JPS592116Y2 - メッキ装置 - Google Patents

メッキ装置

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Publication number
JPS592116Y2
JPS592116Y2 JP12349379U JP12349379U JPS592116Y2 JP S592116 Y2 JPS592116 Y2 JP S592116Y2 JP 12349379 U JP12349379 U JP 12349379U JP 12349379 U JP12349379 U JP 12349379U JP S592116 Y2 JPS592116 Y2 JP S592116Y2
Authority
JP
Japan
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plating
plated
plating bath
disk
nozzle
Prior art date
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Expired
Application number
JP12349379U
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English (en)
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JPS5642976U (ja
Inventor
芳弘 沖野
良雄 秦
Original Assignee
松下電器産業株式会社
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Publication date
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Publication of JPS5642976U publication Critical patent/JPS5642976U/ja
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、比較的大きく、且つ、平坦面を有する被メッ
キ物にメッキを施すメッキ装置に関するものである。
近年、映像信号を、機械的な凹凸として円盤状記録担体
に記録し、この円盤状担体より前記凹凸に応じた信号を
再生針の走査により再生するビデオディスクシステムが
開発されている。
このようなビデオディスクシステムの円盤状記録担体(
ビデオディスク)を例えば300φmmとすれば、その
記録原盤の大きさは少なくとも350φmm程度必要で
ある。
記録原盤は、その表面層が鏡面状に研削でき、且つ安定
な機械的記録を可能にするために、非常に均質で一様な
メッキ層を形成させることが不可欠である。
このようなビデオディスク用記録原盤(例えば350φ
mmの円盤)を銅メツキ法によって製作する場合、被メ
ッキ物である円盤の形上が比較的大きく、且つ平坦であ
るため、新鮮で清浄なメッキ浴を絶え間なく該円盤の表
裏全面に平均して供給することが必要である。
更にメッキ浴が該円盤の表面に直接当たるときの機械的
な衝突の効果が添加剤の作用を助け、均質で一様なメッ
キを形成させるとともに析出銅の硬度の経時変化の起こ
しにくい銅メッキを形成させるという効果(一般にメカ
ノケミカルな効果と称される。
)を持つため、本考案は被メッキ物の表裏全面に噴出ノ
ズルより噴出されたメッキ浴が直接機械的に当るような
構造メッキ装置を提供することを意図する。
ここで析出銅の硬度の経時変化とは、析出銅の硬度が時
間とともに低減しまた加熱によって軟化が早められる(
一般に再結晶化のために硬度軟化が起るといわれる。
)ことをいう。以下図面を参照して、本考案を実施例を
あげ説明する。
第1図において、1は円盤(陰極被メッキ物)、2は前
記円盤1の両面にそれぞれ対向して並列して設けられた
陽極、3は後述のような構成よりなるメッキ浴噴出ノズ
ル、4はフィルター等の濾過器、5はメッキ浴循環用ポ
ンプ、6はメッキ浴導出口、7はメッキ槽の内側槽、8
は外側槽である。
前記噴出ノズル°3は第2図に示すように円盤1の径方
向に伸びるパイプ状体の前記円盤1と対向する面に複数
の透孔3′が設けられており、図示しない駆動装置によ
り、一定方向にメッキ中回転駆動されるよう構成されて
いる。
次にこのメッキ槽の動作を説明する。
先ず、メッキ浴循環用ポンプ5によってメッキ浴噴出ノ
ズル3から内側槽7の中へメッキ浴が送り込まれるに連
れて、該内側槽7から外側槽8にメッキ浴が横溢する。
外側層8に横溢したメッキ浴はメッキ浴導出口6からメ
ッキ浴循環用ポンプ5を経、フィルター等で構成される
濾過器4に導かれ、濾過器4にてメッキ浴中の異物、固
形物その他が除去され浄化される。
濾過器4にて浄化されたメッキ浴はメッキ浴噴出ノズル
3から内側槽7の中へ導かれ、被メッキ物で゛ある円盤
1に向けて吹き出される。
このようにして内側槽7に送り込まれたメッキ浴は被メ
ッキ物である円盤1に直接当り、メッキに必要な新しく
清浄なメッキ浴を絶え間なく供給し得ることになる。
このように、ノズル3を回転駆動せしめることにより、
ノズル3より噴出されたメッキ浴が直接円盤1に当る位
置を順次変化せしめることにより、均一にメッキ浴が円
盤1に直接噴出されるよう構成されている。
また、前記噴出ノズル3の形状は、第3図に示すように
、先端部がそれぞれ円盤1の半径の略中夫に位置する複
数の噴出口4を有する形状としても良いものである。
また、実施例では噴出ノズルを回転せしめる例を示した
が、被メッキ物1を回転せしめても良いものである。
以上のように、噴出ノズルを回転せしめながらメッキ浴
を直接に円盤1に噴付けるよう構成した本考案のメッキ
装置によれば、非常に均質且つ一様で、硬度の経時変化
の起こしにくい銅メッキを形成させることができる。
即ち、メッキ浴が被メッキ物の円盤の表面に直接衝突す
るときの機械的な効果が添加剤の作用を助は均質で一様
なメッキを形成させ、且つ析出したメッキ銅の硬度の経
時変化を起こしにくくするという性質(メカノケミカル
な効果といわれる。
)を持たらす。因に銅メッキの硬度が10%だけ軟化す
るまでの時間は、我々の90℃の加速実験によれば従来
の空気攪拌によるメッキ装置によるメッキ物は略1.5
時間であったが、本考案装置によるメッキ物では略10
時間であった。
このことからもメッキ浴を被メッキ物に直接衝突させる
メカノケミカルな効果がいかに大きいものであるかが分
る。
更に再結晶に起困する銅メッキの硬度軟化はメッキ銅の
金属組織均質緻密で一様な状態から粗雑な組織への移行
であることも実験的に確認している。
従ってビデオディスク用記録原盤を銅メッキで形成させ
る場合には、上述の銅メッキの硬度変化は非常に重要な
要因となる。
即ち、ビデオディスク用記録原盤の切削性その他の品質
や信頼性を決定づけることになる。
因って本考案の装置によってビデオディスク用記録原盤
形成のための銅メッキを実施すれば、メッキ浴を被メッ
キ物である円盤の表裏全面に直接衝突させてメカノケミ
カルな効果を生ぜしめ得、非常に均質、緻密、一様で且
つビデオディスク用記録原盤の寿命、信頼性を支配する
硬度の経時変化に対して強い銅メッキを形成させること
が出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示す断面図、第2図イは同
要部の側面図、口は同平面図、第3図イは同要部の他の
実施例を示す側面図、口は同平面図である。 1・・・・・・円盤(被メッキ物)、2・・・・・・陽
極、3・・・・・・噴出ノズル、3′・・・・・・透孔

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. メッキ槽内に配設された被メッキ物に被メッキ面に対向
    して陽極を配置するとともに、前記被メッキ物と陽極間
    にメッキ浴が噴出される噴出ノズルを、噴出されたメッ
    キ浴が直接前記被メッキ物の被メッキ面に当るよう、か
    つ、前記被メッキ物と噴出ノズルを相対的に回転駆動せ
    しめることを特徴とするメッキ装置。
JP12349379U 1979-09-05 1979-09-05 メッキ装置 Expired JPS592116Y2 (ja)

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JP12349379U JPS592116Y2 (ja) 1979-09-05 1979-09-05 メッキ装置

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JPS5642976U JPS5642976U (ja) 1981-04-18
JPS592116Y2 true JPS592116Y2 (ja) 1984-01-20

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KR101122793B1 (ko) 2009-11-09 2012-03-21 주식회사 케이씨텍 기판도금장치
JP6995544B2 (ja) * 2017-09-20 2022-01-14 上村工業株式会社 表面処理装置および表面処理方法

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