JPS59222212A - 排ガスの処理設備 - Google Patents

排ガスの処理設備

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JPS59222212A
JPS59222212A JP58093370A JP9337083A JPS59222212A JP S59222212 A JPS59222212 A JP S59222212A JP 58093370 A JP58093370 A JP 58093370A JP 9337083 A JP9337083 A JP 9337083A JP S59222212 A JPS59222212 A JP S59222212A
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JP
Japan
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gas
exhaust gas
waste gas
absorbent
acidic
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JP58093370A
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English (en)
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JPH0369570B2 (ja
Inventor
Mizuho Nakajima
中島 瑞穂
Narimoto Tomizawa
冨澤 成元
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、酸性ガス、窒素酸化物、煤じんを含む排ガス
の処置設備に関する。− 従来の都市ごみや産業廃棄物等の焼却炉からの酸性ガス
(例えば、HCI、Sow等)、窒素酸化物(例えば、
NOx等)、煤じん等を含む排ガスの処理設備は、第1
図に示す如く、煤じん捕集、酸性ガス除去、窒素酸化物
除去のための装置が全体プラントの中で個々独立にあり
1個々独立に制御されているため、操作が複雑化し、処
理性能は各装置の条件変動が相互に影響し合っている。
又、処理後の反応生成物が各装置から排出されるため付
帯装置も複雑化している。第1図に於て、1は焼却炉、
2は脱硫剤噴射装置、5はガス冷却装置、4は宵1気集
じん装置、5は酸性カス除去装置、6は排風装置をそれ
ぞれ示′1−0従って、もし排ガス処理設備が牟−設備
で行うことができれば、焼却プラント全体が非常に簡素
になり、維持管理しやすくできることになイ)。
本発明は、かかる要求を満たすべき完成された。すなわ
ち、本発明の目的は、酸性カス、窒素酸化物、煤じんを
含む排ガスの処理設備に於て、濾過フィルタ、該濾過フ
ィルタ上に窒素酸化物還元触媒をコーティングして形成
されろ一次沖過層、該−次沖過層上に酸性ガス吸収剤を
捕集して形成される二次濾過層とを有し、上記の逆の順
序に排ガスを通過させる接触方式排ガス処理装置と、該
処理装置上流側排ガスダクト中にアンモニア等の窒素化
合物及び消石灰等の酸性ガス吸収剤を噴射する薬品噴射
装置とを有してなることを特徴とする、酸性ガス、窒素
酸化物、煤じんを含む排ガスの処理設備ケ提供すること
にある。本発明に依れば、焼却炉よりの排出物は接触方
式排カス処理装置から完全乾式にて排出され、従って付
帯装置は非常に簡素化されることになる。
次に、本発明の設備を図面をもって説明する。
第2図は本発明の設備を組み込んだ系統図である。焼却
炉11から出た排ガスは、ガス冷却装置12へ導かれて
排ガス処理に適した温度に降温された後、薬品噴射装置
13からの薬品すなわち、アンモニアなどの窒素化合物
と消石灰などの酸性ガス吸収剤、と共に接触方式排ガス
処理装置14へ導れる。排ガス処理装置14で処理され
た排出物は、排風装置15に導かれ後、空気中に排出さ
れる。接触方式排ガス処理装置14は、第3図に示すよ
うな濾過機構?持っている。すなわち、該濾過機構は、
濾過フィルタ21、該濾過フィルタ上に窒素酸化物還元
触媒をコーティングして形成される一次p過層22、及
び該−次濾過層上に酸性ガス吸収剤な捕集して形成され
る二次濾過層25から成っている。
そして、ガス冷却装置12で適温まで降温された排ガス
は、薬品噴射装置16からの薬品(例えば消石灰とアン
モニア)とともに二次濾過層23側から排ガス処理装置
14へ導入され、p過フィルタ21側から排出される。
濾過フィルタには、排ガス中の煤じん及び薬品が捕集さ
れ、排ガスに対して濾過ケーキ層ン形成する。亜硫酸ガ
ス塩化水素等の酸性ガスは薬品中の消石灰等の吸収剤に
より吸収され、又NOx 等の窒素酸化物は濾過フィル
タにコーティングされている還元触媒と薬品中のアンモ
ニア等の窒素化合物により還元除去される構成となって
いる。F;1Mフィルタは濾過層を保持するために設け
られるもので、使用温度により適宜選択することができ
、例えば耐熱ナイロン、ガラス線維等をその特質に合わ
せて織布状やフェルト状の形態で用いることができる。
公知の還元触媒は予め濾過フィルタ上に塗布してお(こ
とができるが、該シ過フィルタ上に微粉状の還元触媒を
空気と混合物の状態で送り込んで補集させ、これを繰返
1−ことにより一次P遍層を形成させることもできる。
この−次沖過層では、薬品噴射装置により供給されたア
ンモニア尋の窒素化合物が吸着され、排ガス中の窒素酸
化物と効率よく反応して無害な窒素ガスに還元される。
一方、触媒が活性を失った場合には、清掃し、再度プリ
コートを行うことによって一次沖過層を形成する。
また、上記−次沖過階上には、酸性ガス除去を行なうた
めに、薬品噴射装置により供給される消石灰等の吸収剤
が捕集され吸収剤σ]フィルタケーキ層、すなわち二次
濾過層が形成される。
そして、該二次濾過層では、吸収剤と酸性ガスとが効率
よく反応吸収さ肚る。さらには、排ガス中の煤じんも同
時にこの二次濾過層で濾過されろ。二?Kv5過層は、
圧損の上昇によりガスの通過が不能になるが、ある一定
の圧損になった段階で逆送風洗浄等によって再生できる
上述の如く、本発明の設備によnば、酸性ガス、窒素酸
化物、煤じん等を含む排カスは、先ず二次濾過層で酸性
カス及び煤じんが吸収され、そして−次Pa層で窒素酸
化物が無害な窒素ガスに変換されろ。従って、単−設備
によって排ガスの処理が出来ることから産業上ぎわめで
有利な設備である。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来σ】排ガス処理f)系統図であり、第2図
は本発明による排ガス処理の系統図である。又第5図は
本発明の排ガス処理装置の濾過機構を示す図である。 り代理人   内  1)     明ゆ代理人   
萩  原  光  −

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 酸性ガス、窒素酸化物、煤じんを含む排ガスの処理設備
    に於て、濾過フィルタ、該p過フィルタ上に窒素酸化物
    還元触媒をコーティングして形成される一次沖過層、該
    −次濾過層上に酸性ガス吸収剤を捕集して形成される二
    次濾過層とを有し、上記の逆の順序に排ガスを通過させ
    る接触方式排ガス処理装置と、該処理装置上流側排ガス
    ダクト中にアンモニア等の窒素化合物及び消石灰等の酸
    性ガス吸収剤を噴射する薬品噴射装置とを有してなるこ
    とを特徴とする、酸性ガス、窒素酸化物、煤じんを含む
    排ガスの処理設備。
JP58093370A 1983-05-28 1983-05-28 排ガスの処理設備 Granted JPS59222212A (ja)

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JPS59222212A true JPS59222212A (ja) 1984-12-13
JPH0369570B2 JPH0369570B2 (ja) 1991-11-01

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Cited By (1)

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JPH01293123A (ja) * 1988-05-23 1989-11-27 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 燃焼排ガスの総合的処理方法

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