JPS5864394A - 電気めつき装置 - Google Patents

電気めつき装置

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JPS5864394A
JPS5864394A JP57158985A JP15898582A JPS5864394A JP S5864394 A JPS5864394 A JP S5864394A JP 57158985 A JP57158985 A JP 57158985A JP 15898582 A JP15898582 A JP 15898582A JP S5864394 A JPS5864394 A JP S5864394A
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JP
Japan
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electrolyte
electrode arrangement
electrode
stamper plate
cathode mount
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Pending
Application number
JP57158985A
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English (en)
Inventor
サミユエル・ジエイムズ・ブレア・ジヨンストン
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EMI Group Ltd
Original Assignee
Thorn Electrical Industries Ltd
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Publication date
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00—Electroforming
    • C25D1/10—Moulds; Masks; Masterforms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/08—Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
    • C25D5/605—Surface topography of the layers, e.g. rough, dendritic or nodular layers
    • C25D5/611—Smooth layers

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ・レコードを成形するため．のスタンパ・プレートを形
成する場合に電気めっき浴を使用することに関するもの
である。
スタンパ・プレート上にレコードのネガティブ・インプ
レッションを形成し、それを用いてプラスチック材料を
成形することによりポジティブ・インプレッションを生
ぜしめてディスク・レコードを形成しうろことは周知で
ある。通常，スタンパ・プレートを製造する場合には二
′ツケル電気めっきが行なわれるが、それがために、品
質の高い表面仕上げが必要とされる。また、その場合、
めっき速度を上げようとしても、所要の表面物理特性の
点から、限界がある。電気めっきを迅速に行なうのに必
要なだけ電流密度を高くすると、通常、被めっき表面上
に小塊（　ｎｏｄｕｌｅｓ　）が形成され、ディスク・
レコードに欠陥が生ずることになるという問題が生じる
。そのような小塊は一般に電気めっき用電解液が粒子的
および有機的汚染を受けた結果生じるものであるから、
厳密なフィルタ技法が必要とされるの′である。
従って，本発明は、不純物汚染を軽減し、かつ高い電流
密度で実質的に！ト塊を生じない電気めっきを可能にす
る改良された電気めっき装置を提供することを目的とす
るものである。
本発明の１つの態様によれば，第１の電極機構および第
２の電極機構と、電解液取入手段および電解液取出手段
を含む容器を具備した電気めっき装置であって、前記電
解液取入手段からの電解液が、前記電解液取出手段を経
由して取出されるのに先立って前記第２の電極手段に向
って流れる前に前記第１の電極手段に衝突するようにな
されていることを特徴とする電気めっき装置が提供され
るＯ 本発明の他の態様によれば、ディスク・レコードを製造
する際に使用するための電気めっき装置が提供される。
好ましくは、カソ１−ド機構は回転・可能であシ、かつ
電解液取入手段はそのカソード機構とフィルタ・スクリ
ーンとの間に高圧の電解液を存在せしめるようになされ
ている。それによりて、電解液がスクリーンを通っても
どされ、そしてアノード機構を通過せしめられ、電解液
取出手段の出口に流れる前にアノード機構から粒状不純
物を放逐する。なお、この場合、電解液取出手段の出口
は浴の基部に配置された調節可能な弁よりなるものであ
ることが好ましい。
以下図面を参照して本発明の実施例につき説明しよう。
傾斜しためっきセル１を有する電気めっき浴装置が示さ
れておシ、そのセル１の側壁２は垂直面に対して好まし
くは３０′６の角度をもって設定されている。側壁２の
近傍にはアノード・バッグ３が配置されておシ、そのア
ノード・バッグ３は通常チタ？製のメツシュ・バスケッ
トよシなり、そのバスケットはアノード材料５を保持し
ておシかつアノード材料（それはベレットの形をなして
いるのが好都合である）を通じて電解液４の自由な流動
を許容しうるようになされている。アノード材料が消費
されるに従ってアノード・バッグ３の開放端から他のペ
レットを入れてやることＫよって連続アノード供給方式
が実現されうる。アノード・バッグ３と電源（図示せず
）の正端子との間には、例えば機械的接続のような適当
な手段によって電気的接続がなされている。
アノード・バッグ３に隣接してかっそれに平行にカソー
ド７が、そのアノード・バッグ３から例えば５．０８七
ン′チメートル（２インチ）の間隙をもって離間されて
、配置されている。そのカソード７には、例えばスタン
パ・プレート（図示せず）のような電気めっきを施され
るべき物品を装着せしめられる。カソード７にはモーＪ
９のシャフト８が適当な手段によって連結されていて、
その力′ソードをモータ９で回転させうるようになされ
ている。シャフト８は導電性であり、前記電源の負端子
゛６ｂに適当な手段によっ七凍続されている。
従って、モータ９から電気的に絶縁されたシャフト８が
カソード７を負の電位に維持する。
“　アノードとカソードとの間には例えば２ミクロンの
メツシュ寸法を有するフィルタ・スクリーン１０が配置
されており、フィルタ・スクリーンおよびアノード間に
アノード領域を、フィルタ・スクリーンおよびカソード
間にカソード領域をそれぞれ画成している。めっきセル
１の基部１２には、フィルタ・スクリーン１０、のアノ
ード側に配置されて、調節可能な弁１１が組み込まれて
いる。それらのセルと弁とは両方ともめつき環境内で反
応しにくい材料で形成されている。例えば電気的絶縁性
のプラスチック材料よりなるチューブ１３はアノード・
バッグ３を貫通せしめられ、かつそれの端部をしてフィ
ルタ・スクリーン１０を貫通せしめられて配置されてい
る。そのチューブ１３の端部は他の形状をなしていても
よい。溜め１４からの新鮮な電解液はチューブ１３を通
じてカソード７に向けて送られ、そのカソードの近傍に
高圧帯域を生ずる。このことは、カソード７の周囲に例
えばプラスチック材料のリング１５を設けることによっ
て強調されうる。不完全なリングまたは他の形状および
材料によっても同様の結果が得られる。
弁１１はチューブ１３を通じて入る流量の８０〜９０％
に相当する流量をセルから出させるように調節されうる
。従って、カソード７のまわりの高圧帯域内の電解液は
図示されているようにアノード領域を通過してバッグを
清掃するとともに、懸濁された不純物を除去しうる。然
る後、このようにして汚れた電解液は弁１１を通じてセ
ルの外に出て、溜め１４にもどる前にフィルタ１６によ
って沢過される。部片１５のまわシから通常逃出する電
解液の残部１０〜２０チは、ｒ過および溜め１４への復
帰に先立ってオーバーフロー・パイプ１７を通じてセル
の外に出る。
本発明の構成によれば、溜めからの新鮮な電解液がカソ
ード領域に供給され、かつアノードに向う流れが生ぜし
められ、その流れにより、小塊を形成きせる原因となシ
やすい粒゛状物質がアノード・バッグから放逐され、こ
のようにして、汚染された電解液は浴から迅速に除去さ
れかつ再使用のために純化される。
上述した電気めっき用浴は、オ°−ディオおよびビデオ
・ディスク・レコードを製造するためのスタンパ・プレ
ートを形成する場合に用いられるニッケル電気めっきに
対して特に有用なものである。
電解液は大量のニッケル・スルファミン酸塩と、緩衝水
溶液に溶解された少量の塩化ニッケルを含んでいる。め
っきの均一性を増大させるためには、カソードを例えば
１５０　ｒＰｍの回転速度で回転させればよい。連続ニ
ッケル・アノード供給方式と毎時８〜１０回の浴電解液
変化速度を用いることによって、４００　ＡＳＦの電流
密度で実質的に小塊のないスタンパ・プレートが得られ
た。
以上本発明を１つの特定の用途に適用した場合の実施例
につき説明したが、本発明は他の種々の用途にも適用さ
れうるものであり、また本発明は上記の実施例に限定さ
れるものではなく、特許請求の範囲内で可能なあらゆる
変形変更をも包含するものであることを理解すべきであ
る。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例による電気めっき装置を示す図で
ある。 図面において、ｌはめっきセル、２はそのセル２の側壁
、３はアノード・バッグ、４は電解液、５はアノード材
料、６ａ、６ｂ　は電源端子％７はカソード、８はシャ
フト、９はモータ、１０はフィルタ・スクリーン、１１
は調節可能な弁、１２はセル１の基部、１３は電気的絶
縁性プラスチック材料よりなるチューブ、１４は電解液
溜め、１５はリング、１６はフィルタ、１７はオーバー
フロー・パイプをそれぞれ示す。　′ 特許出願人　　イーエムアイ　リミテッド代理人　弁理
士山元俊仁

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、第１の電極機構（力および第２の電極機構（３）と
    、電解液取入手段０３および電解液取出手段ａυを含む
    容器（１）を具備した電気めっき装置において、前記取
    入手段からの電解液が前記取出手段を経由して出て行く
    のに先立って前記第２の電極機構に向って流れる前に前
    記第１の電極機構に衝突するようになされていることを
    特徴とする電気めっき装置。 ２、特許請求の範囲第１項記載の装置において、′少量
    の電解液が外に出ることを許容する他の電解液取入手段
    卸を具備している前記装置。 ３、゛特許請求の範囲第１項まルに第２項に記載さ２れ
    た装置において、電解液溜めαａと、前記容器から出た
    電解液を浄化しかつ再循環させるフィルタ手段Ｑ６１を
    具備している前記装置。 ４、特許請求の範囲第１項、第２項および第３項のうち
    の１つに記載された装置において、前記第１および第２
    の電極機構間にフィルタ手段Ｑｌが設けられている前記
    装置。 ６、特許請求の範囲第１項〜第４項のうちの１つに岬載
    された電気めっき装置において、ディスク・レコード用
    スタンパ・プレートを製造スるために用いられるように
    なされておシ、前記第１の電極機構がスタンパ・プレー
    トを受容するのに適したカソード・マウントを具備１て
    おシ、前記取入手段が頂記カソード・マウント上に受容
    きれたスタンパ・プレートに対面して配置されている前
    記装置。 ６、特許請求の範囲第５項記載あ装置において、前記容
    器は３つの実質的に垂直の側壁と、前記カソード・マウ
    ント上に受容されたスタンパ・プレートに対して実質的
    に平行な第４の非垂直側壁（２）を有しそいる前記装置
    。 ７、特許請求の範囲第５項または第６項に記載された装
    置において、前記第２の電極機構はアノード材料（５）
    を含んだ平行な側面を有する細長い多孔質バッグ（３）
    を具備し、その多孔質バッグは前記カソード・マウント
    上に受容されたスタンノ！・プレートに対して実質的に
    平行となるように配列されている前記装置。 ８、特許請求の範囲第５．６および７項のうちの１つに
    記載された装置において、前記カソード・マウントは、
    その上に受容されたスタンパ・プレートを包囲する形状
    を有し、前記第２の電極機構に向う電解液の流れを増大
    せしめるようになされた環状リングＱ５１を具備してい
    る前記装置。 ９、特許請求の範囲第５〜８項のうちの１つに記載され
    た装置において、前記取出手段が前記第２の電極機構ｑ
    下方において前記容器の基部上に配装置されかつ調節可
    能な弁を具備している前記装置。 １０、特許請求の範囲第５〜９項のうちの１つに記載さ
    ゛れた装置において、前記−−１の電極機構が、前記カ
    ソード・マウント上に受容されたスタンパ・プレートに
    対して実質的に直交する軸線のまわ゛りでその第１の電
    極機構を回転させうるモータ（９）を含んでいる前記装
    置。
JP57158985A 1981-10-01 1982-09-14 電気めつき装置 Pending JPS5864394A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8129625 1981-10-01
GB8129625 1981-10-01

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JPS5864394A true JPS5864394A (ja) 1983-04-16

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ID=10524853

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JP57158985A Pending JPS5864394A (ja) 1981-10-01 1982-09-14 電気めつき装置

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US (1) US4435266A (ja)
EP (1) EP0076569B1 (ja)
JP (1) JPS5864394A (ja)
DE (1) DE3272891D1 (ja)

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