JPS59210058A - エチレンシアンヒドリンの製法 - Google Patents
エチレンシアンヒドリンの製法Info
- Publication number
- JPS59210058A JPS59210058A JP22348182A JP22348182A JPS59210058A JP S59210058 A JPS59210058 A JP S59210058A JP 22348182 A JP22348182 A JP 22348182A JP 22348182 A JP22348182 A JP 22348182A JP S59210058 A JPS59210058 A JP S59210058A
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- acrylonitrile
- water
- tertiary amine
- reaction
- cyanohydrin
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
する。更に詳しくは、アクリロニトリルと水とを反応さ
せるに際し、第３級アミンを存在させることを特徴とす
るエチレンシアンヒドリンの製法（こ関する。
せるに際し、第３級アミンを存在させることを特徴とす
るエチレンシアンヒドリンの製法（こ関する。
エチレンシアンヒドリンは医薬、農薬の原料となる３−
アミノー／−１０パノールの前駆物質として有用であり
、通常良く知られた方法で還元し容易に好収率で、３−
アミノー／−７′口パノールとすることか出来る。
アミノー／−１０パノールの前駆物質として有用であり
、通常良く知られた方法で還元し容易に好収率で、３−
アミノー／−７′口パノールとすることか出来る。
従来、エチレンシアンヒドリンの製法としてはエチレン
オキサイドとシアン化水素とから製造する方法及びエチ
レンクロルヒドリンとシアン化水素のナトリウムやカリ
ウム塩とから製造する方法が知られているが、いずれも
人体に有害なシアン化水素またはその塩を取扱わねばな
らない難点がある。このシアン化合物の使用を避けて、
アクリロニトリルと水から触媒にホルムアルデヒドとイ
オン交換を用いて製造する方法が西ドイツ公開公報筒２
．乙ｊ 、５−．７ Ｙ １１号（／９７と）（ＯＡ、
Ｌ９．Ｐｌｏざ／夕ｔ〕に知られているが、低い温度
２３〜グ２℃で反応させねばならず、そのため／Ｉｒ時
間もの長い反応時間を必要とし、効率的な製造法とはい
いがた＆％また、米国特許第３．０２ ’ｌ−、２６７
号（／９１．２）（ＯＡ、３７．Ｐ７／／！ａ）には、
水とアクリロニトリルから水酸化ナトリウムを触媒（こ
して製造する方法が示されているが、その実施例による
と水をアクリロニトリルに対して１ＬＬ３倍ないし／’
１０倍も大過剰（こ用いねばならず、製造する際の容積
効率が悪いという欠点がある。
オキサイドとシアン化水素とから製造する方法及びエチ
レンクロルヒドリンとシアン化水素のナトリウムやカリ
ウム塩とから製造する方法が知られているが、いずれも
人体に有害なシアン化水素またはその塩を取扱わねばな
らない難点がある。このシアン化合物の使用を避けて、
アクリロニトリルと水から触媒にホルムアルデヒドとイ
オン交換を用いて製造する方法が西ドイツ公開公報筒２
．乙ｊ 、５−．７ Ｙ １１号（／９７と）（ＯＡ、
Ｌ９．Ｐｌｏざ／夕ｔ〕に知られているが、低い温度
２３〜グ２℃で反応させねばならず、そのため／Ｉｒ時
間もの長い反応時間を必要とし、効率的な製造法とはい
いがた＆％また、米国特許第３．０２ ’ｌ−、２６７
号（／９１．２）（ＯＡ、３７．Ｐ７／／！ａ）には、
水とアクリロニトリルから水酸化ナトリウムを触媒（こ
して製造する方法が示されているが、その実施例による
と水をアクリロニトリルに対して１ＬＬ３倍ないし／’
１０倍も大過剰（こ用いねばならず、製造する際の容積
効率が悪いという欠点がある。
本発明者らは、アクリロニトリルと水から容易にしかも
経済的（こエチレンシアンヒドリンを製造することを目
的とし、新規な水和触媒を種々検討したところ、意外に
も安価で入手し易い第３級アミンか効果的な触媒作用を
有することを見出し、本発明を完成した。即ち、アクリ
ロニｌ−ＩＪルと水の混合物に少量の第３級アミンを加
え所定の温度で２〜５時間反応させるのみで反応は完結
し、その後反応液をそのまま分留するという簡単な操作
で目的物を単離することが出来る。この様に本発明方法
はエチレンシアンヒドリンの極めて容易な製造方法であ
る。
経済的（こエチレンシアンヒドリンを製造することを目
的とし、新規な水和触媒を種々検討したところ、意外に
も安価で入手し易い第３級アミンか効果的な触媒作用を
有することを見出し、本発明を完成した。即ち、アクリ
ロニｌ−ＩＪルと水の混合物に少量の第３級アミンを加
え所定の温度で２〜５時間反応させるのみで反応は完結
し、その後反応液をそのまま分留するという簡単な操作
で目的物を単離することが出来る。この様に本発明方法
はエチレンシアンヒドリンの極めて容易な製造方法であ
る。
本発明方法を実施するには、原料アクリロニトリルに対
して水を少なくとも等モル以上好ましくは３〜７５倍モ
ル用い、触媒として第３級アミンをアクリロニトリルに
対して０．７〜ｊモル％好ましくはｏ３〜２モル％使用
する。かかるアクリロニトリルと水との反応では、特番
こ高温においては副反応としてアクリロニトリルの加水
分解が多くなると予期されるが、本発明方法は意外にも
１２０℃以上という高温で反応を実施する方が、それ以
下の温度よりも該副反応が少なく高い選択率ｅ収率でエ
チレンシアンヒドリンを製造できることを見出した。
して水を少なくとも等モル以上好ましくは３〜７５倍モ
ル用い、触媒として第３級アミンをアクリロニトリルに
対して０．７〜ｊモル％好ましくはｏ３〜２モル％使用
する。かかるアクリロニトリルと水との反応では、特番
こ高温においては副反応としてアクリロニトリルの加水
分解が多くなると予期されるが、本発明方法は意外にも
１２０℃以上という高温で反応を実施する方が、それ以
下の温度よりも該副反応が少なく高い選択率ｅ収率でエ
チレンシアンヒドリンを製造できることを見出した。
本発明の反応温度は通常／２０−２００℃好ましくは／
ｌＩＯ〜／ざ０℃さらに好ましくは７５０〜７７０℃で
ある。反応時間は２〜乙時間好ましくは３〜ｌ！時間で
ある。用いる第３級アミンとしては特に限定されないが
、入手のし易さ及び、反応後の生成物からの分離の容易
さを考慮して、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
トリフ゛ロピルアミン及ヒドリブチルアミン等の低Ｒ脂
肪族アミン、Ｎ−メチル、Ｎ−エチル、Ｎ−７”０ピル
、Ｎ−ブチル等のＮ−ｏ／〜ｃ４を低級アルキルピロリ
ジンもしくはピペリジン、Ｎ、 Ｎ’−ジメチルピベフ
ジン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチルジ
アミノプロパン、／、＋−ジアザビンクロ（Ｊ、２．ｊ
）オクタン、ｉ、ｓ−ジアザビシクロ（、ｔ、＋、０）
ウンデー−５−エン、ｉ、ｓ−ジアザビシクロ（＋、３
゜０〕ノ・ンーｊ−エン等を単独、又は二種以上を併用
して使用することもできる。反応後、反応液をそのまま
蒸留し、エチレンシアンヒドリンを単離することが出来
る。３−アミノ−／−ブロパノールを得る目的のために
は、エチレンシアンヒドリンを蒸留で単離する必要はな
く、反応液から水等の低沸点物質を留去するだけで、そ
のまま次工程である還元反応番こ供することができる。
ｌＩＯ〜／ざ０℃さらに好ましくは７５０〜７７０℃で
ある。反応時間は２〜乙時間好ましくは３〜ｌ！時間で
ある。用いる第３級アミンとしては特に限定されないが
、入手のし易さ及び、反応後の生成物からの分離の容易
さを考慮して、トリメチルアミン、トリエチルアミン、
トリフ゛ロピルアミン及ヒドリブチルアミン等の低Ｒ脂
肪族アミン、Ｎ−メチル、Ｎ−エチル、Ｎ−７”０ピル
、Ｎ−ブチル等のＮ−ｏ／〜ｃ４を低級アルキルピロリ
ジンもしくはピペリジン、Ｎ、 Ｎ’−ジメチルピベフ
ジン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチルジ
アミノプロパン、／、＋−ジアザビンクロ（Ｊ、２．ｊ
）オクタン、ｉ、ｓ−ジアザビシクロ（、ｔ、＋、０）
ウンデー−５−エン、ｉ、ｓ−ジアザビシクロ（＋、３
゜０〕ノ・ンーｊ−エン等を単独、又は二種以上を併用
して使用することもできる。反応後、反応液をそのまま
蒸留し、エチレンシアンヒドリンを単離することが出来
る。３−アミノ−／−ブロパノールを得る目的のために
は、エチレンシアンヒドリンを蒸留で単離する必要はな
く、反応液から水等の低沸点物質を留去するだけで、そ
のまま次工程である還元反応番こ供することができる。
次に実施例を挙けて説明する。
実施例／
／ｌオートクレーブにアクリロニトリル／ｊｏｐ、水に
／２２及びトリエチルアミン２．９ｆｌを仕込み、攪拌
下／１．０℃、を時間反応させた。
／２２及びトリエチルアミン２．９ｆｌを仕込み、攪拌
下／１．０℃、を時間反応させた。
反応終了後、水及び少量の未反応アクリロニトリル２２
ノを留去し、引続き減圧蒸留し、／３グ〜／３！℃／≠
Ｏｍ Ｈｆｊでエチレンシアンヒドリン／３７’ｉＣ収
率乙に％）を得た。
ノを留去し、引続き減圧蒸留し、／３グ〜／３！℃／≠
Ｏｍ Ｈｆｊでエチレンシアンヒドリン／３７’ｉＣ収
率乙に％）を得た。
実施例２
／（ｌオートクレーブにアクリロニトリル１５０！、水
１．／２ｙ及ヒドリメチルアミン３０％水溶液乙７を仕
込み攪拌下／乙ｏ℃、を時間反応させた。次に実施例／
と同様に後処理し、エチレンシアンヒドリン／２ＩＰ＜
収率乙ｏ％）を得た。
１．／２ｙ及ヒドリメチルアミン３０％水溶液乙７を仕
込み攪拌下／乙ｏ℃、を時間反応させた。次に実施例／
と同様に後処理し、エチレンシアンヒドリン／２ＩＰ＜
収率乙ｏ％）を得た。
実施例３
／ｅオートクレーブにアクリロニトリル／！０７、水乙
／、！Ｐ及びトリブチルアミン！、２グを仕込み、攪拌
下／乙０℃、ψ時間反応させた次）こ実施例／と同様に
後処理し、エチレンシアンヒドリン９／９（収率１５％
）を得た。
／、！Ｐ及びトリブチルアミン！、２グを仕込み、攪拌
下／乙０℃、ψ時間反応させた次）こ実施例／と同様に
後処理し、エチレンシアンヒドリン９／９（収率１５％
）を得た。
実施例ダ
／ｌオートクレーブにアクリロニトリル／ｊＯノ、水乙
／２９及びＮ−メチルピペリジン３ノを仕込み、攪拌下
／ｌＯ℃、１時間反応させた。次に実施例／と同様に後
処理し、エチレンシアンヒドリンｇ３９（収率≠／％）
を得た。
／２９及びＮ−メチルピペリジン３ノを仕込み、攪拌下
／ｌＯ℃、１時間反応させた。次に実施例／と同様に後
処理し、エチレンシアンヒドリンｇ３９（収率≠／％）
を得た。
参考例
／ｌオートクレーブにアクリロニトリル／ｊＯ！、水１
．／２９、）リエチルアミン２．９ｆｔヲ仕込み、攪拌
下／乙０℃、≠時間反応させた。
．／２９、）リエチルアミン２．９ｆｔヲ仕込み、攪拌
下／乙０℃、≠時間反応させた。
反応終了後、水及び少量の未反応アクリロニトリルを留
去し釜残／ざ≠７を得る。その釜残液とメタノール／ざ
ｔグ及びラネーニッケル３７グを／ｌオートクレーブ番
こ入れ、アンモニア共存下乙Ｏ℃で水素還元を行なった
。反応終了後反応液を濾過し、ｐ液を蒸留して９乙℃／
２２ｔｒｒｍＨ’ｉ の３−アミノ−／−フ゛ロパノ
ールクざ２を得た。
去し釜残／ざ≠７を得る。その釜残液とメタノール／ざ
ｔグ及びラネーニッケル３７グを／ｌオートクレーブ番
こ入れ、アンモニア共存下乙Ｏ℃で水素還元を行なった
。反応終了後反応液を濾過し、ｐ液を蒸留して９乙℃／
２２ｔｒｒｍＨ’ｉ の３−アミノ−／−フ゛ロパノ
ールクざ２を得た。
４゛・孤人 八栄化学上！線式会オＪ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 入 アクリロニトリルと水とを反応させてエチレンシア
ンヒドリンを製造する際に、触媒トして第３級アミンを
存在させることを特徴とするエチレンシアンヒドリンの
製法。 ２、水の使用量がアクリロニトリルに対して６〜７５倍
モルである特許請求の範囲第１項記載ノエチレンシアン
ヒドリンの製法。 ３、反応温度が７２０〜２００℃好ましくは／≠０〜／
ざ０℃である特許請求の範囲第１又は２項記載のエチレ
ンシアンヒドリンの製法。 ４、第３級アミンの存在量かアクリロニトリルアンヒド
リンの製法。 ５、 第３Ｍアミンかトリメチルアミン、トリエチルア
ミン、トリブチルアミン、又はＮ−メのエチレンシアン
ヒドリンの製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22348182A JPS59210058A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | エチレンシアンヒドリンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22348182A JPS59210058A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | エチレンシアンヒドリンの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59210058A true JPS59210058A (ja) | 1984-11-28 |
Family
ID=16798803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22348182A Pending JPS59210058A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | エチレンシアンヒドリンの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59210058A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001342166A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-11 | Koei Chem Co Ltd | ３−アミノプロパノールの精製方法 |
| WO2003087041A1 (en) * | 2002-04-18 | 2003-10-23 | Dsm Ip Assets B.V. | Continuous process for the manufacture of 3-hydroxy propionitrile |
| CN111056963A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-04-24 | 山东新和成精化科技有限公司 | 3-氨基丙醇的制备方法 |
| WO2021103779A1 (zh) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | 山东新和成精化科技有限公司 | 一种3-羟基丙腈的制备方法 |
-
1982
- 1982-12-20 JP JP22348182A patent/JPS59210058A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001342166A (ja) * | 2000-06-01 | 2001-12-11 | Koei Chem Co Ltd | ３−アミノプロパノールの精製方法 |
| WO2003087041A1 (en) * | 2002-04-18 | 2003-10-23 | Dsm Ip Assets B.V. | Continuous process for the manufacture of 3-hydroxy propionitrile |
| CN111056963A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-04-24 | 山东新和成精化科技有限公司 | 3-氨基丙醇的制备方法 |
| WO2021103779A1 (zh) * | 2019-11-29 | 2021-06-03 | 山东新和成精化科技有限公司 | 一种3-羟基丙腈的制备方法 |
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