JPS59218702A - 電圧非直線磁器組成物 - Google Patents
電圧非直線磁器組成物Info
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- JPS59218702A JPS59218702A JP58092750A JP9275083A JPS59218702A JP S59218702 A JPS59218702 A JP S59218702A JP 58092750 A JP58092750 A JP 58092750A JP 9275083 A JP9275083 A JP 9275083A JP S59218702 A JPS59218702 A JP S59218702A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はS’(1−x) CaxTiO3を主成分とす
る電圧非直線抵抗体(以下バリスタと称する)を得るた
めの磁器組成物に関する。
る電圧非直線抵抗体(以下バリスタと称する)を得るた
めの磁器組成物に関する。
電子機器で発生する異常電圧、ノイズ等を吸収もしくは
除去するために、種々のバリスタが使用されているカス
5、特願昭56=7142°5号に示されているSr(
1−x) CaxTiO3を主成分とするバリスタは、
バリスタ機能のみならず、コンデンサ機能も有するので
、グロー放電、アーク放電、異常電圧、ノイズ等の吸収
又はバイパスを良好に達成することが出来る。またこの
バリスタは従来の5rTi03 を主成分とするバリ
スタよりも温度特性が優れているという特長を有してい
る。しかし、近年サージ電圧及び/又は電流の印加によ
る特性の劣化が更に少ないバリスタが要求されている。
除去するために、種々のバリスタが使用されているカス
5、特願昭56=7142°5号に示されているSr(
1−x) CaxTiO3を主成分とするバリスタは、
バリスタ機能のみならず、コンデンサ機能も有するので
、グロー放電、アーク放電、異常電圧、ノイズ等の吸収
又はバイパスを良好に達成することが出来る。またこの
バリスタは従来の5rTi03 を主成分とするバリ
スタよりも温度特性が優れているという特長を有してい
る。しかし、近年サージ電圧及び/又は電流の印加によ
る特性の劣化が更に少ないバリスタが要求されている。
また、バリスタ電圧の温度変化率の小さいバリスタが要
求されている。
求されている。
そこで、本発明の目的は、サージの印加によって、バリ
スタ電圧、非直線係数、バリスタ電圧の温度特性の劣化
の少なく且つバリスタ電圧の温度変化率の小さい電圧非
直線磁器組成物を提供することにある。
スタ電圧、非直線係数、バリスタ電圧の温度特性の劣化
の少なく且つバリスタ電圧の温度変化率の小さい電圧非
直線磁器組成物を提供することにある。
上記目的を達成するための本願の第1番目の発明は、5
r(1−x)CaxTi03 (但しXは0.01〜0
.5の範囲の値)(以下第1成分と呼ぶ)100モル部
と、Nb2O5、Ta205 、 WOa、I、fi2
Qa、CeO2、NdzOa 、’ Y2O3、Sm2
O3、PreQu 、及びDy2O3の内■J1μ■寿
サ モル部す、Al2O31,50モル部とを含む電圧非直
線磁器組成物に係わるものである。 。
r(1−x)CaxTi03 (但しXは0.01〜0
.5の範囲の値)(以下第1成分と呼ぶ)100モル部
と、Nb2O5、Ta205 、 WOa、I、fi2
Qa、CeO2、NdzOa 、’ Y2O3、Sm2
O3、PreQu 、及びDy2O3の内■J1μ■寿
サ モル部す、Al2O31,50モル部とを含む電圧非直
線磁器組成物に係わるものである。 。
上記発明によれば、バリスタ電圧の温度変化率を小さく
することが可能な第1成分(主成分)と主として磁器の
半導体化に寄与する第2成分とに、第3成分としてNa
20Bを0.02〜2.50モル部の範囲で加え、且7
つA1203を0.01〜1.50モル部の範゛囲で加
えることにより、サージの印加によるバリスタ電圧の温
度特性の変化を大幅に減少させることが可能になり、且
つバリスタ電圧の温度変化率を小さくすることが可能に
なる。また、Al2O3は非直線係数αの増大に寄与す
る。
することが可能な第1成分(主成分)と主として磁器の
半導体化に寄与する第2成分とに、第3成分としてNa
20Bを0.02〜2.50モル部の範囲で加え、且7
つA1203を0.01〜1.50モル部の範゛囲で加
えることにより、サージの印加によるバリスタ電圧の温
度特性の変化を大幅に減少させることが可能になり、且
つバリスタ電圧の温度変化率を小さくすることが可能に
なる。また、Al2O3は非直線係数αの増大に寄与す
る。
本願の第2番目の発明は、第1番目の組成物に更に、非
直線係数の改善に寄与する成分としてAg 20、Cu
b、 MnO2、及び3iQ2の内の1種又は複数種の
酸化物(以下第5成分と呼ぶ)を帆′01〜3.00モ
ル部の範囲で加えた組成物に係わるものである。
直線係数の改善に寄与する成分としてAg 20、Cu
b、 MnO2、及び3iQ2の内の1種又は複数種の
酸化物(以下第5成分と呼ぶ)を帆′01〜3.00モ
ル部の範囲で加えた組成物に係わるものである。
これにより、大きな非直線係数を有し、且つサージ劣化
が防止されたバリスタを提供することが可能になる。
が防止されたバリスタを提供することが可能になる。
以下、本発明に係わる実施例について述べる。
実施例 l
5r(1−x)CaxTi03 (第1成分)のXが第
1表の第1成分の欄の値になるように、純度99.0%
以上の5rCOa 、CaCO3及びTiO2をそれぞ
れ秤量配合し、ボールミルで10時間攪拌し、これを乾
燥し、次に粉砕した。しかる後、上記粉砕したものを1
200tl:’で2時間焼成し、再び粉砕した。これに
より、Xが第1表に示す如く種々異なる第1成分が得ら
れる。
1表の第1成分の欄の値になるように、純度99.0%
以上の5rCOa 、CaCO3及びTiO2をそれぞ
れ秤量配合し、ボールミルで10時間攪拌し、これを乾
燥し、次に粉砕した。しかる後、上記粉砕したものを1
200tl:’で2時間焼成し、再び粉砕した。これに
より、Xが第1表に示す如く種々異なる第1成分が得ら
れる。
次に、上述の如くして得られた第1成分100モル部(
一定)に対し、純度99.0%のNb2O5、Ta20
5 、WO3、La20a 、 CeO2、Nd2O3
、Pr6O11、Dy2O3、Y2O3及びSm2O3
から選択された1種以上の金属酸化物(第2成分)の粉
末と、純度97.0%のNa2OとNaFとから選択さ
れた1種以上のNa化合物(第3成分)Q粉末と、Al
zOa (第4成分)とを第1表に示す比率となるよう
に秤量した。
一定)に対し、純度99.0%のNb2O5、Ta20
5 、WO3、La20a 、 CeO2、Nd2O3
、Pr6O11、Dy2O3、Y2O3及びSm2O3
から選択された1種以上の金属酸化物(第2成分)の粉
末と、純度97.0%のNa2OとNaFとから選択さ
れた1種以上のNa化合物(第3成分)Q粉末と、Al
zOa (第4成分)とを第1表に示す比率となるよう
に秤量した。
次に各原料粉末を乳鉢に投入して20時間攪拌(乾式)
を行なった。次いで、第1表に示すバリスタ原料に対し
10〜15重景%のポリビニールアルコールを有機結合
剤として混入して造粒し、この造粒された混合物を成型
反間1500 kg//crn2で円板に成形した。
を行なった。次いで、第1表に示すバリスタ原料に対し
10〜15重景%のポリビニールアルコールを有機結合
剤として混入して造粒し、この造粒された混合物を成型
反間1500 kg//crn2で円板に成形した。
これらの円板をN2(95容積%)+H2(5容積%)
の還元雰囲気(非酸化性雰囲気)で約135゜C14時
間の焼成を行い、直径10mm、厚さ帆8mmの半導体
磁器を得た。次に空気中(酸化性雰囲気中)において、
1000〜1200cの温度範囲で3時間の熱処理(再
酸化処理)を行った。この結果、Na2O、NaFがN
a 20に夫々変換した外は、出発原料と同じ組成の磁
器が得られた。従って、第1表において、焼成後の第1
成分と第2成分と第4成分の記載は省略され、Na化合
物に対応して焼成後に得られるNa 20のみが記載さ
れている。
の還元雰囲気(非酸化性雰囲気)で約135゜C14時
間の焼成を行い、直径10mm、厚さ帆8mmの半導体
磁器を得た。次に空気中(酸化性雰囲気中)において、
1000〜1200cの温度範囲で3時間の熱処理(再
酸化処理)を行った。この結果、Na2O、NaFがN
a 20に夫々変換した外は、出発原料と同じ組成の磁
器が得られた。従って、第1表において、焼成後の第1
成分と第2成分と第4成分の記載は省略され、Na化合
物に対応して焼成後に得られるNa 20のみが記載さ
れている。
次に、上記磁器の特性を調べるために第1図に示す如く
磁器(1)の両主面に公知の銀ペーストを塗布し、5o
ot:’で焼付げることによって銀電極(2)(3)を
形成し、バリスタ(4)を完成させた。
磁器(1)の両主面に公知の銀ペーストを塗布し、5o
ot:’で焼付げることによって銀電極(2)(3)を
形成し、バリスタ(4)を完成させた。
次にバリスタの特性評価を行うために、バリスタ電圧V
L、非直線係数α、Vlの温度変化率△■1、静電容量
C1サージ電圧印加によるVl及びαの変化率△V1
p及びtnp、及びサージ電圧印加後における■1の温
度変化率△■I丁を測定したところ、第2に示す結果が
得られた。
L、非直線係数α、Vlの温度変化率△■1、静電容量
C1サージ電圧印加によるVl及びαの変化率△V1
p及びtnp、及びサージ電圧印加後における■1の温
度変化率△■I丁を測定したところ、第2に示す結果が
得られた。
各測定方法を更に詳しく説明すると、バリスタ電圧V1
は第2図に示す回路を使用して測定した。
は第2図に示す回路を使用して測定した。
即ち、直流定電流源(6)にパリ、スタ(4)を接続し
、また直流定電流源(6)とバリスタ(4)との間に電
流計(8)を接続し、バリスタ(4)に並列に電圧計(
9)を接続し、バリスタ(4)だけを20Cの温度に保
たれた恒温槽(イ)に入れてバリスタ(4)に1mAの
電流IIを流し、その時の電圧を測定してバリスタ電圧
(Vl)とした。また非直線係数αは第2図の装置を使
用し、バリスタ電圧■1の他にバリスタ(4)に10m
Aの電流(工lりを流した時の印加電圧VIOを測定し
、次式によって決定した。
、また直流定電流源(6)とバリスタ(4)との間に電
流計(8)を接続し、バリスタ(4)に並列に電圧計(
9)を接続し、バリスタ(4)だけを20Cの温度に保
たれた恒温槽(イ)に入れてバリスタ(4)に1mAの
電流IIを流し、その時の電圧を測定してバリスタ電圧
(Vl)とした。また非直線係数αは第2図の装置を使
用し、バリスタ電圧■1の他にバリスタ(4)に10m
Aの電流(工lりを流した時の印加電圧VIOを測定し
、次式によって決定した。
また温度変化率△V1は、第2図の装置において恒温槽
(イ)を−40C〜+125cの範囲で変化させ、各温
度T(C)においてバリスタ(4)に1mAを流した時
のバリスタ原料VITを測定し、2ocのVlに対しど
の程度変化したかを次式で求めることによって決定した
。なお、各表には前記温度範囲の中の△V1の最大値の
みを示した。
(イ)を−40C〜+125cの範囲で変化させ、各温
度T(C)においてバリスタ(4)に1mAを流した時
のバリスタ原料VITを測定し、2ocのVlに対しど
の程度変化したかを次式で求めることによって決定した
。なお、各表には前記温度範囲の中の△V1の最大値の
みを示した。
次に、過電圧の鋭いパルス即ちサージ電圧が印加された
時に、バリスタ(4)の各特性がどのように変化するか
を模擬的に調べるために、第3図に示すように、2 k
Vの直流定電圧源QO)に並列に電圧計(II)を接続
し、電源(10)に5Ωの抵抗a2と単極双投スイッチ
(131の接点(13a)とを介して2.5μFのコン
デンサa(イ)を接続し、かつスイッチαJの接点(1
3b)にバリスタ(43を接続し、55秒間隔でコンデ
ンサa4の充電エネルギをバリスタ(4)に印加するこ
とを5回繰返し、その後バリスタ電圧Vlp及び非直線
係数αpを第2図の回路で測定し、次式でバリスタ電圧
の変化率△■lp、1(至)及びαの変化率△αp(至
)を求めた。
時に、バリスタ(4)の各特性がどのように変化するか
を模擬的に調べるために、第3図に示すように、2 k
Vの直流定電圧源QO)に並列に電圧計(II)を接続
し、電源(10)に5Ωの抵抗a2と単極双投スイッチ
(131の接点(13a)とを介して2.5μFのコン
デンサa(イ)を接続し、かつスイッチαJの接点(1
3b)にバリスタ(43を接続し、55秒間隔でコンデ
ンサa4の充電エネルギをバリスタ(4)に印加するこ
とを5回繰返し、その後バリスタ電圧Vlp及び非直線
係数αpを第2図の回路で測定し、次式でバリスタ電圧
の変化率△■lp、1(至)及びαの変化率△αp(至
)を求めた。
また第3図の回路でサージ電圧及び電流を印加した後の
バリスタ(4)のバリスタ電圧の温度変化率を△VIT
を第2図の装置で前記△V1と同様に求めた。また各試
料の静電容量C(nF)は、1 kHzで測定した。ま
た、比較するためにNa2O及びAl 203を含まな
い従来の5r(1−x )CaXTi03系バリスタの
中でも各特性の優れた試料即ちSro、cto Ca
O,40Ti03100モル部に対しNb2O5を0.
50モル部とB12Qa3.00 モル部から成る半
導体磁器バリスタの特性を上述した各測定法に基づいて
測定した結果、■1&−128,5(V)、a ハ27
.3 、 ΔV1バー 0.01 (%/C)、Cは1
40 (nF)、△Vlpは−29,4%、△αp+家
−36,3% 、△VIT バー 0.25 (%/C
)であった。
バリスタ(4)のバリスタ電圧の温度変化率を△VIT
を第2図の装置で前記△V1と同様に求めた。また各試
料の静電容量C(nF)は、1 kHzで測定した。ま
た、比較するためにNa2O及びAl 203を含まな
い従来の5r(1−x )CaXTi03系バリスタの
中でも各特性の優れた試料即ちSro、cto Ca
O,40Ti03100モル部に対しNb2O5を0.
50モル部とB12Qa3.00 モル部から成る半
導体磁器バリスタの特性を上述した各測定法に基づいて
測定した結果、■1&−128,5(V)、a ハ27
.3 、 ΔV1バー 0.01 (%/C)、Cは1
40 (nF)、△Vlpは−29,4%、△αp+家
−36,3% 、△VIT バー 0.25 (%/C
)であった。
更に、Al2O3の効果を調べるために、ハ1成分 1
00モル部 第2成分 0.01〜3.00モル部 第3成分 0.02〜2.50モル部 から成る種々の組成の磁器組成物を作りその特性ヲ測定
シタトコロ、Vl ハIQ、O〜47.2 (V) 、
(X 4ま18.0〜24.9、△■1は0.01〜
0.02 (%/C)、Cは90〜166 (nF)、
△Vlp it O,2〜x、oKΔαp は0.3〜
1.0(至)、 671丁 し10.01〜0.02
(%/C)でありた。
00モル部 第2成分 0.01〜3.00モル部 第3成分 0.02〜2.50モル部 から成る種々の組成の磁器組成物を作りその特性ヲ測定
シタトコロ、Vl ハIQ、O〜47.2 (V) 、
(X 4ま18.0〜24.9、△■1は0.01〜
0.02 (%/C)、Cは90〜166 (nF)、
△Vlp it O,2〜x、oKΔαp は0.3〜
1.0(至)、 671丁 し10.01〜0.02
(%/C)でありた。
上記第1表及び第2表から明らかなように、第1成分
100モル部 第2成分 0.01〜3.00モル部 第3成分(Na20) 0.02〜2.50 モ#部
第4成分(A1203) o、o1〜1.50モル部に
することにより、特性の良いバリスタを提供することが
出来る。即ち、第3成分(Na20)と第4成分(A1
203)とを添加することにより、これ等を含まないバ
リスタに比較し、ΔVIpを従来のバリスタの−29,
4%から−0,4〜−0,8%に改善することが出来る
。またΔαpも従来の−36,3%から−0,3〜−0
,8%に改善することが出来る。また、△VI T の
絶対値も従来の0.25%/Cからθ〜0.01に改善
することが出来る。また、第4成分(A120りを添加
すれば、これを添加しない第1〜第3成分のバリスタに
比較し△Vlの絶対値を小さくすることが出来る。又、
αを犬にすることが出来る。なお、第3成分(Na20
)が2.50モル部を超える範囲では△Vlp及び△α
pの絶対値が10%を超え、且つ△VITの絶対値が帆
15%/Cを超える。
100モル部 第2成分 0.01〜3.00モル部 第3成分(Na20) 0.02〜2.50 モ#部
第4成分(A1203) o、o1〜1.50モル部に
することにより、特性の良いバリスタを提供することが
出来る。即ち、第3成分(Na20)と第4成分(A1
203)とを添加することにより、これ等を含まないバ
リスタに比較し、ΔVIpを従来のバリスタの−29,
4%から−0,4〜−0,8%に改善することが出来る
。またΔαpも従来の−36,3%から−0,3〜−0
,8%に改善することが出来る。また、△VI T の
絶対値も従来の0.25%/Cからθ〜0.01に改善
することが出来る。また、第4成分(A120りを添加
すれば、これを添加しない第1〜第3成分のバリスタに
比較し△Vlの絶対値を小さくすることが出来る。又、
αを犬にすることが出来る。なお、第3成分(Na20
)が2.50モル部を超える範囲では△Vlp及び△α
pの絶対値が10%を超え、且つ△VITの絶対値が帆
15%/Cを超える。
一方第3成分(Na20)が帆02モル部より少ないと
、サージ電圧印加による特性改善効果がない。従って、
サー電圧又は電流に耐え得るバリスタを提供するための
Nanoの好ましい範囲は0.02〜2.50モル部で
あり、より好ましい範囲は帆5〜1.50モル部である
。また、Al 203 (第4成分)が1・5モル部を
超えると、△Vile、△αp1△V1丁の絶対値が大
きくなり、0.01 モル部未満ではその添加効果が
少ない。従つ2てAl 2Q3の好ましい範囲は0.0
1〜1.5モル部である。また、第2成分が3.00モ
ル部を超えると、焼結が不完全(未焼結)となったり、
各種の特性が悪くなる。一方、第2成分が0.01モル
部よりも少ない範囲では半導体化が良好になされないた
めに、αが小さく、またサージ電圧の印加後の特性の劣
化が大きい。従って、第2成分の好ましい範囲は帆01
〜3.00モル部である。
、サージ電圧印加による特性改善効果がない。従って、
サー電圧又は電流に耐え得るバリスタを提供するための
Nanoの好ましい範囲は0.02〜2.50モル部で
あり、より好ましい範囲は帆5〜1.50モル部である
。また、Al 203 (第4成分)が1・5モル部を
超えると、△Vile、△αp1△V1丁の絶対値が大
きくなり、0.01 モル部未満ではその添加効果が
少ない。従つ2てAl 2Q3の好ましい範囲は0.0
1〜1.5モル部である。また、第2成分が3.00モ
ル部を超えると、焼結が不完全(未焼結)となったり、
各種の特性が悪くなる。一方、第2成分が0.01モル
部よりも少ない範囲では半導体化が良好になされないた
めに、αが小さく、またサージ電圧の印加後の特性の劣
化が大きい。従って、第2成分の好ましい範囲は帆01
〜3.00モル部である。
第1成分はXが0.50を超えると△V1 p及び△α
pの絶対値が12%を超える。一方Xが0.Olより小
さいと、温度特性△V1の絶対値が帆03%/C以上に
なる。従って第1成分のXの好ましい範囲は0.01〜
0.50である。
pの絶対値が12%を超える。一方Xが0.Olより小
さいと、温度特性△V1の絶対値が帆03%/C以上に
なる。従って第1成分のXの好ましい範囲は0.01〜
0.50である。
実施例 2
実施例1で示した第1〜第4成分から成るバリスタに、
Ag2O、CuO1Mn0及びS i02から選択され
た1種以上の酸化物(第5成分)を添加したバリスタを
実施例1と同一の方法で作製し、同一方法で特性を測定
した。即ち、第3表に示すように第1成分を100重量
一定としてここに第1〜第5成分を添加したバリスタを
作り、その特性を測定したところ、第4表の結果が得ら
れた。
Ag2O、CuO1Mn0及びS i02から選択され
た1種以上の酸化物(第5成分)を添加したバリスタを
実施例1と同一の方法で作製し、同一方法で特性を測定
した。即ち、第3表に示すように第1成分を100重量
一定としてここに第1〜第5成分を添加したバリスタを
作り、その特性を測定したところ、第4表の結果が得ら
れた。
上記第3表及び第4表から明らかなように第5成分を0
.01〜3.00モル部付加することにより、サージ電
圧印加後の特性劣化がきわめて小さく、且つαの高いバ
リスタが得られる。尚第5成分が3.00モル部を超え
ると、サージエネルギー印加後の特性劣化が大きくなり
、△■1 p及び△αpの絶対値が10%を超える。ま
た△VITも絶足値で0.10%を超える。一方、第5
成分が0.01モル部より少ないと、αの改善がない。
.01〜3.00モル部付加することにより、サージ電
圧印加後の特性劣化がきわめて小さく、且つαの高いバ
リスタが得られる。尚第5成分が3.00モル部を超え
ると、サージエネルギー印加後の特性劣化が大きくなり
、△■1 p及び△αpの絶対値が10%を超える。ま
た△VITも絶足値で0.10%を超える。一方、第5
成分が0.01モル部より少ないと、αの改善がない。
従って、第5成分の好ましい範囲は0.0l−=3.0
0モル部である。
0モル部である。
実施例 3
第3成分(NazO)の添加を出発原料に対して行わず
に焼成後に行っても差支えないことを確めるために、S
rO,70Ca O,30Ties(第1成分)100
モル部と、Nb205(第2成分)0.50モル部トA
l2o3(第4成分)0.1モル部との粉末を乳鉢に投
入して20時間攪拌(乾式)を行なった。次いで、この
バリスタ原料に対し10〜15重量%のポリビニールア
ルコールを有機結合剤として混入して造粒し、この造粒
された混合物を成型正量1500 kg/crn2
で円板に成形した。
に焼成後に行っても差支えないことを確めるために、S
rO,70Ca O,30Ties(第1成分)100
モル部と、Nb205(第2成分)0.50モル部トA
l2o3(第4成分)0.1モル部との粉末を乳鉢に投
入して20時間攪拌(乾式)を行なった。次いで、この
バリスタ原料に対し10〜15重量%のポリビニールア
ルコールを有機結合剤として混入して造粒し、この造粒
された混合物を成型正量1500 kg/crn2
で円板に成形した。
次にこの円板をN2 (95容積%)+H2(5容積%
)の還元雰囲気(非酸化性雰囲気)で約1350C,4
時間の焼成を行い、直径101111、厚さ0.8閣の
半導体磁器とした。次にこの半導体磁器の一方の主面に
NaFペーストを0 、90 m g / Cm2ノ割
合で塗布し、大気中(酸化性雰囲気)で900tl:〜
1100C12時間の熱処理を施し、NaFペーストに
基づいてNa 20を半導体磁器中に熱拡散させ、しか
る後実施例1と同一方法でバリスタを作り同一方法で特
性を測定したところ、Vlは24.6 V、αは23.
8、△Vlは0%/C,Cは139nF、△■1 pは
−0,5%、△αpは−0,5%、△VITはO%/C
であった。
)の還元雰囲気(非酸化性雰囲気)で約1350C,4
時間の焼成を行い、直径101111、厚さ0.8閣の
半導体磁器とした。次にこの半導体磁器の一方の主面に
NaFペーストを0 、90 m g / Cm2ノ割
合で塗布し、大気中(酸化性雰囲気)で900tl:〜
1100C12時間の熱処理を施し、NaFペーストに
基づいてNa 20を半導体磁器中に熱拡散させ、しか
る後実施例1と同一方法でバリスタを作り同一方法で特
性を測定したところ、Vlは24.6 V、αは23.
8、△Vlは0%/C,Cは139nF、△■1 pは
−0,5%、△αpは−0,5%、△VITはO%/C
であった。
実施例 4
実施例3の磁器の代りに、
Sr o、s Ca O,2Tioa (第11成分)
100モル部、Ta205 (第2成分)0.5モル部
Al2O3(第4成分)1.0モル部 の磁器を作り、実施例3のNaFペーストの代りにNa
20ペーストを1 、40 m g /””の割合テ
H己磁器に塗布し、実施例3と同様に拡散させ、しかる
後実施例1と同一方法でバリスタを作り、特性を測定シ
タとコロ、Vl +! 15.I V、(1ハ22.9
、△v1は+0.01%/C,Cは142nF、△Vl
l)は−低8%、△αpは−0,9%、△VITは+0
.01%/Cで実施例 5 実施例3の磁器の代りに、 Bro、9e Ca O,01Ti0a (第1成分)
100モル部La2O3(第2成分)0.1モル部 Al2O3(第4成分) 0.01モル部5i02 (
第5成分)0.5モル部 の磁器を作り、この磁器に、NaFペーストを1.80
mg/cm2の割合で塗布し、大気中1000〜120
0Cで拡散させ、この磁器によってバリスタを実施例1
と同様に作り、特性を測定したところ、Vlは49.3
V、αは29.9、△V1は−0,01%/CSCは
72nF、△Vlpは−0,5%、△αpは一低6%、
△VIT=、バー 0.01%/Cであった。
100モル部、Ta205 (第2成分)0.5モル部
Al2O3(第4成分)1.0モル部 の磁器を作り、実施例3のNaFペーストの代りにNa
20ペーストを1 、40 m g /””の割合テ
H己磁器に塗布し、実施例3と同様に拡散させ、しかる
後実施例1と同一方法でバリスタを作り、特性を測定シ
タとコロ、Vl +! 15.I V、(1ハ22.9
、△v1は+0.01%/C,Cは142nF、△Vl
l)は−低8%、△αpは−0,9%、△VITは+0
.01%/Cで実施例 5 実施例3の磁器の代りに、 Bro、9e Ca O,01Ti0a (第1成分)
100モル部La2O3(第2成分)0.1モル部 Al2O3(第4成分) 0.01モル部5i02 (
第5成分)0.5モル部 の磁器を作り、この磁器に、NaFペーストを1.80
mg/cm2の割合で塗布し、大気中1000〜120
0Cで拡散させ、この磁器によってバリスタを実施例1
と同様に作り、特性を測定したところ、Vlは49.3
V、αは29.9、△V1は−0,01%/CSCは
72nF、△Vlpは−0,5%、△αpは一低6%、
△VIT=、バー 0.01%/Cであった。
実施例 6
実施例3の磁器の代りに、
Sr o、eo Ca O,40TiQ3 (第1成分
)100モル部、Nb2Q5 (第2成分) 1.00
モル部、Al203(第4成分)0.5モル部、MnO
2(第5成分) 0.10モル部、の磁器を作り、この
磁器にNa 20ペーストを1.50mg/cm2の割
合で塗布し、大気中1000〜1200Cで拡散させ、
この磁器で実施例1と同様にツクリスクを作り、特性を
測定したところ、■1は30.1■、αは36.9、△
V1は+0.01%/C,Cをま118nF、△Vlp
は−0,4%、△αpは−0,4%、△■1丁は+0
.O1%/Cであった。
)100モル部、Nb2Q5 (第2成分) 1.00
モル部、Al203(第4成分)0.5モル部、MnO
2(第5成分) 0.10モル部、の磁器を作り、この
磁器にNa 20ペーストを1.50mg/cm2の割
合で塗布し、大気中1000〜1200Cで拡散させ、
この磁器で実施例1と同様にツクリスクを作り、特性を
測定したところ、■1は30.1■、αは36.9、△
V1は+0.01%/C,Cをま118nF、△Vlp
は−0,4%、△αpは−0,4%、△■1丁は+0
.O1%/Cであった。
この結果から明らかなように、出発原料にNa化合物を
添加せずに半導体磁器に熱拡散によってNa2Oを含有
させても、耐す−ジノ(リスクを提供することか出来る
。
添加せずに半導体磁器に熱拡散によってNa2Oを含有
させても、耐す−ジノ(リスクを提供することか出来る
。
変形例
上記実施例及びその他の実験によって次のことが確認さ
れている。
れている。
(al 還元性雰囲気中での加熱温度は、好ましくは
1300〜1500Cの範囲であり、1350〜145
0rの範囲がより好ましい。更にこの処理時間は2〜8
時間が好ましい。
1300〜1500Cの範囲であり、1350〜145
0rの範囲がより好ましい。更にこの処理時間は2〜8
時間が好ましい。
fbl 酸化処理は850C−1350Cで1〜5時
間行うことが好ましい。
間行うことが好ましい。
(C1第2成分第5成分の出発原料を、実施例では焼成
後の磁器の各成分に相当するものにしているが、最終的
に金属酸化物を得ることが出来れば、本発明の目的、が
達成されるので、出発゛原料を金属酸化物とせずに、金
属元素、炭酸塩、水酸化物、硝酸塩、シュウ酸塩として
もよい。
後の磁器の各成分に相当するものにしているが、最終的
に金属酸化物を得ることが出来れば、本発明の目的、が
達成されるので、出発゛原料を金属酸化物とせずに、金
属元素、炭酸塩、水酸化物、硝酸塩、シュウ酸塩として
もよい。
fdl 本発明に係わるバリスタの性質を損わない範
囲で、特性改良物質を更に付加しても差支えない。
囲で、特性改良物質を更に付加しても差支えない。
(e) 有機結合剤の好ましい範囲は、第1〜第4、
又は第1−第5成分、第1、第2、の合計重量に対して
5〜20重量%、より好ましい範囲は10〜15重量%
である。
又は第1−第5成分、第1、第2、の合計重量に対して
5〜20重量%、より好ましい範囲は10〜15重量%
である。
(f) 還元性雰囲気の代りに中性雰囲気として焼成
してもよいこと。
してもよいこと。
(g) 加圧成形を500 kg /cm’ 〜2
000 kg /crn′ の範囲の適当な値で行っ
てもよい。
000 kg /crn′ の範囲の適当な値で行っ
てもよい。
第1図は実施例1に係わるバリスタを概略的に示す断面
図である。第2図はVl、α、△Vlを測定する装置の
回路図である。第3図はサージ印加装置の回路図である
。 (1し・磁器素体、+21 (31・・・電極、(4)
・・・バリスタ。 代理人高野則次
図である。第2図はVl、α、△Vlを測定する装置の
回路図である。第3図はサージ印加装置の回路図である
。 (1し・磁器素体、+21 (31・・・電極、(4)
・・・バリスタ。 代理人高野則次
Claims (1)
- (1)Sr(1−x)CaxTi03(但しXは0.0
1〜0.5の範囲の値)iooモル部と、 Nb2O5、Ta205 、WO3、La2O3、Ce
O2、Nd2O3、Y2O3、Sm2Q3 、pr6Q
11 、及びDy20aの内の少なくとも1種の金属酸
化物0.01〜3.00モル部と、Na2O0,02〜
2.50 モy部と、Al2O30,01〜1.50
モに部と、を含む電圧非直線磁器組成物。 f21 5r(1−x)CaxTi03(但しXは0.
01−0.5の範囲の値)100モル部と、 Nb2O5、Ta2Q5 、woa、La2o3、Ce
O2、Nd2O3、Y2O3、Sm2O3、Pr5Qx
t、及びDy2O3F)内の少なくとも1種の金属酸化
物0.01〜3.00モル部と、Na2O0,02〜2
.50 モA/部と、Ag2O、CuOlMnO2、及
び5iQ2の内の少なくとも1種の酸化物0.01〜3
.00モル部と、Al2O30,01〜1.50モル部
と、を含む電圧非直線磁器組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58092750A JPS59218702A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 電圧非直線磁器組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58092750A JPS59218702A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 電圧非直線磁器組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59218702A true JPS59218702A (ja) | 1984-12-10 |
JPH0142606B2 JPH0142606B2 (ja) | 1989-09-13 |
Family
ID=14063090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58092750A Granted JPS59218702A (ja) | 1983-05-26 | 1983-05-26 | 電圧非直線磁器組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59218702A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS625610A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-01-12 | 松下電器産業株式会社 | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 |
-
1983
- 1983-05-26 JP JP58092750A patent/JPS59218702A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS625610A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-01-12 | 松下電器産業株式会社 | 電圧依存性非直線抵抗体磁器組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0142606B2 (ja) | 1989-09-13 |
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