JPS59217344A - 樹脂モ−ルド型半導体装置 - Google Patents

樹脂モ−ルド型半導体装置

Info

Publication number
JPS59217344A
JPS59217344A JP9071883A JP9071883A JPS59217344A JP S59217344 A JPS59217344 A JP S59217344A JP 9071883 A JP9071883 A JP 9071883A JP 9071883 A JP9071883 A JP 9071883A JP S59217344 A JPS59217344 A JP S59217344A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
epoxy resin
sealing layer
epoxy
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9071883A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0117261B2 (ja
Inventor
Yutaka Misawa
三沢 豊
Toshiyuki Hidaka
日高 俊幸
Hisashi Sakamoto
久 坂本
Masaaki Takahashi
正昭 高橋
Komei Yatsuno
八野 耕明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP9071883A priority Critical patent/JPS59217344A/ja
Publication of JPS59217344A publication Critical patent/JPS59217344A/ja
Publication of JPH0117261B2 publication Critical patent/JPH0117261B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • H01L23/293Organic, e.g. plastic
    • H01L23/296Organo-silicon compounds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/31Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
    • H01L23/3107Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
    • H01L23/3135Double encapsulation or coating and encapsulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は樹脂モールド型半導体装置、特に、電極部材に
少なくとも1枚の半導体ベレットを鑞付し、エポキシ樹
脂でモールドした半導体装置に関するものである。
〔発明の背景〕
エポキシ樹脂は熱硬化型の樹脂で、常温で液状又は粉体
状であり、熱を加えると高温状態で硬化する。ところが
、熱硬化時にエポキシ樹脂は一旦ゲル化し液状となる。
従って、エポキシ樹脂で1−ルドを行う場合は成形のた
めに型を用いるのが一般である。
第1図は戴を用いて作られたアキシャルリード型ダイオ
ードを示している。
同図において、pnn接合を有するシリコンペレット1
はその両生表面に半田付を良好にするためのニッケル鍍
金層2が設けられておシ、半田3によシ一対の銅ヘッダ
ーリード4間に挾持されている。ヘッダーリード4の表
面には銀鍍金層5が設けられている。このような構成の
サブアセンブリに対して、シリコンペレット1のpnn
接合の表面安定化のため、一般に用いられるシリコーン
樹脂の素面安定化材6をシリコンペレット1の側周に設
けてから、エポキシ樹脂で封止層7が設けられる。
エポキシ樹脂のモールド法としては、キャスティング法
、ボッティング法、トランスファ法等があるが、いずれ
の方法でも前述のように成形のだめの型を用いている。
従って、サブアセンブリの壓へのセット、エポキシ樹脂
の注型、モールド後の離型等に工数がかかる欠点があっ
た。特にセットと離型は連続作業が不可能で大量生産に
おいては大きな問題となっている。また、エポキシ樹脂
中に離型剤を含有させた場合には、離型が容易となる反
面、ヘッダーリード4との接着性が低下し、ヘッダーリ
ード4と封止層7との間に間隙gができてしまう。この
間隙gを通して水分が浸入してシリコンベレット1にま
で到達し、ダイオードとしての逆方向特性を劣下させ信
頼性低下の原因となっている。
〔発明の目的〕
従って本発明の目的はエポキシ樹脂によるモールドが容
易で、連続作業が可能であシ、大量生産に適し、かつ、
品質および信頼性の高い樹脂モールド型半導体装置を提
供するにある。
)        〔発明の概要〕 本発明の特徴とするところは、表面安定化材としてポリ
イミドシリコーン樹脂で半導体ベレットを被覆してから
封止層として有機二塩基酸ジヒド2シトとイミダゾール
化合物を含有し分子内にエポキシ基を有するエポキシ樹
脂でモールドしたことにある。
〔発明の実施例〕
以下本発明半導体装置を第2図に示した一実施例に基づ
いて説明する。
第2図において第1図に示したものと同一物、和尚物に
は第4図と同一符号を付けである。
図中、10は本発明になる表面安定化材でポリイミドシ
リコーン樹脂よシなシ、11は本発明になる封止層で分
子内にエポキシ基を有するエポキシ樹脂と該エポキシ樹
脂100モルに対し3〜15モルの有機二塩基酸ジヒド
ラジドおよび上記エポキシ樹脂100モルに対し2〜7
モルのイミダゾール化合物を含有する一液性エボキシ樹
脂よシなるものである。
ポリイミドシリコーン樹脂は上記エポキシ樹脂及び半導
体との密着性が良いばかシでなく、エポキシ樹脂中のイ
ミダゾールによって分解され表面安定化性が劣化し71
c)、イーミダゾールを浸透させて半導体ベレットのp
n接合に悪影響を与えることはない。
上記配合のエポキシ樹脂は速硬化性と揺変性を有するも
のである。この特性が如何麦る意味を持つかについて、
製造工程を含めて説明する。
先ず、上記表面安定化材10の設けられたサブアセンブ
リが両電極4をほぼ水平とするよう保持され回転されて
いるところへ所定量のエポキシ樹脂を滴下する。回転に
よジェポキシ樹脂は図示する形に巻付く。即ち、電極4
や表面安定化材10と接する部分では回転によシ摩擦力
を受けて揺変し、粘度が下ってヘッダーリード4や表面
安定化材10によくぬれる。一方サブアセンブリから離
れた部分では摩擦力が低下し遠心力のみとなるからほと
んど揺変せず、従って図示の形を維持する。
そこで、次にサブアセンブリを回転させつつエポキシ樹
脂の表面部分のみを例えば加熱して硬化させる。この時
、加熱によシ表面部分のエポキシ樹脂は一旦ゲル化し粘
度が極度に下る。しかし内部のエポキシ樹脂はゲル化し
ないので表面部分のエポキシ樹脂よシ粘度は高い。従っ
て、図示の形はほぼ維持されている。そして、速硬化性
によシ表面部分のみが例えば1分程度で硬化する。硬化
した表面部によって内部のエポキシ樹脂はとじこめられ
た形となる。従って、この時点ではもはやサブアセンブ
リに回転を与えなくても、エポキシ樹脂はサブアセンブ
リから落下することはなく、巻付けたままの形を維持で
きる。最後に内部のエポキシ樹脂を例えば加熱によシ硬
化させると図示の封止層11を有する樹脂モールド型ダ
イオードが得られる。
エポキシ樹脂がヘッダーリード4や表面安定化材10と
充分ぬれてから硬化させられるので、封止層11はヘッ
ダーリード4や表面安定化材10によく接着している。
また離型剤を含んでいないので、従来技術で生じていた
第1図に示す間隙gは存在せず、耐湿性の高い半導体装
置が得られる。
巻付時に表面部のエポキシ樹脂は揺変しないので充分厚
くエポキシ樹脂を巻付は硬化させることカ出来るため、
シリコ、ンベレット1は外力から充分保護される。
巻付時の形の通シの封止層11が得られるので、巻付時
の形を揃えるだけで型を用いなくとも形の揃った半導体
装置が得られる。
エポキシ樹脂が有する速硬化性と揺変性は上述の如く型
を用いなくてもザブアセンブリのモールドを可能にする
。従って、工数は低減出来、しかも自動機械による連続
作業を行い得て品質は安定であるだけでなく、大量生産
による供給も安定である。
第3図は本発明になる第2図に示したアキシャルリード
型ダイオードと比較のために製作した表面安定化材10
を本発明になるポリイミドシリコーン樹脂に代えてシリ
コーン樹脂を用いた第2図に示すものと同様なアキシャ
ルリード凰ダイオードにおける高温直流電圧印加試験に
よるもれ電流の変化を示している。
1       比較品では初期におけるもれ電流がば
らついておシ、かつ、100時間で全てもれ電流が増加
し劣化している。一方、本発明品では初期のもれ電流の
ばらつきも少なく、又、もれ電流の変化もなく安定であ
る。
従って、ポリイミドシリコーン樹脂の表面安定化材と上
記エポキシ樹脂の封止層は樹脂モールド型半導体装置と
して極めて信頼性の高いものであると云える。
第4図は本発明の実施例を示している。
同図において、第2@、、に示すものと同一物、相当物
には同一符号が付けられている。
この実施例では、ヘッダ一部12aから離れた位置に7
ランク部12bが設けられたダブルヘッダーリード12
が用いられている。
7ランク部12bは巻付時に軸方向へのエポキシ樹脂の
流れを阻止し、封止層11の形を揃え、よシ一層品質の
安定に貢献する。
以上の実施例では、半導体ベレットが全て1枚のダイオ
ードで示されているが、多数枚の半導体ベレットが一対
の電極間に鑞付挾持された花のにも適用できる。
第5図は本発明の更に他の実施例を示している。
この実施例では半導体ベレット13はpnpnの4層構
造となってお勺、所定個所にニッケル鍍金層14が設け
られ、半田15によシアノード。
カソードおよびゲートとなる電極16a〜16Cが鑞付
されている。
サイリスタベレット13は先ず、ポリイミドシリコーン
樹脂の表面安定化材17で被覆されてから、前記エポキ
シ樹脂の封止層18でモールドされている。エポキシ樹
脂は揺変性を有するものであるので、所定量のエポキシ
樹脂を滴下し、静かに保って表面張力でほぼ半球状とな
ったら、速硬化性を利用して表面のみを硬化させてから
、次に内部のエポキシ樹脂を硬化させて図示の形のサイ
リスクが得られる。
このように、本発明は電極の種類、形状に限定されるこ
となく適用できる。
上記実施例ではエポキシ樹脂の硬化方法として熱硬化法
を挙げたが、エポキシ樹脂の硬化のだめに一般に用いら
れる紫外線、X線、赤外線、電子線照射による硬化等を
用いることができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、モールドが容易で
、連続作業が可能であシ、大量生産に適し、かつ、品質
および信頼性の高い樹脂モールド型半導体装置を得るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のアキシャルリード型レジンモールドダイ
オードを示す断面図、第2図は本発明の一実施例を示す
アキシャルリード型レジンモールドダイオードの断面図
、第3図は第2図に示すダイオードの特性試験結果を示
す図、第4図、第5図は本発明の他の実施例を示す半導
体装置の断面図である。 1・・・シリコンペレット、2・・・ニッケル鍍金層、
3・・・半田、4・・・ヘンダーリード、5・・・銀鍍
金層、纂 / ロ 躬 3 図 。f:L東しル 試′ 、駿 U峯 バ、7  (t’t)鵠 仝U

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、電極部材に少なくとも1個のpn接合を有する少な
    くとも1枚の半導体ペレットを鑞付し、半導体ベレット
    をポリイミドシリコーン樹脂からなる表面安定化材で被
    覆して更に有機二塩基酸ジヒドラジドとイミダゾール化
    合物を含有し分子内にエポキシ基を有するエポキシ樹脂
    でモールドしたことを特徴とする樹脂モールド型半導体
    装置。
JP9071883A 1983-05-25 1983-05-25 樹脂モ−ルド型半導体装置 Granted JPS59217344A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9071883A JPS59217344A (ja) 1983-05-25 1983-05-25 樹脂モ−ルド型半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9071883A JPS59217344A (ja) 1983-05-25 1983-05-25 樹脂モ−ルド型半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59217344A true JPS59217344A (ja) 1984-12-07
JPH0117261B2 JPH0117261B2 (ja) 1989-03-29

Family

ID=14006319

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9071883A Granted JPS59217344A (ja) 1983-05-25 1983-05-25 樹脂モ−ルド型半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59217344A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014025814A (ja) * 2012-07-27 2014-02-06 Hitachi Automotive Systems Ltd 流量測定装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013045994A (ja) * 2011-08-26 2013-03-04 Dexerials Corp 太陽電池用導電性接着剤及びこれを用いた接続方法、太陽電池モジュール、太陽電池モジュールの製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014025814A (ja) * 2012-07-27 2014-02-06 Hitachi Automotive Systems Ltd 流量測定装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0117261B2 (ja) 1989-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS59161054A (ja) 回路の選択領域の包封方法
JPS6347340B2 (ja)
US2888736A (en) Transistor packages
JPS59217344A (ja) 樹脂モ−ルド型半導体装置
JPS6170742A (ja) 樹脂モ−ルド型半導体装置
JPH07161503A (ja) チップ型サーミスタ
JPS62226634A (ja) 半導体素子の製造方法
JPS61236142A (ja) 樹脂モ−ルド型半導体装置
JPS60178651A (ja) 半導体装置
JPS60219755A (ja) 樹脂モ−ルド型半導体装置
JPS58222530A (ja) ペレツト付け方法
JPS60760A (ja) レジンモ−ルド型半導体装置
JPS61101054A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPS60134447A (ja) 半導体装置の製造方法
JP3481964B2 (ja) 半導体素子の組立方法
JP3161332B2 (ja) チップ型固体電解コンデンサおよびその製造方法
JPH10294404A (ja) 樹脂封止型電子装置及びその製造方法
JPS62130530A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2000183081A (ja) 半導体装置の製造方法および製造装置
JPH01133328A (ja) 半導体素子の封止方法
JP2023077263A (ja) 半導体装置およびその製造方法
TWI529819B (zh) 用於半導體封裝之滾裝式囊封方法
JPS63177429A (ja) 半導体部品の封止方法
JPS58218146A (ja) 樹脂封止半導体装置
JPS61271848A (ja) 半導体パツケ−ジの製法