JPS59212744A - Nmr用シフト試薬 - Google Patents
Nmr用シフト試薬Info
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- JPS59212744A JPS59212744A JP58088649A JP8864983A JPS59212744A JP S59212744 A JPS59212744 A JP S59212744A JP 58088649 A JP58088649 A JP 58088649A JP 8864983 A JP8864983 A JP 8864983A JP S59212744 A JPS59212744 A JP S59212744A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- nmr
- alkyl
- optically active
- acetyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
- G01R33/281—Means for the use of in vitro contrast agents
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は核磁気共鳴分光法(以下、NMRと記す。)に
ふいて、不斉炭素を有する化合物の鏡像体に基づくシグ
ナルを分離することにより鏡像体混合物の分析を行なう
場合に用いられる光学活性なシフト試薬に関するもので
ある。
ふいて、不斉炭素を有する化合物の鏡像体に基づくシグ
ナルを分離することにより鏡像体混合物の分析を行なう
場合に用いられる光学活性なシフト試薬に関するもので
ある。
N M、 Rにおいて不斉化合物の鏡像体を分析する方
法で用いられるシフト試薬としては、ランクニド系光学
活性シフト試薬がよく知られている( H’、L、Go
ering等、 J、Am、Qhem、Soc。
法で用いられるシフト試薬としては、ランクニド系光学
活性シフト試薬がよく知られている( H’、L、Go
ering等、 J、Am、Qhem、Soc。
9359131’1971)HD、Valentine
等=1、Org、Chcm、 41.62(1976)
BP、Reisberg等。J、Pharm、Sci
、 65592(1976) i J−A、 Krol
l、 J、Forenensic Sci、243Q3
(1979)等)。しかし、これらのシフト試薬は合成
あるいは取扱いが困難であり、また広く一般的に使用さ
れffi+cい欠点を有する。
等=1、Org、Chcm、 41.62(1976)
BP、Reisberg等。J、Pharm、Sci
、 65592(1976) i J−A、 Krol
l、 J、Forenensic Sci、243Q3
(1979)等)。しかし、これらのシフト試薬は合成
あるいは取扱いが困難であり、また広く一般的に使用さ
れffi+cい欠点を有する。
一方、不斉化合物の鏡像体の分析において、〜V、f1
.Pirkle 等は光学活性のα−フェネチルアミ
ンをギラルな溶媒として用い、2.2゜2−トリフルオ
ロフェニルエタノールの光学純度をN M Rニより分
析している(W、H,l’1rkle。
.Pirkle 等は光学活性のα−フェネチルアミ
ンをギラルな溶媒として用い、2.2゜2−トリフルオ
ロフェニルエタノールの光学純度をN M Rニより分
析している(W、H,l’1rkle。
)、Am、Chem、Soc、88 1837 (19
66) )のをはしめ、光学活性のα−ナフチルエチル
アミンを用いて、不斉化合物のNMRによる分析を行な
イ(T、G、Burl inga@e 等、 J、Am
、Chem。
66) )のをはしめ、光学活性のα−ナフチルエチル
アミンを用いて、不斉化合物のNMRによる分析を行な
イ(T、G、Burl inga@e 等、 J、Am
、Chem。
Soc、88 4294 (1955) 蟇W、H,P
irkle等。
irkle等。
Tet’rahedron Letters 257
9 (1963)etc、)また同様に光学活性の2
、2 、2− ) IJフルオロフェニルエタノールを
キラルな溶媒として、アミンやアミノ酸のエステル誘導
体を分析しティる例等もある( W、I(、Pirkl
e等。
9 (1963)etc、)また同様に光学活性の2
、2 、2− ) IJフルオロフェニルエタノールを
キラルな溶媒として、アミンやアミノ酸のエステル誘導
体を分析しティる例等もある( W、I(、Pirkl
e等。
Tetrahedron Letters 5849(
1968)、W。
1968)、W。
H,Pirkle等、 J、Am、Chem、Soc、
91 5150(1969)等)。しかし、これらのキ
ラルな溶媒は概して、鏡像体のシグナルを分離させる能
力が小さい欠点を有する。Pirkle 等は、その
後、より分離能の冒い試薬として光学活性2 、2 、
2−トリフルオロ−1−(9−アンスリル)エタノール
を用いた研究例等も報告している( W、HlPirk
le等、 J、Org、Chem。
91 5150(1969)等)。しかし、これらのキ
ラルな溶媒は概して、鏡像体のシグナルを分離させる能
力が小さい欠点を有する。Pirkle 等は、その
後、より分離能の冒い試薬として光学活性2 、2 、
2−トリフルオロ−1−(9−アンスリル)エタノール
を用いた研究例等も報告している( W、HlPirk
le等、 J、Org、Chem。
42.384(1977) ;W、HlPirkle:
J、Org。
J、Org。
Chem、、am、1870(1977)等)が、やは
りその合成が困難で、広く一般的に使用され難い欠点を
有する。
りその合成が困難で、広く一般的に使用され難い欠点を
有する。
かかる状況のもとで、本発明者らは合成が容易で、且つ
性能が良好なシフト試薬を開発するため鋭意検討した結
果、光学活性なカルシボン醒エステルまたはアミドの誘
導体か、シフト試薬として効果があることを見いだし、
不発明番こ至ったものである。
性能が良好なシフト試薬を開発するため鋭意検討した結
果、光学活性なカルシボン醒エステルまたはアミドの誘
導体か、シフト試薬として効果があることを見いだし、
不発明番こ至ったものである。
すなわち、本発明はNMRスペクトルにより緯像体混合
物を分析する方法において、一般式CI) * 〜 CK中、R+ はアルキル基、ノ飄ロアルキル基、アリ
ール基、アルキルアミノ基またはアリールアミノ基を表
わし、艮、はアラルキル基を表わす。k、は置換基を有
していてもよいフェニル基またはナフチル基を表わし、
Xは酸素原子または−N ti−基を表わし、*は不斉
炭素を表わす。〕 で示される化合物または一般式〔口〕 R,−Go−X−CH−GO−Y−R,、〔、[I 〕
〜 C式中、R,、R2、Xおよび*は前記と同一の意味を
有し、艮、はアルキル基、アラルキル基またはアリール
基を表わし、Yは酸素原子または−Nf(−基を表わす
。〕で示される化合物または一般式(’[1’)R,−
CH−Co−X−穐 〔■〕へ 〔式中、艮2 、R3、Xおよび*は前記と同一の意味
を有し、艮、はアルキル基またはアリール基を表わす。
物を分析する方法において、一般式CI) * 〜 CK中、R+ はアルキル基、ノ飄ロアルキル基、アリ
ール基、アルキルアミノ基またはアリールアミノ基を表
わし、艮、はアラルキル基を表わす。k、は置換基を有
していてもよいフェニル基またはナフチル基を表わし、
Xは酸素原子または−N ti−基を表わし、*は不斉
炭素を表わす。〕 で示される化合物または一般式〔口〕 R,−Go−X−CH−GO−Y−R,、〔、[I 〕
〜 C式中、R,、R2、Xおよび*は前記と同一の意味を
有し、艮、はアルキル基、アラルキル基またはアリール
基を表わし、Yは酸素原子または−Nf(−基を表わす
。〕で示される化合物または一般式(’[1’)R,−
CH−Co−X−穐 〔■〕へ 〔式中、艮2 、R3、Xおよび*は前記と同一の意味
を有し、艮、はアルキル基またはアリール基を表わす。
〕
で示される化合物から成る光学活性なNMR用シフト試
薬を提供するものである。
薬を提供するものである。
次に本発明についてさらに詳細に述べる。
一般式CI〕で示される化合物において、Xか−NHで
ある場合、K1 として2′チル基、が挙けられ、R3
としてフェニル基またはナフチル基が98けられ、また
Xが酸素原子である場合、R1としてアニリノ基または
3.5−ジニトロアニリノ基が挙けられ、艮2としてメ
チル基がノiCけられ、R3としてフェニル基が争けら
れる。
ある場合、K1 として2′チル基、が挙けられ、R3
としてフェニル基またはナフチル基が98けられ、また
Xが酸素原子である場合、R1としてアニリノ基または
3.5−ジニトロアニリノ基が挙けられ、艮2としてメ
チル基がノiCけられ、R3としてフェニル基が争けら
れる。
一般式〔口〕で示される化合物において、X 、IJi
−N[−I−基テアル場合、R,として3,5−シトロ
フェニル基が挙けられ、R4としてインプロピル基また
はフェニル基か挙げられ、R2としてインプロピル基ま
たはラウリル基が挙げられ、またXが酸素原子である場
合、R1として3,5−ジニトロアニリノ基が挙げられ
、P−4としてメチル基またはフェニル基が挙けられ、
Yとして酸素原子が挙けられ、R2としてメチル基また
はエチル基が挙げられる。
−N[−I−基テアル場合、R,として3,5−シトロ
フェニル基が挙けられ、R4としてインプロピル基また
はフェニル基か挙げられ、R2としてインプロピル基ま
たはラウリル基が挙げられ、またXが酸素原子である場
合、R1として3,5−ジニトロアニリノ基が挙げられ
、P−4としてメチル基またはフェニル基が挙けられ、
Yとして酸素原子が挙けられ、R2としてメチル基また
はエチル基が挙げられる。
また、一般式((II)で示される化合物において、K
3としてフェニル基または4−クロロフェニル基が挙け
られ、K2としてメチル基またはイ・/プロピル基が挙
げられ、R5として3.5−ジニトロフェニル基が挙け
られる。
3としてフェニル基または4−クロロフェニル基が挙け
られ、K2としてメチル基またはイ・/プロピル基が挙
げられ、R5として3.5−ジニトロフェニル基が挙け
られる。
一般式(II 、 [:[l’]および(tlI)で示
される化合物はいずれも容易に合成できるものである。
される化合物はいずれも容易に合成できるものである。
例えば一般式CI’)で示される化合物のうちアミド誘
導体の場合は光学活性アミンを酸クロリドと反応させて
合成することができ、またカーバメート誘導体の場合は
光学活性アルコールをインシアネートと反応させて合成
することができる。また、一般式〔旧で示される化合物
のうち、アミノ酸誘導体の場合は光学活性アミノ酸を例
えば塩化水素−アルコールでエステル化したのち、アミ
7基を酸クロリドと反応させて合成することができ、オ
キシ酸誘導体の場合も、光学活性オキシ酸を塩化水素−
アルコールでエステル化シたのち、水酸基をインシアネ
ートと反応させて合成することかできる。ますこ、一般
式([1’)で示される化合物のうち、アミド誘導体の
場合は光学活性カルボン酸と有機第一級アミン化合物と
を脱水縮合させることにより合成することができる。
導体の場合は光学活性アミンを酸クロリドと反応させて
合成することができ、またカーバメート誘導体の場合は
光学活性アルコールをインシアネートと反応させて合成
することができる。また、一般式〔旧で示される化合物
のうち、アミノ酸誘導体の場合は光学活性アミノ酸を例
えば塩化水素−アルコールでエステル化したのち、アミ
7基を酸クロリドと反応させて合成することができ、オ
キシ酸誘導体の場合も、光学活性オキシ酸を塩化水素−
アルコールでエステル化シたのち、水酸基をインシアネ
ートと反応させて合成することかできる。ますこ、一般
式([1’)で示される化合物のうち、アミド誘導体の
場合は光学活性カルボン酸と有機第一級アミン化合物と
を脱水縮合させることにより合成することができる。
このようにして合成される光学活性なシフト試薬として
は、例えばN−アセチル−5−α−ナフチルエチルアミ
ン、N−3、5−’、;ニトロベンゾイルーL−バリン
イソプロピルエステル、N−3,5−ジニトロペン・ソ
イル−D−フェニルグリシンラウリルアミド、S−α−
(4−10ロフエニル)イソ吉草酸−3,5−ジニトロ
アニリドなどが挙げられる。
は、例えばN−アセチル−5−α−ナフチルエチルアミ
ン、N−3、5−’、;ニトロベンゾイルーL−バリン
イソプロピルエステル、N−3,5−ジニトロペン・ソ
イル−D−フェニルグリシンラウリルアミド、S−α−
(4−10ロフエニル)イソ吉草酸−3,5−ジニトロ
アニリドなどが挙げられる。
本発明のシフト試薬をNMRに用いるB、合、分析され
る化合物が3.5−ジニトロフェニル基かつ不斉炭素に
結合したアミド基を有する構造であるとき、一般式CI
)で示される化合物および一般式([[)で示される化
合物においてR1は好ましくはメチル基またはトリフル
オロメチル基である。分析される化合物がフェニル基ま
たはカフチル基かつ不斉炭素に結合したアミド基を有す
る構造であると好ましくは3,5−ジニトロフェニル4
E、 テする。
る化合物が3.5−ジニトロフェニル基かつ不斉炭素に
結合したアミド基を有する構造であるとき、一般式CI
)で示される化合物および一般式([[)で示される化
合物においてR1は好ましくはメチル基またはトリフル
オロメチル基である。分析される化合物がフェニル基ま
たはカフチル基かつ不斉炭素に結合したアミド基を有す
る構造であると好ましくは3,5−ジニトロフェニル4
E、 テする。
本発明において用いるシフト試薬の做は特に限定される
ものではないか、試料に対してシフト試薬のblが多い
程、シグナルの分凭は大となる。萼常、試料に対して等
モル以ト用いる。
ものではないか、試料に対してシフト試薬のblが多い
程、シグナルの分凭は大となる。萼常、試料に対して等
モル以ト用いる。
不発明において用いるNMRスペクトルとしてはIH核
、13 C5、Ifi N核、または31 p核などの
核スピン庁土子数が1/2の核であれば、いずれでもよ
いが、試料W<および定(11分析の見地から、天然存
在比で最も検出感度の列いIfi核が最適である。
、13 C5、Ifi N核、または31 p核などの
核スピン庁土子数が1/2の核であれば、いずれでもよ
いが、試料W<および定(11分析の見地から、天然存
在比で最も検出感度の列いIfi核が最適である。
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではないことは言うまで
もない。
発明はこれらに限定されるものではないことは言うまで
もない。
実施例1
トルエン10m1に無水酢酸f3 ? (0,059モ
ル)を溶かし、これを水冷下撹拌しながら、5(−)−
α−カフチルエチルアミン41(0,023モル)を少
量ずつ加え、さらに30分間攪拌する。これに水30m
7を加えて約10分間激しく振り混ぜたのち、クロロホ
ルム30mJを加えてよく振り混ぜる。
ル)を溶かし、これを水冷下撹拌しながら、5(−)−
α−カフチルエチルアミン41(0,023モル)を少
量ずつ加え、さらに30分間攪拌する。これに水30m
7を加えて約10分間激しく振り混ぜたのち、クロロホ
ルム30mJを加えてよく振り混ぜる。
分液したのち、下層のクロロホルム層を分取し、無水硫
酸ナトリウムで脱水し、クロロホルムを減圧下に留去す
る。残留物をトルエンから再結晶してN−アセチル−S
−α−ナフチルエチルアミンを得た。
酸ナトリウムで脱水し、クロロホルムを減圧下に留去す
る。残留物をトルエンから再結晶してN−アセチル−S
−α−ナフチルエチルアミンを得た。
融 点 : 157℃
20゜
〔α1 、−121.1°(C二1.OO、クロロホ
ルム) 元素分析値 炭素m 水素(財) 窒素(
財)計算値 78.84 7,09 6.5
7実測値 78.70 7.22 6.50
(C,4H,5Noとして) 次に試料であるN−3,5−ジニトロベンゾイル−DL
−アラニンメチルエステル(以下、N−8,5−ジニト
ロベンゾイル基をN−DNBと略す。)約10■に、上
記N−アセチル−3−α−ナフチルエチルアミン約14
■をシフト試薬として加え、これに、重クロロホルム(
以下、CDCl、と記す。) 0.4 FJtを加えて
溶かし、均一に溶解した液を511M〆のNMR用サン
プルチューブに入れ、IH−NMRスペクトル(日本電
子FX100 (100MHz)を使用)を測定した結
果、図−1のスペクトルを得た。
ルム) 元素分析値 炭素m 水素(財) 窒素(
財)計算値 78.84 7,09 6.5
7実測値 78.70 7.22 6.50
(C,4H,5Noとして) 次に試料であるN−3,5−ジニトロベンゾイル−DL
−アラニンメチルエステル(以下、N−8,5−ジニト
ロベンゾイル基をN−DNBと略す。)約10■に、上
記N−アセチル−3−α−ナフチルエチルアミン約14
■をシフト試薬として加え、これに、重クロロホルム(
以下、CDCl、と記す。) 0.4 FJtを加えて
溶かし、均一に溶解した液を511M〆のNMR用サン
プルチューブに入れ、IH−NMRスペクトル(日本電
子FX100 (100MHz)を使用)を測定した結
果、図−1のスペクトルを得た。
図−1中、ピーク番号(1)はN−DNB−L−アラニ
ンメチルエステルの一〇Cf−1.基に基づくIH−シ
グナルで(2)はN−DNB−D−アラニンメチルエス
テルの一0CR,基に基づり11]−シグナルである。
ンメチルエステルの一〇Cf−1.基に基づくIH−シ
グナルで(2)はN−DNB−D−アラニンメチルエス
テルの一0CR,基に基づり11]−シグナルである。
両ピークの化学シフトの差は0.06 PPmで、(1
)と(2)のピーク面積比は50 : 50であった。
)と(2)のピーク面積比は50 : 50であった。
実施例2〜8
試料として、いくつかのN −D N B −DL=ア
ミノ酸メデメチルエステル約10巧い、’U 1m f
tl lて用いtこN−アセチル−5−ナフチルエチル
アミンをそれぞれ試料の約2倍モルに相当する量をシフ
ト試薬として加え、実施例1と同棟の条件で’ FI−
NME(−スペクトルを測定した。結果を表1に示す。
ミノ酸メデメチルエステル約10巧い、’U 1m f
tl lて用いtこN−アセチル−5−ナフチルエチル
アミンをそれぞれ試料の約2倍モルに相当する量をシフ
ト試薬として加え、実施例1と同棟の条件で’ FI−
NME(−スペクトルを測定した。結果を表1に示す。
実施例9
艮…−フェニルエチルアミン2.42r(0,02モル
)を脱水デトラヒドロフラン4、0 mlに溶かし、こ
れにトリエチルアミン2、23 f (0,022モル
)を加えたのち、室温下、攪拌しながら、3.5−ジニ
トロベンゾイルクロリド5.tr(o、o22モlりを
少ム(ずつ加えた。さらに60℃に加温して2時間攪拌
を続ける。溶媒を減圧下に留去し、残留物に酢酸エチル
100 mlおよび5%炭酸カトリウム水溶液50 m
lを加えて溶かし、よく振り混ぜたのち、分液し、酢酸
エチル層をさらに5%炭酸ナトリウム水溶液50m/:
、15%クエン酸水溶液50 mlで2回および飽和食
塩水50gJで順次洗浄する。無水硫酸力) IJウム
で脱水したのち、溶媒を減圧下に留去する。残留物を酢
酸エチル−ヘキサン混液から再結晶して、N−DNB−
R−フェニルエチルアミンを得た。
)を脱水デトラヒドロフラン4、0 mlに溶かし、こ
れにトリエチルアミン2、23 f (0,022モル
)を加えたのち、室温下、攪拌しながら、3.5−ジニ
トロベンゾイルクロリド5.tr(o、o22モlりを
少ム(ずつ加えた。さらに60℃に加温して2時間攪拌
を続ける。溶媒を減圧下に留去し、残留物に酢酸エチル
100 mlおよび5%炭酸カトリウム水溶液50 m
lを加えて溶かし、よく振り混ぜたのち、分液し、酢酸
エチル層をさらに5%炭酸ナトリウム水溶液50m/:
、15%クエン酸水溶液50 mlで2回および飽和食
塩水50gJで順次洗浄する。無水硫酸力) IJウム
で脱水したのち、溶媒を減圧下に留去する。残留物を酢
酸エチル−ヘキサン混液から再結晶して、N−DNB−
R−フェニルエチルアミンを得た。
融 点: 149〜150℃
20 。
(α) 、−1,6°(C−1、o5.クロロ
ホルム)元素分析値 炭素%) 水素(財)
窒素(財)計算値 57.14 4.16
18.33実測値 57,19 4.29
13.20(C,5H,、N、0.として) 次ic 試料であるN−アセチル−R,5−CI−fフ
ェルエチルアミン約10 mqに、上6己N −D N
B −R−α−フェニlレエチ!レアミン約30m7
をシフト試薬として加え、これに、CDCIaO,4r
xlを加えて溶かし、実施例1と同じ条件でI H−N
MRスペクトルを測定し、図−2のスベク1−ルを得た
。
ホルム)元素分析値 炭素%) 水素(財)
窒素(財)計算値 57.14 4.16
18.33実測値 57,19 4.29
13.20(C,5H,、N、0.として) 次ic 試料であるN−アセチル−R,5−CI−fフ
ェルエチルアミン約10 mqに、上6己N −D N
B −R−α−フェニlレエチ!レアミン約30m7
をシフト試薬として加え、これに、CDCIaO,4r
xlを加えて溶かし、実施例1と同じ条件でI H−N
MRスペクトルを測定し、図−2のスベク1−ルを得た
。
図−2中、ピーク番号(1)はへ−アセチル−に−α−
ナフチルエチルアミンのアセチル基ζこ基づ<IH−シ
グナルであり、(2)はN−アセチル−5−α−ナフチ
ルエチルアミンのアセチル基(こ基づ< II(−シグ
ナルである。両ピークの化学シフトの差は0.06pp
mで、(1)と(2)のピーク面積比は50:50であ
った。
ナフチルエチルアミンのアセチル基ζこ基づ<IH−シ
グナルであり、(2)はN−アセチル−5−α−ナフチ
ルエチルアミンのアセチル基(こ基づ< II(−シグ
ナルである。両ピークの化学シフトの差は0.06pp
mで、(1)と(2)のピーク面積比は50:50であ
った。
実施例10
L−バリン2.3?(0,02モル)を量り、これに3
N−塩化水素/イソプロパツール溶液40m1を加えて
温めて溶かし、−夜装置する。溶媒を減圧下に留去した
のち、残留物に水10耐を加えて溶かし、これに29%
アンモニア水10m1を加えて振り混ぜたのチ、クロロ
ホルム50m1を加えてよく振り湿せる。クロロホルム
1萌を分取し、水50m1で2回洗浄したのち、無水硫
酸す) IJウムで脱水し、40℃で溶媒を減圧下に留
去する。残留物に脱水テトラヒドロフラン40m1を加
えて溶かし、トリエチルアミン2.23?(0,022
モル)を加えた。これを室温下、攪拌しながら、3.5
−ジニトロベンゾイルクロリド5.1 ? (’0.0
22−E=ル)を少晴ずつ加えたのち、60℃に加温し
て2時間攪拌を続ける。溶媒を減圧下に留去し、残留物
に酢酸エチル100 rslおよび5%炭酸力1− I
Jウム水溶液50*tを加えて溶かし、よく振り混ぜた
のち、分液した。酢酸エチル層を実施例9と同様に処理
さらに5%炭酸ナトリウム水溶液50m?、15%クエ
ン酸水溶液50m?で2回および飽和食塩水50m1で
順次洗浄し、無水硫酸力) IJウムで脱水したのち溶
媒と減圧下に留去した。残留物を酢酸エチル・ヘキサン
混液から再結晶1、−(、N−DNB−L−バリンイソ
プロピルエステルを得た。
N−塩化水素/イソプロパツール溶液40m1を加えて
温めて溶かし、−夜装置する。溶媒を減圧下に留去した
のち、残留物に水10耐を加えて溶かし、これに29%
アンモニア水10m1を加えて振り混ぜたのチ、クロロ
ホルム50m1を加えてよく振り湿せる。クロロホルム
1萌を分取し、水50m1で2回洗浄したのち、無水硫
酸す) IJウムで脱水し、40℃で溶媒を減圧下に留
去する。残留物に脱水テトラヒドロフラン40m1を加
えて溶かし、トリエチルアミン2.23?(0,022
モル)を加えた。これを室温下、攪拌しながら、3.5
−ジニトロベンゾイルクロリド5.1 ? (’0.0
22−E=ル)を少晴ずつ加えたのち、60℃に加温し
て2時間攪拌を続ける。溶媒を減圧下に留去し、残留物
に酢酸エチル100 rslおよび5%炭酸力1− I
Jウム水溶液50*tを加えて溶かし、よく振り混ぜた
のち、分液した。酢酸エチル層を実施例9と同様に処理
さらに5%炭酸ナトリウム水溶液50m?、15%クエ
ン酸水溶液50m?で2回および飽和食塩水50m1で
順次洗浄し、無水硫酸力) IJウムで脱水したのち溶
媒と減圧下に留去した。残留物を酢酸エチル・ヘキサン
混液から再結晶1、−(、N−DNB−L−バリンイソ
プロピルエステルを得た。
融 点 : 113〜114℃
0
〔α〕D =43.5°(C二1.00%、りoロホn
tム) 元素分析値 炭素(イ) 水素(財) 窒
素(イ)計算値 50,99 5.42 11
.89実測値 50,99 5.48 11.
85(C,5H,9N、07として) 次に試料であるN−アセチル−艮、S−α−ナフチルエ
チルアミン約10■に、上記N−DNB−L−バリンイ
ソプロピルエステル33〜をシフト試薬として加え、こ
れに、CDCe* 0.4 mlを加えて溶かし、実
施例1と同じ条件で、IH−NMRスペクトルを測定し
、図−3のスペクトルを得た。
tム) 元素分析値 炭素(イ) 水素(財) 窒
素(イ)計算値 50,99 5.42 11
.89実測値 50,99 5.48 11.
85(C,5H,9N、07として) 次に試料であるN−アセチル−艮、S−α−ナフチルエ
チルアミン約10■に、上記N−DNB−L−バリンイ
ソプロピルエステル33〜をシフト試薬として加え、こ
れに、CDCe* 0.4 mlを加えて溶かし、実
施例1と同じ条件で、IH−NMRスペクトルを測定し
、図−3のスペクトルを得た。
図−3甲、ピーク番号(1)はN−アセチル−5−カフ
チルエチルアミンのアセチル基に基づ(+1(−シグナ
ルであり、(2)はN−アセチル−に−α−ナフチルエ
チルアミンのアセチル基に基つく用−シグナルである。
チルエチルアミンのアセチル基に基づ(+1(−シグナ
ルであり、(2)はN−アセチル−に−α−ナフチルエ
チルアミンのアセチル基に基つく用−シグナルである。
両ピークの化学シフトの差は0.05 PPmで、(1
)と(2)のピーク面積比は50:50であった。
)と(2)のピーク面積比は50:50であった。
実施例11
D−フェニルグリシン15.1 ? (0,10モル)
を量り、2N水酸化ナトリウム水溶液52 mlを加え
て溶かし、エーテル’LOmlを加えたのち、氷冷して
、激しく攪拌しながら、ベンジルオキシカルボン酸クロ
リド80 rsl (0,18モル)および4N水酸化
ナトリウム水溶液5’(mlを同時に滴下する(反応液
が酸性にならないように注意して滴下する)。滴下終了
後、室温に戻して2時間攪拌をつづける。これに、エー
テル40m1を加えて洗ったのち、エーテル層を捨て、
再びエーテル40ゴを加えて洗う。水層に、塩酸35m
1を加えたのぢ、酢酸エチル300rtrlで2回抽出
を行なう。抽出液を合し、飽和食塩水50m1で2回洗
ったのち、無水硫酸ナトリウムで脱水し、ろ過し、溶媒
を減圧留去したのち、酢酸エチル−ヘキサン混液から再
結晶して、N−ベンジルオキシカルボニル−D−フェニ
ルグリシンヲ得り。
を量り、2N水酸化ナトリウム水溶液52 mlを加え
て溶かし、エーテル’LOmlを加えたのち、氷冷して
、激しく攪拌しながら、ベンジルオキシカルボン酸クロ
リド80 rsl (0,18モル)および4N水酸化
ナトリウム水溶液5’(mlを同時に滴下する(反応液
が酸性にならないように注意して滴下する)。滴下終了
後、室温に戻して2時間攪拌をつづける。これに、エー
テル40m1を加えて洗ったのち、エーテル層を捨て、
再びエーテル40ゴを加えて洗う。水層に、塩酸35m
1を加えたのぢ、酢酸エチル300rtrlで2回抽出
を行なう。抽出液を合し、飽和食塩水50m1で2回洗
ったのち、無水硫酸ナトリウムで脱水し、ろ過し、溶媒
を減圧留去したのち、酢酸エチル−ヘキサン混液から再
結晶して、N−ベンジルオキシカルボニル−D−フェニ
ルグリシンヲ得り。
次に、このN−ベンジルオキシカルボニル−D−7エニ
ルクリジン5.71 ? (0,02モル)を量り、テ
トラヒドロフラン100atを加えて溶かす。これに、
1−ヒドロキシベンゾトリアゾール2.97!i’(0
,022モル)およびラウリルアミン4.17 (0,
022モル)を加えて溶かし、攪拌しながら水冷する。
ルクリジン5.71 ? (0,02モル)を量り、テ
トラヒドロフラン100atを加えて溶かす。これに、
1−ヒドロキシベンゾトリアゾール2.97!i’(0
,022モル)およびラウリルアミン4.17 (0,
022モル)を加えて溶かし、攪拌しながら水冷する。
これにジシクロへキシルカルボジイミド4.947(0
,024モル)をテトラヒドロフラン20 zlに溶か
した液を10分間かけて滴下したのち、1時間攪拌する
。室温に戻したのち、さらに2時間攪拌をつづけ、析出
したウレアの白色結晶はろ過して取り除き、ろ液を減圧
下に設縮する。残留物に酢酸エチル100 mlを加え
て溶かし、実施例9と同経に処理して、N−ベンジルオ
キシカルボニル−1)−フェニルグリシンラウリルアミ
ドを得る。このものの構造はN M T4により確認さ
れた。
,024モル)をテトラヒドロフラン20 zlに溶か
した液を10分間かけて滴下したのち、1時間攪拌する
。室温に戻したのち、さらに2時間攪拌をつづけ、析出
したウレアの白色結晶はろ過して取り除き、ろ液を減圧
下に設縮する。残留物に酢酸エチル100 mlを加え
て溶かし、実施例9と同経に処理して、N−ベンジルオ
キシカルボニル−1)−フェニルグリシンラウリルアミ
ドを得る。このものの構造はN M T4により確認さ
れた。
つきに、このN−ベンジルオキシカルボニル−〇−フェ
ニルグリジンラウリルアミド4.69(o、Otrル)
を:辻り、メタノール:ジオキザン:酢酸(78,:2
0:20)混液118mJを加えて溶かし、これに、パ
ラジウム−カーボン末o8グを水10m1に添加した液
を加えたのち、密封系にし、系内の空気を水素に置換し
て室温で5時間攪拌する。もはや水素を吸収しないこと
を確認したのち、開封し、反応液を吸引ろ過して、パラ
ジウム−カーボン末を取り除き、ろ液を減留留去する。
ニルグリジンラウリルアミド4.69(o、Otrル)
を:辻り、メタノール:ジオキザン:酢酸(78,:2
0:20)混液118mJを加えて溶かし、これに、パ
ラジウム−カーボン末o8グを水10m1に添加した液
を加えたのち、密封系にし、系内の空気を水素に置換し
て室温で5時間攪拌する。もはや水素を吸収しないこと
を確認したのち、開封し、反応液を吸引ろ過して、パラ
ジウム−カーボン末を取り除き、ろ液を減留留去する。
残留物に水40m1゜29%アンモニア水20m1およ
び酢酸エチル80m1を加えてよく振り混ぜたのち、分
液する。酢酸エチルj−を飽和食塩水50 mlで2回
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水したのち、溶媒を
減圧下して留去して、D−フェニルグリシンラウリルア
ミドを得る。このものの構造はNMRにより確を忍され
た。
び酢酸エチル80m1を加えてよく振り混ぜたのち、分
液する。酢酸エチルj−を飽和食塩水50 mlで2回
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水したのち、溶媒を
減圧下して留去して、D−フェニルグリシンラウリルア
ミドを得る。このものの構造はNMRにより確を忍され
た。
つぎに、このD−フェニルグリシンラウリルアミド1.
6f(0,005モル)を量り、脱水テトラヒドロフラ
ン20ゴに溶かす。
6f(0,005モル)を量り、脱水テトラヒドロフラ
ン20ゴに溶かす。
これに、トリエチルアミン0.70 r (0,007
モル)を加えて室温で梗拌しながら、3゜5−ジニトロ
ベンゾイルクロリド1.52(0,0065モル)を脱
水テトラヒドロフラン20m1に溶かした液を緩やかに
注ぎ込み、4時間攪拌を続ける。さらに60℃で1時間
加熱橙拌したのち、溶媒を減圧下に留去する。残留物に
酢酸エチル80tnlを加えて溶かし、実施例9と同様
に処理して、N−DNB−D−フェニルグリシンラウリ
ルアミドを得た。
モル)を加えて室温で梗拌しながら、3゜5−ジニトロ
ベンゾイルクロリド1.52(0,0065モル)を脱
水テトラヒドロフラン20m1に溶かした液を緩やかに
注ぎ込み、4時間攪拌を続ける。さらに60℃で1時間
加熱橙拌したのち、溶媒を減圧下に留去する。残留物に
酢酸エチル80tnlを加えて溶かし、実施例9と同様
に処理して、N−DNB−D−フェニルグリシンラウリ
ルアミドを得た。
融 点:177〜179℃
20゜
〔α) 、−52,4°(CI:=1.35 、
クロロホルム) 元素分析値 炭素m 水素(財) 窒素(
イ)Jl−算値 6327 7.0g 10
.93実測値 63,25 7.05 10.
86(C、L−1,6N 406として) 次に試料である、N−アセチル−艮・S−α−ナフチル
エチルアミン約2.5■に、上記\−DNB−D−フェ
ニルグリシンラウリルアミド12.3■をシフト試薬と
して加工、コレニ、CDCe50.4 dヲ加えて溶か
し、実施例1と同じ条件でIH−NMP−スペクトルを
測定し、It−4のスペクトルを幇だ。。
クロロホルム) 元素分析値 炭素m 水素(財) 窒素(
イ)Jl−算値 6327 7.0g 10
.93実測値 63,25 7.05 10.
86(C、L−1,6N 406として) 次に試料である、N−アセチル−艮・S−α−ナフチル
エチルアミン約2.5■に、上記\−DNB−D−フェ
ニルグリシンラウリルアミド12.3■をシフト試薬と
して加工、コレニ、CDCe50.4 dヲ加えて溶か
し、実施例1と同じ条件でIH−NMP−スペクトルを
測定し、It−4のスペクトルを幇だ。。
図−4中、ピーク番号(1)は、N−アセチル−5−α
−ナフチルエチルアミンのアセチル基に基づ(+)(−
シグナルであり、(2)はN−アセチル−に−α−ナフ
チルエチルアミンのアセチル基に基つく用−シグナルで
ある。両ピークの化学シフトの差は0.O2ppmで、
(1)と(2)のピーク面積比は50:50でおった。
−ナフチルエチルアミンのアセチル基に基づ(+)(−
シグナルであり、(2)はN−アセチル−に−α−ナフ
チルエチルアミンのアセチル基に基つく用−シグナルで
ある。両ピークの化学シフトの差は0.O2ppmで、
(1)と(2)のピーク面積比は50:50でおった。
実施例12
S−α−(4−10ロフエニル)イン吉草酸1.2F(
0,0057モル)を量り、脱水−・キサン10ttr
tに溶かし、これに塩化チオニル3.87(0,032
モル)を加えて、室74Hで4時間攪拌したのち、−夜
装置する。
0,0057モル)を量り、脱水−・キサン10ttr
tに溶かし、これに塩化チオニル3.87(0,032
モル)を加えて、室74Hで4時間攪拌したのち、−夜
装置する。
反応l&を減圧下に7農縮し、残留物に脱水テトラヒド
ロフラン20 v4を加えて溶かし、これに、3.5−
ジニトロアニリン0.92(0,005モル)およびト
リエチルアミン0.615’(0,006モル)を脱水
テトラヒドロフラン20m1に溶かした液を緩やかに注
き込み、室温で1時間攪拌したのち、50℃で30分間
攪拌する。反応液を減圧下に濃縮する。残留物に酢酸エ
チル50m1を加えて溶かし、水50m1で2回で洗っ
たのち、無水硫酸カトリウムで脱水し、溶媒を減圧下に
留去する。残留物をクロロホルム−ヘキサン(1:2)
混液に溶かしたのち、同混液を展開液とし、シリカゲル
(100〜200メツシユ)30關β×100萌を固定
相としだカラムクロマトグラフィーにより精製を行なう
。展開成約600 tri〜12oOmlの留出部を分
取し、溶媒を減圧下に留去して、S−α−(4−10ロ
フエニル)イソ吉草酸−3,5−ジニトロアニリドlた
。
ロフラン20 v4を加えて溶かし、これに、3.5−
ジニトロアニリン0.92(0,005モル)およびト
リエチルアミン0.615’(0,006モル)を脱水
テトラヒドロフラン20m1に溶かした液を緩やかに注
き込み、室温で1時間攪拌したのち、50℃で30分間
攪拌する。反応液を減圧下に濃縮する。残留物に酢酸エ
チル50m1を加えて溶かし、水50m1で2回で洗っ
たのち、無水硫酸カトリウムで脱水し、溶媒を減圧下に
留去する。残留物をクロロホルム−ヘキサン(1:2)
混液に溶かしたのち、同混液を展開液とし、シリカゲル
(100〜200メツシユ)30關β×100萌を固定
相としだカラムクロマトグラフィーにより精製を行なう
。展開成約600 tri〜12oOmlの留出部を分
取し、溶媒を減圧下に留去して、S−α−(4−10ロ
フエニル)イソ吉草酸−3,5−ジニトロアニリドlた
。
融 点: 70〜72℃
0
〔α’)D、ニア0.4°(C=1.OO、クロロホル
ム)元素分析値 炭素(財) 水素(財) 窒素
(財) 塩素(財)計算値 54,05 4.2
7 11.12 9.38実測値 52.68
4.31 10.89 9.11(C1,H16
N305Ceとして) 次に試料である、N−アセチル−R,S−α−ナフチル
エチルアミン約10ηに、上記S−α−(4−クロロフ
ェニル)イン吉草@−3・5−ジニトロアニリド約35
■をシフト試薬として加え、これに、 CDC530、
4mlを加えて溶かし、実施例1と同じ条件でIH−N
M Rスペクトルを測定し、図−5のスペクトルを得
た。
ム)元素分析値 炭素(財) 水素(財) 窒素
(財) 塩素(財)計算値 54,05 4.2
7 11.12 9.38実測値 52.68
4.31 10.89 9.11(C1,H16
N305Ceとして) 次に試料である、N−アセチル−R,S−α−ナフチル
エチルアミン約10ηに、上記S−α−(4−クロロフ
ェニル)イン吉草@−3・5−ジニトロアニリド約35
■をシフト試薬として加え、これに、 CDC530、
4mlを加えて溶かし、実施例1と同じ条件でIH−N
M Rスペクトルを測定し、図−5のスペクトルを得
た。
図−5中、ピーク番号(1)はN−アセチル−に−α−
ナフチルエチルアミンのアセチル基に基づ(IH−シグ
ナルであり、(2)はN−アセチル−5−α−ナフチル
エチルアミンのアセチル基番こ基づりIH−シグナルで
ある。両ピークの化学シフトの差は0.04PPmで、
(1)と(2)のピーク面積比は50:50であった。
ナフチルエチルアミンのアセチル基に基づ(IH−シグ
ナルであり、(2)はN−アセチル−5−α−ナフチル
エチルアミンのアセチル基番こ基づりIH−シグナルで
ある。両ピークの化学シフトの差は0.04PPmで、
(1)と(2)のピーク面積比は50:50であった。
図−1および図−2〜区−5は、それぞれ、実施例1お
よび実施例9〜実施例12において得られた用−NMR
スペク)/しの一部であり、縦軸は強度を表わし、横軸
はテトラメチルシランを内部基準とする化学シフトをP
Pm串位で表わす。 ロー 1 (1’+ (2) 図 −2 (1) (2) 2.1 2.0 図−3 (1) (2) 図−4 (1) (2) 2.0 1,95 図−5 (1) (2) 2.3 2.2 第1頁の続き 0発 明 者 森口宏− 高槻市塚原2丁目40番地住友化 学工業株式会社内
よび実施例9〜実施例12において得られた用−NMR
スペク)/しの一部であり、縦軸は強度を表わし、横軸
はテトラメチルシランを内部基準とする化学シフトをP
Pm串位で表わす。 ロー 1 (1’+ (2) 図 −2 (1) (2) 2.1 2.0 図−3 (1) (2) 図−4 (1) (2) 2.0 1,95 図−5 (1) (2) 2.3 2.2 第1頁の続き 0発 明 者 森口宏− 高槻市塚原2丁目40番地住友化 学工業株式会社内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 %式% 〔式中、■(1はアルキル基、ハロアルキル基、アリー
ル基、アルキルアミノ基またはアリールアミノ基を表わ
し、R2はアルキル基を表わす。艮3は置換基を有して
いてもよいフヱニル基またはナフチル基を表ゎし、Xは
酸素原子または−NH−基を表わし、*は不斉炭素を表
わす。〕 で示される化合物または一般式 %式% 〔式中、艮1.艮2.Xおよび*は前記と同一の意味を
有し、艮、はアルキル基、アラルキル基またはアリール
基を表わし、Yは酸素原子または−Nf(−基を表わす
。〕で示される化合物まtこは一般式 %式% C式中、P−2,艮3 、Xおよび*は前記と同一の意
味を有し、k、はアルキル基またはアリール基を表わす
。〕 で示される化合物から成る光学活性なNMR用シフト試
薬
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58088649A JPS59212744A (ja) | 1983-05-19 | 1983-05-19 | Nmr用シフト試薬 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58088649A JPS59212744A (ja) | 1983-05-19 | 1983-05-19 | Nmr用シフト試薬 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59212744A true JPS59212744A (ja) | 1984-12-01 |
Family
ID=13948660
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58088649A Pending JPS59212744A (ja) | 1983-05-19 | 1983-05-19 | Nmr用シフト試薬 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59212744A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995008529A1 (en) * | 1993-09-20 | 1995-03-30 | Waters Corporation | Chiral surfactants and methods for their use in chiral separations |
WO1995014934A1 (fr) * | 1993-11-26 | 1995-06-01 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Reactif pour rmn a basculement chiral comprenant un derive du sucre |
-
1983
- 1983-05-19 JP JP58088649A patent/JPS59212744A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995008529A1 (en) * | 1993-09-20 | 1995-03-30 | Waters Corporation | Chiral surfactants and methods for their use in chiral separations |
WO1995014934A1 (fr) * | 1993-11-26 | 1995-06-01 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Reactif pour rmn a basculement chiral comprenant un derive du sucre |
US5736411A (en) * | 1993-11-26 | 1998-04-07 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Chiral shift reagent for NMR comprising saccharide derivative |
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