JPS59222426A - ジフルオロメチルチオエ−テル類の製造法 - Google Patents
ジフルオロメチルチオエ−テル類の製造法Info
- Publication number
- JPS59222426A JPS59222426A JP9501983A JP9501983A JPS59222426A JP S59222426 A JPS59222426 A JP S59222426A JP 9501983 A JP9501983 A JP 9501983A JP 9501983 A JP9501983 A JP 9501983A JP S59222426 A JPS59222426 A JP S59222426A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solvent
- chlorodifluoromethane
- thiol
- formula
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式R8H(式中■は、芳香族、複素環残
基を示す)で示されるチオール類を、クロロジフルオル
メタンと反応させて、一般゛式R80HF2(式中Rは
前記と同じ)で示されるジフルオロメチルチオエーテル
類を製造する方法に関し、特に該反応を塩基性触媒の存
在下に非プロトン性の強極性溶媒中で行うことを*gと
する。
基を示す)で示されるチオール類を、クロロジフルオル
メタンと反応させて、一般゛式R80HF2(式中Rは
前記と同じ)で示されるジフルオロメチルチオエーテル
類を製造する方法に関し、特に該反応を塩基性触媒の存
在下に非プロトン性の強極性溶媒中で行うことを*gと
する。
チオール類をクロロジフルオルメタンと反応させ対応す
るジフルオロメチルチオエーテル類ヲ製造する方法とし
て1例えば、Journal of American
Chemical 5ociety 、 79巻(1
957年)5493〜5496頁に記載されている方法
がとられている。この方法に従えば、チオフェノール類
を、大過剰のナトリウムメトキサイドの存在下メタノー
ル中でクロロジフルオルメタンと長時間反応させる方法
がとられている。ざらに、この方法で、当量のナトリウ
ムメトキサイドを用いてチオフェノールのナトリウム塩
を生成させ、同様にメタノール中でクロロジフルオルメ
タンと反応させると、反応は極めて遅く、殆んど実用性
がなく、強塩基であるナトリウムメトキサイドが大過剰
存在することが実用上必須である。しかも、かかる条件
下では、クロロジフルオルメタンはかなり速度でメタノ
ールと反応し、ジフルオロメチル−メチルエーテルが副
生ずることが述べられており、高価なりロロジフルオル
メタンの有効利用と言う意味からも必ずしも有利な方法
とは言えない。
るジフルオロメチルチオエーテル類ヲ製造する方法とし
て1例えば、Journal of American
Chemical 5ociety 、 79巻(1
957年)5493〜5496頁に記載されている方法
がとられている。この方法に従えば、チオフェノール類
を、大過剰のナトリウムメトキサイドの存在下メタノー
ル中でクロロジフルオルメタンと長時間反応させる方法
がとられている。ざらに、この方法で、当量のナトリウ
ムメトキサイドを用いてチオフェノールのナトリウム塩
を生成させ、同様にメタノール中でクロロジフルオルメ
タンと反応させると、反応は極めて遅く、殆んど実用性
がなく、強塩基であるナトリウムメトキサイドが大過剰
存在することが実用上必須である。しかも、かかる条件
下では、クロロジフルオルメタンはかなり速度でメタノ
ールと反応し、ジフルオロメチル−メチルエーテルが副
生ずることが述べられており、高価なりロロジフルオル
メタンの有効利用と言う意味からも必ずしも有利な方法
とは言えない。
かかる事情のもとに、ジフルオロメチルチオエーテル類
の製造法を種々検討した結果、チオール類と、クロロジ
フルオルメタンとを反応でせ、目的のジフルオロメチル
チオエーテル類を製造するのに、大過剰の強塩基も必要
なく、しかも、はぼ非水系でこの反応が極めて良好に進
行する方法を発明するに至った。
の製造法を種々検討した結果、チオール類と、クロロジ
フルオルメタンとを反応でせ、目的のジフルオロメチル
チオエーテル類を製造するのに、大過剰の強塩基も必要
なく、しかも、はぼ非水系でこの反応が極めて良好に進
行する方法を発明するに至った。
すなわち、該反応に於いて溶媒として極性が大キイ非プ
ロトン性(アブロチインク)の溶媒を用いると、等モル
ないしは小過剰の塩基性物質の共存にて目的の反応が極
めて良好に進行することを見い出した。ここで言う極性
の大きい非プロトン性の溶媒とは、誘電率(ε)が15
以上、双極子能率(μ)が2.5 D以上であり、溶媒
極性パラメーターの1つであるET(30)値が40乃
至47である溶媒を意味する。これらの溶媒の代表的な
ものを示せば、例えば、ジメチルスルホキサイド(DM
SO)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジエチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトア
ミド、プロピレン−カーボネート、エチレンカーボネー
ト、アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホラン
、ジメチルスルホン、アセトン、アセトフェノン、ニト
ロベンゼン、ベンゾニトリル、1−メチル−2−ピロリ
ジノン、ナト2メチル尿素、等があげられる。これらの
溶媒には少量の水ないしは他の有機溶媒を多少含有して
いても大きな影響はなく、通常5oないし100%含量
のものを用いることが出来る。塩基性物質としては、ア
ルカリ金属の水酸化物、炭莞塩、重炭酸塩が用いられる
。例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸カリ
ウム、重炭酸ナトリウムの如き比較的塩基性の弱いもの
も使用可能であるし、苛性ソーダや苛性カリの如き強X
/コ1基を用いることも出来る。その使用量については
必ずしも厳密な制限はないが、通常はチオール類に対し
1〜4モルの塩基性物質を用いると良い。
ロトン性(アブロチインク)の溶媒を用いると、等モル
ないしは小過剰の塩基性物質の共存にて目的の反応が極
めて良好に進行することを見い出した。ここで言う極性
の大きい非プロトン性の溶媒とは、誘電率(ε)が15
以上、双極子能率(μ)が2.5 D以上であり、溶媒
極性パラメーターの1つであるET(30)値が40乃
至47である溶媒を意味する。これらの溶媒の代表的な
ものを示せば、例えば、ジメチルスルホキサイド(DM
SO)、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジエチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトア
ミド、プロピレン−カーボネート、エチレンカーボネー
ト、アセトニトリル、スルホラン、ジメチルスルホラン
、ジメチルスルホン、アセトン、アセトフェノン、ニト
ロベンゼン、ベンゾニトリル、1−メチル−2−ピロリ
ジノン、ナト2メチル尿素、等があげられる。これらの
溶媒には少量の水ないしは他の有機溶媒を多少含有して
いても大きな影響はなく、通常5oないし100%含量
のものを用いることが出来る。塩基性物質としては、ア
ルカリ金属の水酸化物、炭莞塩、重炭酸塩が用いられる
。例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸カリ
ウム、重炭酸ナトリウムの如き比較的塩基性の弱いもの
も使用可能であるし、苛性ソーダや苛性カリの如き強X
/コ1基を用いることも出来る。その使用量については
必ずしも厳密な制限はないが、通常はチオール類に対し
1〜4モルの塩基性物質を用いると良い。
クロロジフルオルメタンは上記の溶媒中、チオール類、
塩基性物質の混合液中に直接吹込んでも良く、オートク
レーブ中に圧入しておいて、反応温度にまで高めて反応
させても良く、連結式反応槽を用いて反応させても良い
。いずれの場合もその使用量については特に制限はない
が、チオール類に対し、1〜10倍モルのクロロジフル
オルメタンを用いることが好ましい。
塩基性物質の混合液中に直接吹込んでも良く、オートク
レーブ中に圧入しておいて、反応温度にまで高めて反応
させても良く、連結式反応槽を用いて反応させても良い
。いずれの場合もその使用量については特に制限はない
が、チオール類に対し、1〜10倍モルのクロロジフル
オルメタンを用いることが好ましい。
反応条件は用いるチオール類、塩基性物質の種類にもよ
るが、一般に室温ないしは150℃の範囲で進行し、望
ましくは、50℃ないしは120℃の範囲で反応させる
ことが適当であ−る。
るが、一般に室温ないしは150℃の範囲で進行し、望
ましくは、50℃ないしは120℃の範囲で反応させる
ことが適当であ−る。
本発明の方法は非常に広範なジフルオロメチルチオエー
テル類の製造に適用することが出来、例えば、前記一般
式R−8Hで示されるチオール類の几−で示される有機
残基としては、芳香族としては、フェニル基、ナフタレ
ン基およびそれらの核置換体、R−が複素環の場合、そ
の複素環は非常に広範におよぶが、例えばR−8Hとし
て例示すれば、 2−メルカブトオナサゾリン、チオヒダントイン、2−
メルカプトチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、2−メルカプト−人2−チアゾリン、2−メルカプ
トイミダゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2
−メルカプト−1,3゜4−オキサ−ジアゾール、5−
メルカプト−1,2゜4−チアジアゾール、2−メルカ
プト−1,3,4−チアジアゾール、3−メルカプト−
1,2,4−)リアゾール、5−メルカプト−テトラゾ
ール、メルカプトピリジン、メルカプトキノリン、3−
メルカプトピリダジン、4−メルカプトピリミジン等が
挙げられる。
テル類の製造に適用することが出来、例えば、前記一般
式R−8Hで示されるチオール類の几−で示される有機
残基としては、芳香族としては、フェニル基、ナフタレ
ン基およびそれらの核置換体、R−が複素環の場合、そ
の複素環は非常に広範におよぶが、例えばR−8Hとし
て例示すれば、 2−メルカブトオナサゾリン、チオヒダントイン、2−
メルカプトチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、2−メルカプト−人2−チアゾリン、2−メルカプ
トイミダゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2
−メルカプト−1,3゜4−オキサ−ジアゾール、5−
メルカプト−1,2゜4−チアジアゾール、2−メルカ
プト−1,3,4−チアジアゾール、3−メルカプト−
1,2,4−)リアゾール、5−メルカプト−テトラゾ
ール、メルカプトピリジン、メルカプトキノリン、3−
メルカプトピリダジン、4−メルカプトピリミジン等が
挙げられる。
この製造方法を従来の方法と比較する時、次の様な利点
がちり、工業的に極めて秀れた方法である。
がちり、工業的に極めて秀れた方法である。
第1に、非水系で反応が可能であり、しかも、溶媒自身
は反応に対し不活性であシ、反応終了後、溶媒を留去回
収することにより、そのまま再使用可能であり、溶媒を
効率よく使用出来る。
は反応に対し不活性であシ、反応終了後、溶媒を留去回
収することにより、そのまま再使用可能であり、溶媒を
効率よく使用出来る。
第2に、一般に過剰に用いられるクロロジフルオルメタ
ンは、殆んど副反応を起さず、過剰分の回収が極めて容
易で1+、高価なりロロジフルオルメタンを有効に使用
し得る。第3に、用いる塩基性物質の使用量が従来法と
比較して極めて少ないことも、経済性はもとよジ、廃水
処理の負担を著しく経滅する。
ンは、殆んど副反応を起さず、過剰分の回収が極めて容
易で1+、高価なりロロジフルオルメタンを有効に使用
し得る。第3に、用いる塩基性物質の使用量が従来法と
比較して極めて少ないことも、経済性はもとよジ、廃水
処理の負担を著しく経滅する。
以下に、本発明の方法について、代表的な実施例を示し
、本発明の方法如ついて更に具体的に説明する。但し、
これらの例は代表的なものKついての単なる例示であり
、本発明の方法はこれらのみに限定はれないことは勿論
であり、また、これらの例によって何ら制限されないこ
とは言う迄もない。
、本発明の方法如ついて更に具体的に説明する。但し、
これらの例は代表的なものKついての単なる例示であり
、本発明の方法はこれらのみに限定はれないことは勿論
であり、また、これらの例によって何ら制限されないこ
とは言う迄もない。
実施例 1
パラニトロフェニルメルカプタン501、ジメチルホル
ムアミド(DMF ) 40 o7!、炭酸カリウム6
22をオートクレーブに入れ、これにクロロジフルオル
メタン801を圧入した。その後、100℃で2時間反
応させ、反応終了後常圧に戻して過剰のクロロジフルオ
ルメタンを除き、減圧下にDMFを留去した後、残渣に
トルエンを加えて、その有機層を濾過にて得、アルカリ
水(5%苛性ソーダ水溶液)で洗浄及び水洗し、トルエ
ンを留去し更に生成物を139〜b Hg で減圧蒸留して、バラジフルオロメチルチオニ
トロベンゼ7162?(75%収率)を得た。
ムアミド(DMF ) 40 o7!、炭酸カリウム6
22をオートクレーブに入れ、これにクロロジフルオル
メタン801を圧入した。その後、100℃で2時間反
応させ、反応終了後常圧に戻して過剰のクロロジフルオ
ルメタンを除き、減圧下にDMFを留去した後、残渣に
トルエンを加えて、その有機層を濾過にて得、アルカリ
水(5%苛性ソーダ水溶液)で洗浄及び水洗し、トルエ
ンを留去し更に生成物を139〜b Hg で減圧蒸留して、バラジフルオロメチルチオニ
トロベンゼ7162?(75%収率)を得た。
実施例 2
例1と同様の反応を、DMFのかわりにジメチルスルホ
キサイド(DMSO)を用いて実施した所、70チの収
率でバラジフルオロメチルチオニトロベンゼンを得た。
キサイド(DMSO)を用いて実施した所、70チの収
率でバラジフルオロメチルチオニトロベンゼンを得た。
実施例 3
D M F 200 ml、炭酸カリウム282の混合
物に、チオフェノール10ff、加え、ioo℃に加熱
し、かくはん下、常圧で2時間クロロジフルオルメタン
を導入して反応させた。反応終了後、DMFを留去した
後トルエン300−を加え、アルカリ水及び水で洗浄、
トルエンを留去すると、85チの収率でジフルオロメチ
ルチオベンゼンヲ得た。
物に、チオフェノール10ff、加え、ioo℃に加熱
し、かくはん下、常圧で2時間クロロジフルオルメタン
を導入して反応させた。反応終了後、DMFを留去した
後トルエン300−を加え、アルカリ水及び水で洗浄、
トルエンを留去すると、85チの収率でジフルオロメチ
ルチオベンゼンヲ得た。
実施例 4
4−ターシャリ−ブチル−2−メルカフ“) −1゜3
−チアゾール4グ(23mmoj)と、炭酸カリウム7
グとを601dのDMFに加え、90℃に加熱し、かく
はん下、クロロジフルオルメタンを3時間導入した。反
応終了後、固型物を瀘取にて除き、ろ液を減圧にて製綿
した。残渣にジクロルメタン60−を加え、5係苛性ソ
ーダ水溶液、次いで水にて洗浄し、溶媒を留去すると、
351の生成物を得た。このものは、赤外線スペクトル
と、NMRスペクトルの測定により、4−ターシャリ−
ブチル−2−ジフルオロメチルチオ−1,3−チアゾー
ルであった。収率63襲。
−チアゾール4グ(23mmoj)と、炭酸カリウム7
グとを601dのDMFに加え、90℃に加熱し、かく
はん下、クロロジフルオルメタンを3時間導入した。反
応終了後、固型物を瀘取にて除き、ろ液を減圧にて製綿
した。残渣にジクロルメタン60−を加え、5係苛性ソ
ーダ水溶液、次いで水にて洗浄し、溶媒を留去すると、
351の生成物を得た。このものは、赤外線スペクトル
と、NMRスペクトルの測定により、4−ターシャリ−
ブチル−2−ジフルオロメチルチオ−1,3−チアゾー
ルであった。収率63襲。
N M R(0DOAs )δ、1.36 (Sing
let 9 H)、7、0 0 (Single
t I H) 、 7. 2 4 (
tripret =56HzLH) 特許出願人 昭和電工株式会社
let 9 H)、7、0 0 (Single
t I H) 、 7. 2 4 (
tripret =56HzLH) 特許出願人 昭和電工株式会社
Claims (3)
- (1)一般式R8H’(式中Rは、芳香族、複素環残基
を示す)で示きれるチオール類を塩基性触媒の存在下に
、非プロトン性の強極性溶媒中でクロロジフルオルメタ
ンと反応させることを特徴とする一般式R8014F2
(式中Rは上記と同じ)で示されるジフルオロメチルチ
オエーテル類の製造法。 - (2) 非プロトン性の強極性溶媒が、誘電率(ε)
15以上、双極子能率(μ)25D以上、溶媒極性パラ
メーターの1つであるET(30)値が40乃至47を
有する溶媒である特許請求の範囲第1項の製造法。 - (3)塩基性触媒がアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、
重炭酸塩の少くとも1mである特許請求の範囲第1項の
製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9501983A JPH0227972B2 (ja) | 1983-05-31 | 1983-05-31 | Jifuruoromechiruchioeeteruruinoseizoho |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9501983A JPH0227972B2 (ja) | 1983-05-31 | 1983-05-31 | Jifuruoromechiruchioeeteruruinoseizoho |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59222426A true JPS59222426A (ja) | 1984-12-14 |
JPH0227972B2 JPH0227972B2 (ja) | 1990-06-20 |
Family
ID=14126327
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9501983A Expired - Lifetime JPH0227972B2 (ja) | 1983-05-31 | 1983-05-31 | Jifuruoromechiruchioeeteruruinoseizoho |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0227972B2 (ja) |
-
1983
- 1983-05-31 JP JP9501983A patent/JPH0227972B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0227972B2 (ja) | 1990-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20160003048A (ko) | 1,2-벤조이소티아졸린-3-온의 제조 공정 | |
RU2155758C2 (ru) | Способ получения 1,2-бензизотиазолин-3-онов(варианты) | |
JPH0774186B2 (ja) | 5−アミノサリチル酸の製造方法 | |
JPS59222426A (ja) | ジフルオロメチルチオエ−テル類の製造法 | |
CN113045508B (zh) | 一种nbs促进烯胺酮极性反转合成二氨基烯烃的方法 | |
EP0375061B1 (en) | Preparation of 5-amino-1,2,4-triazole-3-sulfonamides and intermediates | |
KR101891860B1 (ko) | 1,2-벤즈이소티아졸린-3-온의 제조 방법 | |
JPH01261361A (ja) | ジペンタメチレンチウラムヘキサスルフィドの製造法 | |
JPS644501B2 (ja) | ||
JP2009221185A (ja) | トルイジン化合物の製造方法 | |
US5210287A (en) | 2,5-dichlorophenylthioglycolic acid derivative and method for its production | |
JP4551722B2 (ja) | ペンタブロモチオフェノールの製造方法 | |
EP0151835B1 (en) | Process for producing pentachloronitrobenzene from hexachlorobenzene | |
JP2789400B2 (ja) | 2,5−ジクロロフェニルチオグリコール酸誘導体およびその製造方法 | |
JPS57179154A (en) | Preparation of 2,2'-dihydroxy-1,1'-dinaphthyl disulfide | |
JPH0227971B2 (ja) | Ganchitsusokagobutsunochitsusogenshinijifuruoromechirukiodonyusuruhoho | |
PL86902B1 (ja) | ||
SU1452477A3 (ru) | Способ получени 3,4,5-триметоксибензонитрила | |
JP2993796B2 (ja) | 4,4′−ジニトロスチルベン−2,2′−ジスルホン酸又はその塩の製造法 | |
JPH0987214A (ja) | 4,4’−ビス(クロロメチル)ビフェニルの製造方法 | |
JPH03227974A (ja) | キノリン―8―スルホン酸の製造方法 | |
PL93129B1 (ja) | ||
JPS6217996B2 (ja) | ||
JPS5995282A (ja) | 5−メルカプト−1,2,3−チアジアゾ−ル塩の製法 | |
JPH05178816A (ja) | ハロゲノチオフェノールの製造方法 |