JPS59206701A - 干渉測定装置 - Google Patents

干渉測定装置

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Publication number
JPS59206701A
JPS59206701A JP8221983A JP8221983A JPS59206701A JP S59206701 A JPS59206701 A JP S59206701A JP 8221983 A JP8221983 A JP 8221983A JP 8221983 A JP8221983 A JP 8221983A JP S59206701 A JPS59206701 A JP S59206701A
Authority
JP
Japan
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sample
light
plane
measurement
sample stage
Prior art date
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Pending
Application number
JP8221983A
Other languages
English (en)
Inventor
Junichi Kitabayashi
淳一 北林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP8221983A priority Critical patent/JPS59206701A/ja
Publication of JPS59206701A publication Critical patent/JPS59206701A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/26Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は干渉測定装置に関し、より詳細には、光の干渉
現象を利用して光学的測定を行なう干渉路に各々シャッ
タを具備し、参照光路に設けた参照基準面からの反射光
と測定光路に設けた測定試料からの反射光による干渉縞
を観察して光学測定を行なう方式が知られている。
このような干渉測定装置において、計測可能な干渉縞を
発生させるためには、°試料台に設置された試料面の傾
きをできる限り参照基準面の傾きに一致させる必要があ
る。
このアライメント調整法としては、従来、参照光による
スポット投影位置に測定光によるスポットが投影される
様に、オペレータがモニターを見ながら手動で行なう方
法が採用されているが、短時間に高精度で調整すること
が困難であるという材面の傾きを短時間且つ高精度に一
致させることのできる干渉測定装置を提供することにあ
る。
本発明の構成を、以下、一実施例に基づいて説例を第1
図に示す。
図において、レーザ光臨1から構成される装置ザ光束は
レンズ2,3を通過することによりビーム径を広げられ
た後、ビームスプリッタ4により参照光L】と測定光L
2に分けられる。このように分けられた光の中、参照光
L+ +t−参照光路5中に設けられた7ヤyり6を通
過してから参照基準面7で反射され、ビームスプリッタ
8に達する。
一方、測定光L2についても測定光路9中に設けられた
7ヤノタ1.0を通過してから測定試別11の試別面]
、]aで反射され、ビームスプリンタ8に達する。
そして、これら参照光と測定光の一部は干渉しながら一
一ムスプリッタ8を通過し、レンズ12を介してビテオ
カノラ13に投影される。ここで、アライメントが適当
であれば、ビテオカメラ13には、試別面1】a、の凹
凸を示す干渉縞が投影される。又、参照光と測定光の他
の一部は、ビームスプリッタ8で反射され、レンズ14
を通過して位置上ンサ15上に結像される。この位置セ
ンサ15は光像の2次元上の位置を検出するセンサで、
光電変換素子アレイを直交配列した周知の位置センサが
適用される。
このような光学系の構成において、シャッタ10を閉じ
ると位置上ンサ15上には、測定光L2によるスポット
が投影される。ここで、レンズ14に入射する測定光L
2が参照光L1のときと異なる角度の場合、即ち参照基
準面7に対して試料面J1が傾いている場合には各党に
よるスポットの投影位置が異なる。上記両面間の傾きが
太きいと、干渉縞の本数が多すぎて、一般のビテオカメ
ラ等では計測不可能となる。
そこで、アライメント調整が必要となる。
このアライメント調整に際して配慮すべき点は次の通り
である。
一般、に、参照基準面の面精度は高精度が要求されるの
であ捷り大きくできない。従って参照光束、測定光束の
径も大きさが限定され、測定試料が長尺の場合や測定面
がアレイ状に連なってI/−する場合には、測定試料を
移動させて分割しながら測定することとなる。
その際に、移動方向の原点検知手段としては、マイクロ
スイッチやホトインタラック等で精度的に十分であるが
、参照基準面に対する試料面の傾きに係る、所謂、回転
方向の原点検知の精度はアライメント精度に対応した精
度を必要とし、上記マイクロスイッチ等では不可能であ
る。
そこで本発明では、長尺状の測定試料を載置できる様に
試料台を長尺に形成するとともに、この試料台を移動回
転させる移動回転機構を設けている。さらに、試料台上
には、基準平面を形成し、この基準平面及び上記試料台
上の測定試料からの各反射光と、参照基準面からの反射
光とによる各スポットを位置センサ上に投影し、パルス
モーク及びCPU等を用すた自動的な制御手段により、
上記移動回転機構を操作するようにした。
上記移動回転機構を第1図に符号16で示し、その具体
例を第2図で示しだ。
第2図において、矩形の外枠17は不動部材に固定され
ている。外枠17の内側には、矩形の中枠]8かあり、
中間部をY−Y軸にそう枢軸19で外枠]7に枢支され
ている。
次に、中枠18の内側にも矩形の内枠20があり、中間
部を上記Y−Y軸と同一平面内で直交するX−X軸にそ
う枢軸21で中枠18に枢支されている。
内枠20には、X−X軸と平行にボールねじ22カ設定
されており、パルスモータ−23により回転駆動される
様になっている。そして、ボールねじ22にはX−X軸
方向に長尺な試料台24が螺合されており、且つ、ガイ
ド軸25で摺動自在に支持されているので、ボールねじ
22の回転に応じてX−X軸方向に移動自在である。
試料台24には、基準平面を有するミラー26が取付け
られており、測定試料11はこの試料台24上に設置さ
れる。
内枠20の右端内側であって、試料台24との対向部分
にはマイクロスイッチ27が取付けである。
試料台24が右端捷で送られると、このマイクロスイッ
チ27がオンしてCPUに試料台24の移動原点を知ら
せる。
次に、外枠17及び中枠18の各右下隅には各々試料台
24の回動機構28. 29が装着されている。
第3図に回転機構28の構成例を示す。
図ニオイて、符号30はパルスモーターヲ示シ、外枠1
7と一体的に構成された取付板31に取イ」けである。
このパルスモータ−30の軸30aは第2図における紙
面を貫く方向に設定されており、ジヨイント32を介し
てスプライン軸33に接続されている。スプライン軸3
3にはボール34を介してスプライン35が嵌装されて
おり、スプライン35の外周部にはキー40が打込せれ
てカップリング36との回り止めがなされている。さら
に、このカップリンタ36の右端部には、第4図にも示
す如きマイクロヘッド37の基端部が固定されている。
マイクロヘッド37の先端部にはねじが形成されており
、このねじ部は第5図にも示す如きナノI・38に螺合
されている。そして、このナツト38は外枠17の他端
に前記取付板31と対向して取付けられたプレート39
を挿通状態で固定されている。
而して、パルスモータ−3oを駆動すれば、モーターの
回転力はジヨイント32を介してスプライン軸33に伝
わり、さらに、スプライン35、キー40゜カップリン
グ36へと順に伝えられてマイクロヘッド37を回転さ
せる。ここで、カップリング36はスプライン軸33に
対して軸方向に移動自在であるので、マイクロヘッド3
7はそのねじ部のピンチ及びリードに応じ、その回転量
に相応する量だけ軸方向に移動される。
マイクロヘッド37の先端37aは、当該マイクロヘッ
ドの移動が常時、直接、中枠18の回動に寄与し得る様
に、中枠18に数個けられた当接片41と常時圧接させ
られている。この圧接力は、プレート39と中枠18と
の間に掛は渡された緊縮性のばね42により与えられる
。従って、中枠18はパルスモータ−30の1駆動に応
じて枢軸を中心に回動される。なお、このばね42は図
の繁雑化を避けるため第1図には図示を省略した。
上記回動機構28の構成は、回動機構29についても全
く同様に適用されており、当該回動機構29のパルスモ
ータ−45(第2図参照)番駆動することにより内枠2
oを枢軸21を中心に回動することができる。
さて、アライメント調整を行なうに際しては、マイクロ
スイッチ27がオンするまでパルスモータ−23を駆動
して試料台24を移動し、移動原点を定める。
次に、ミラー26を第1図に示す測定光L2の反射位置
に送り、シャッタ1oを閉じて参照光L]による位置セ
ンサ15上でのスポット位置(XO,YO)をCPUで
読み取る。次にツヤツタ1oを開いてツヤツタ6を閉じ
、測定光L2によるスポット位置(X] l Yl )
をCPUで読み取る。そして、スポットずれ量X] −
x(、、Yl−yoに対応する量だけパルスモータ−3
0,43に各々パルスヲ送す、駆動して、該ミラー26
をX−X軸及びY−Y軸を中心とする所要の回動量、回
動させる。そして、このプロセスを通じて測定光L2に
よる位置センサ15上でのスポット投影位置を参照光L
1によるスポット投影位置に重ね、アライメント調整を
終了する。
上記、両スポットが重なる状態での試料台24の空間位
置が回転原点の位置である。
こうして、移動及び回転原点を検知した後、C、P U
は各々のパルスモータ−23,30,’、4:3につい
て、−内部的にソフトプログラム上でのカウンタを持ち
、移動及び回転方向とパルス数を累積してカウントシて
いくので、これがクリアされない限りは、原点検知の必
要はなく、次々と測定試料を置換えてアライメント調整
を行ない、測定を能率的に実行することができる。
なお、第6図、第7図に示す如く、試料台24の試料設
置面24aと基準平面としてのミラー26の面を平行に
形成しておけば、測定試料11..1.1についての該
基準平面からの角度誤差も測定すること然できる。上記
において、測定試料11′はプリズこれに付帯する部材
を設け、該移動回転機構を自動的な制御手段で制御する
様にしたので、基準平面のアライメント調整を高精度且
つ、迅速に行なうことができ好都合である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を適用した干渉測定装置の光学系の構成
図、第2図は同上図における移動回転機構部の平面図、
第3図は同上図における回転機構部の部分断面図、第4
図はマイクロヘッドの正面図、第5図はナンドの断面図
、第6図、第7図は各々試料台上での測定試料を示した
正面図である。 15・・位置センサ、  16・−移動回転機構、23
、 30.43・パルスモータ−124試料台、26・
(基準平面を有するン<ラー、Ll  ・参照光、  
L2・・測定光。 第1図 第6図     第7図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 参照光路と測定光路中に各々シャッタを具備している干
    渉測定装置において、 長尺状の測定試料を載置する試料台と、この試料台を移
    動回転させる移動回転機構と、上記試料台と一体的に形
    成された基準平面と、この基準平面及び上記試料台上の
    測定試料からの各反射光と参照基準面からの反射光によ
    る各スポットの位1首を検出する位置センサと、上記移
    動回転手段による上記試料台の移動量を制御する自動的
    な制御手段を有することを特徴とする干渉測定装置。
JP8221983A 1983-05-11 1983-05-11 干渉測定装置 Pending JPS59206701A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8221983A JPS59206701A (ja) 1983-05-11 1983-05-11 干渉測定装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP8221983A JPS59206701A (ja) 1983-05-11 1983-05-11 干渉測定装置

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Publication Number Publication Date
JPS59206701A true JPS59206701A (ja) 1984-11-22

Family

ID=13768298

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8221983A Pending JPS59206701A (ja) 1983-05-11 1983-05-11 干渉測定装置

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JP (1) JPS59206701A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2702834A1 (fr) * 1993-03-16 1994-09-23 Vareille Aime Procédé et dispositif optiques de détermination d'orientations de pièces.
JP2022504734A (ja) * 2018-10-12 2022-01-13 マジック リープ, インコーポレイテッド 運動追跡システムの正確度を検証するためのステージングシステム

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2702834A1 (fr) * 1993-03-16 1994-09-23 Vareille Aime Procédé et dispositif optiques de détermination d'orientations de pièces.
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