages d'or |
-
1983
- 1983-05-27 DE DE19833319772 patent/DE3319772A1/de active Granted
-
1984
- 1984-04-10 DE DE8484103995T patent/DE3476225D1/de not_active Expired
- 1984-04-10 EP EP84103995A patent/EP0126921B1/de not_active Expired
- 1984-05-22 AT AT0168784A patent/AT383148B/de not_active IP Right Cessation
- 1984-05-22 IE IE1268/84A patent/IE56353B1/en not_active IP Right Cessation
- 1984-05-25 ES ES532837A patent/ES8502741A1/es not_active Expired
- 1984-05-25 JP JP59104892A patent/JPS59232289A/ja active Granted
- 1984-05-29 US US06/615,471 patent/US4517060A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-09-14 HK HK743/89A patent/HK74389A/xx not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5421820A (en) * | 1977-07-20 | 1979-02-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recorder-reproducer |
JPS579893A (en) * | 1980-06-19 | 1982-01-19 | Seiko Epson Corp | Gold alloy plating bath |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HK74389A (en) | 1989-09-22 |
ATA168784A (de) | 1986-10-15 |
AT383148B (de) | 1987-05-25 |
JPH0565598B2 (ja) | 1993-09-20 |
EP0126921A2 (de) | 1984-12-05 |
IE841268L (en) | 1984-11-27 |
DE3476225D1 (en) | 1989-02-23 |
DE3319772A1 (de) | 1984-11-29 |
EP0126921A3 (en) | 1985-01-30 |
DE3319772C2 (ja) | 1991-05-16 |
ES532837A0 (es) | 1985-02-01 |
US4517060A (en) | 1985-05-14 |
ES8502741A1 (es) | 1985-02-01 |
EP0126921B1 (de) | 1989-01-18 |
IE56353B1 (en) | 1991-07-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4331518A (en) | Bismuth composition, method of electroplating a tin-bismuth alloy and electroplating bath therefor | |
US6004448A (en) | Deposition of chromium oxides from a trivalent chromium solution containing a complexing agent for a buffer | |
US3905878A (en) | Electrolyte for and method of bright electroplating of tin-lead alloy | |
US20100326713A1 (en) | Ni-p layer system and process for its preparation | |
US5552031A (en) | Palladium alloy plating compositions | |
JPH11217690A (ja) | 電気メッキパラジウム合金組成物及びその組成物を用いる電気メッキ法 | |
US4013523A (en) | Tin-gold electroplating bath and process | |
JPS60181293A (ja) | アルカリ性浴からの電気亜鉛−鉄合金めつき法 | |
JPS60169588A (ja) | 亜鉛用または亜鉛合金用酸性電着浴 | |
KR910004972B1 (ko) | 주석-코발트, 주석-니켈, 주석-납 2원합금 전기도금조의 제조방법 및 이 방법에 의해 제조된 전기도금조 | |
US4605474A (en) | Alkaline cyanide bath for electrolytic deposition of copper-tin-alloy coatings | |
JPH0322478B2 (ja) | ||
JPS59232289A (ja) | 一様な紅色ないし紫色の金―銅―ビスマス合金を電解析出するための水浴 | |
US4048023A (en) | Electrodeposition of gold-palladium alloys | |
GB2178747A (en) | Electroplating composition and process and surfactant compound for use therein | |
US3284323A (en) | Electroplating of aluminum and its alloys | |
WO1993018211A1 (en) | Cyanide-free copper plating bath and process | |
US4615774A (en) | Gold alloy plating bath and process | |
US4470886A (en) | Gold alloy electroplating bath and process | |
JPS6029482A (ja) | 錫及び錫合金電気めつき液 | |
JPS5842786A (ja) | すず―鉛合金用電気めっき浴 | |
JP3526947B2 (ja) | アルカリ性亜鉛めっき | |
JPS59133394A (ja) | パラジウムの高速めつき用浴及び方法 | |
SE2150946A1 (en) | Compositions, methods and preparations of cyanide-free copper solutions, suitable for electroplating of copper deposits and alloys thereof | |
WO2022229373A1 (en) | Electroplating composition for depositing a chromium or chromium alloy layer on a substrate |