JPS59230605A - ダイナミツク膜の製造方法 - Google Patents

ダイナミツク膜の製造方法

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JPS59230605A
JPS59230605A JP10730883A JP10730883A JPS59230605A JP S59230605 A JPS59230605 A JP S59230605A JP 10730883 A JP10730883 A JP 10730883A JP 10730883 A JP10730883 A JP 10730883A JP S59230605 A JPS59230605 A JP S59230605A
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JP
Japan
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dynamic membrane
under pressure
refluxing
silica
porous support
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JP10730883A
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Tooru Imanara
今奈良 徹
Tetsuaki Kihara
木原 哲昭
Keizo Usui
臼井 敬三
Kazuya Nakajima
和也 中島
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Mitsubishi Kasei Techno Engineers Ltd
Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Techno Engineers Ltd
Mitsubishi Kasei Corp
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Publication date
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  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ダイナミック膜の製造方法に関するものでs
b、詳しくは、十分な分離機能を持ち、且つ安定したダ
イナミック膜の製造方法に関するものである。
ダイナミック膜とは、多孔質支持体上に、高分子物質や
微粒子状物質等を加圧下で動的に付着させることによシ
形成された膜のことであ択近年、各種の分野において、
限外P過膜、逆浸透膜としてその利用が検討されている
従来、公知のシリカを成分とするダイナミック膜は、酸
性安定型あるいはアルカリ安定型の適当な濃度のシリカ
のコロイド溶液を多孔質支持体上に加圧還流させて得ら
れたものであるが、このようなシリカのダイナミック膜
は、濃縮プロセス等における、例えば水洗浄の操作中に
膜の一部が剥離するという欠点がある。
本発明者等は、これらの事情に鑑み、鋭慈仙究を進めた
結果1本発明に到達した、すなわち、本発明は上記欠点
′fr%A消した安定なダイナミック膜を提供するもの
であり、その要旨は、多孔質支持体上に、pH値がZ、
0以上のシリカのコロイド溶液を加圧下還流させたのち
、得られたダイナミック膜上に、  pH値が3.を以
下の酸水溶液を加圧下還流させることf特徴とするダイ
ナミック膜の製造方法に存する。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明で用いられる多孔質支持体としては。
公知の各種のものが挙げられる。例えばセラミックス、
焼結金属粉末、焼結ガラス粉末、炭素材料など無機質多
孔質支持体および酢酸セルロース、ポリ増化ビニル、ポ
リメタクリロニトリル、ポリアミド、フッ素樹脂などの
各種合成樹脂などの有機質多孔質支持体が挙げられる。
表面細孔の孔径は、通常O0θ/〜コμ、好1しくは、
0.0!〜θ、−2μのものが用いられる。また、多孔
質支持体の浮石は特に限定されるものではないが、使用
目的に応じて機械的強度を持つ程度であればよい。
コロイド溶液を形成するシリカの粒径は、ダイナミック
膜の使用目的に応じて適宜選択されしては、5102 
 濃度が通常、θ、03〜/、Of/1、好ましくけ、
0./〜θ、r y /″z−のものが用いられる。
このような、シリカのコロイド溶液は、市販されている
酸性安定型あるいけアルカリ安定型のコロイド状シリカ
を適宜希釈して調製することができ、こうして得られた
コロイド溶液のpH値は、通例、グ、θ〜/θ、θの範
囲である。
ダイナミック膜の形成は、従来公知の方法に従って、多
孔質支持体上に、コロイド状シリカを加圧下還流させる
方法によって行わhる。圧力は、2〜36 kg / 
c、11 G、奸才しく Hj 〜2 !に9 / c
A Gとされ、温度は、常温でよい。還流時間は、種々
の条件によって異々るが、通常は、!〜30分間で十分
である。
本発明方法においては、こうして得られたダ酸水溶液と
しては、通常% pH値が八〇〜3、!、好ましくは、
ム!〜λ、!のものが用いられる。具体的には、硫酸、
塩酸、硝酸等の強酸を用すて上記pH範囲に調製したも
のが用いられる。
酸水溶液の加圧還流処理は、シリカのコロイド溶液の還
流処理と同一の圧力条件下で行われ。
コロイド溶液の還流処理後に解圧することなく引継いて
行うのがよい。酸水溶液の還流は、シリカ膜の全体に酸
水溶液が流通するように行うことが肝要であり、丑だ、
還流時間はt〜30分で十分である。
本発明は、上記のように、  pH値がy、o以上のシ
リカのコロイド溶液を用いてシリカ膜を形成させ、これ
をpH値が3.!以下の酸水溶液で処理するものである
が、けじめから、pH値が3、!以下K IAj製した
シリカのコロイド溶液を使用した場合は、所期の目的は
達成されない。
こうして得られた本発明のダイナミック族は、コロイド
粒子が密に充填きれたものであるが、更に、加熱水を加
圧下還流すると一層強固なダイナミック膜となシ好まし
い。
加熱水としては、グθ〜/θθ℃、好ましくけ、70〜
10θ℃のものが用いら汎る。加熱水の刃口圧下還流も
シリカのコロイド溶液の還流処理と同一の圧力条件下で
行われ、酸水溶液の加圧還流処理後に解圧することなく
引継いて行うのがよい。加熱水の還流処理も酸水溶液の
処理と同様に、シリカ膜の全体に加熱水が流通するよう
に行うのが肝要であね、還流時間Fi。
/!〜90分、好ましくは、30−60分とされる。
こうして得られた本発明のダイナミック膜は。
多孔質支持体上にシリカの粒子が強固かつ密に付着して
おシ、従って、濃縮プロセスにおける水洗浄等の操作に
よって容易に剥離することはなく、安定なものである。
従って、本発明のダイナミック膜は1例えば、実用的な
限外P辺膜として十分オ0用し得るものでめる。
以下、不発8Aを実施例によって更に詳#uK説明する
が、本発明の要旨を超えない眠り、これらの実施例1で
よって飼定されるものではなり0実施例/ 酸化アルミニウムと珪酸ガラス粉末とを焼結し1表面細
孔を約0.7μにした多孔質支持体上に、粒径10−2
θmμの酸性安定型コロイド状シリカ(5io2濃度θ
1.2r/l)を多孔質支持体表面に沿って、j kg
 / 、! Gの条件下、o、t m/sec、の流速
で20分間流してシリカよりなるダイナミック膜を得た
。解圧することなく引継き、同一の条件下で、pH2,
2の硫酸水溶液を20分間流し1次いで常圧に戻して十
分水渋し、にて評仙Jした。
すなわち、ダイナミックJlilK沿って、常圧下、θ
、、:l 1n / SθCの水を流通させ、流水中の
シリカを分析し、シリカ膜の剥離性を評価した。
上記本発明のダイナミック族においては、排水中のシリ
カは、約/ ppmであシ%60分の流水処理において
も分析イ1.の経時変化は認めらhカかった。
なお、シリカ分析Fi、、r工S KO10/−/97
りに準拠しモリブデン背法によって行った。
実施例コ 実施例/の方法において、硫酸水溶液の還流処理を行っ
たのち、fIj!l圧することなく引継いて。
同一の条件下で、30分間92℃の加熱水の還流処理を
行って1本発明のダイナミック膜を得た。
得らり、たダイナミック膜について、実施例/と同様の
膜安定性評価テストを行ったところ。
流水中のシリカは、最初の!分間の流水処理においては
、0.2 ppmであったが、その後は検出されなかっ
た。
比較例 実施例/において、硫酸水溶液の還流処理を行わない他
は同様にしてダイナミックif製造した。
得られたダイナミック族について、実施例/と同様の膜
安定性評価テストを行ったところ、流水の初期の部分で
白濁が認められた。この白濁の部分で多孔質支持体上に
付着したシリカの相当部分が剥離した。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)多孔質支持体上に、pH値が7.0以上のシリカ
    のコロイド溶液を加圧下還流させたのち、得られたダイ
    ナミック股上にpH値が3.!以下の酸水溶液を加圧下
    還流させることを特徴とするダイナミック族の製造方法
  2. (2)酸水溶液の流通後に、加熱水を加圧下還流させる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の製造方法
JP10730883A 1983-06-15 1983-06-15 ダイナミツク膜の製造方法 Granted JPS59230605A (ja)

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JPS59230605A true JPS59230605A (ja) 1984-12-25
JPH0418887B2 JPH0418887B2 (ja) 1992-03-30

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5218318A (en) * 1991-02-14 1993-06-08 Leader Electronics Corp. Variable gain amplifier
JPH07316337A (ja) * 1994-05-27 1995-12-05 Kanebo Ltd 吸水性シート及びその製造方法
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EP0943619A1 (en) * 1998-03-19 1999-09-22 Hitachi, Ltd. Chip for use in nucleic acid separation, structural element and process for forming the structural element
JP2016016349A (ja) * 2014-07-07 2016-02-01 Jfeケミカル株式会社 濾材被覆方法および濾過方法

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JP2016016349A (ja) * 2014-07-07 2016-02-01 Jfeケミカル株式会社 濾材被覆方法および濾過方法

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