JPH0554902B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0554902B2 JPH0554902B2 JP61176466A JP17646686A JPH0554902B2 JP H0554902 B2 JPH0554902 B2 JP H0554902B2 JP 61176466 A JP61176466 A JP 61176466A JP 17646686 A JP17646686 A JP 17646686A JP H0554902 B2 JPH0554902 B2 JP H0554902B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- test sample
- detector
- mirror
- light
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 53
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 50
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 10
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/255—Details, e.g. use of specially adapted sources, lighting or optical systems
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/42—Absorption spectrometry; Double beam spectrometry; Flicker spectrometry; Reflection spectrometry
- G01J2003/425—Reflectance
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/08—Beam switching arrangements
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/42—Absorption spectrometry; Double beam spectrometry; Flicker spectrometry; Reflection spectrometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N2021/1738—Optionally different kinds of measurements; Method being valid for different kinds of measurement
- G01N2021/1742—Optionally different kinds of measurements; Method being valid for different kinds of measurement either absorption or reflection
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光学特性測定装置、特に、微小なビ
ームスプリツタプリズムなどの被検試料の反射率
及び透過率測定用の光学特性測定装置に関するも
のである。
ームスプリツタプリズムなどの被検試料の反射率
及び透過率測定用の光学特性測定装置に関するも
のである。
ビームスピリツタープリズムはレーザーデイス
クの録音，録画及び再生における重要な光学素子
であつて、第３図及び第４図に示すように45°の
プリズム２個を貼り合せた立方体、又はその変形
よりなる形状をもち、接合面には、特殊な処理を
施して入射光が透過光と反射光に分離される比率
を制御している。なお、第３図及び第４図で、１
は接合面、Ｉ，Ｔ及びＲはそれぞれ入射光，透過
光及び反射光を示している。
クの録音，録画及び再生における重要な光学素子
であつて、第３図及び第４図に示すように45°の
プリズム２個を貼り合せた立方体、又はその変形
よりなる形状をもち、接合面には、特殊な処理を
施して入射光が透過光と反射光に分離される比率
を制御している。なお、第３図及び第４図で、１
は接合面、Ｉ，Ｔ及びＲはそれぞれ入射光，透過
光及び反射光を示している。
このような特性を管理するために平面の反射率
を測定する方法には、例えば発明協会公開技報第
79−1150号に開示されてるような、絶対反射率測
定用光学系を用いる方法がある。この方法は測定
すべき被検試料が第３図及び第４図に示すような
立方体であつたりその大きさが微小であるとき
は、入射光束が被検試料の中心部に正しく入射
し、かつ反射面（この場合接合面）が正規の方向
に向かうように保持するには複雑な機構と高度な
操作技術が必要である。
を測定する方法には、例えば発明協会公開技報第
79−1150号に開示されてるような、絶対反射率測
定用光学系を用いる方法がある。この方法は測定
すべき被検試料が第３図及び第４図に示すような
立方体であつたりその大きさが微小であるとき
は、入射光束が被検試料の中心部に正しく入射
し、かつ反射面（この場合接合面）が正規の方向
に向かうように保持するには複雑な機構と高度な
操作技術が必要である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
例えば、公開技報第79−1150号に開示されてい
る方法を用いる場合、被検試料が３mm立方体程度
の微小のビームスプリツタプリズムを測定するに
は、投射する光束は1.5mm角程度でなければなら
ない。またビームスプリツタプリズムの保持具は
被検ビームスプリツタプリズムを正規の位置に対
し0.2mm程度の誤差で設置し正規の方向に対し1/2
００程度の傾斜で設置しなければ反射光が積分球の
受光面より外れて測定誤差を生ずる。一方ビーム
スプリツタプリズムの接合面は第５図の傾斜図に
示すように製作技術上および製品として必要がな
いため20ミクロン程度以上の段差を持つ可能性が
あり、これを平面状の試料ホールダ上に設置すれ
ば必然的に1/200以上の傾斜を生ずる。すなわち、
試料ホールダに対する試料の取付け方が少しでも
傾くと再現性がなくなり、迅速かつ精度の高い測
定ができず、したがつて保持の方法一つで同一製
品を測定しても異つた測定値となるなどの欠点が
あつた。
る方法を用いる場合、被検試料が３mm立方体程度
の微小のビームスプリツタプリズムを測定するに
は、投射する光束は1.5mm角程度でなければなら
ない。またビームスプリツタプリズムの保持具は
被検ビームスプリツタプリズムを正規の位置に対
し0.2mm程度の誤差で設置し正規の方向に対し1/2
００程度の傾斜で設置しなければ反射光が積分球の
受光面より外れて測定誤差を生ずる。一方ビーム
スプリツタプリズムの接合面は第５図の傾斜図に
示すように製作技術上および製品として必要がな
いため20ミクロン程度以上の段差を持つ可能性が
あり、これを平面状の試料ホールダ上に設置すれ
ば必然的に1/200以上の傾斜を生ずる。すなわち、
試料ホールダに対する試料の取付け方が少しでも
傾くと再現性がなくなり、迅速かつ精度の高い測
定ができず、したがつて保持の方法一つで同一製
品を測定しても異つた測定値となるなどの欠点が
あつた。
本発明はビームスプリツタプリズムなどの被検
試料の反射率及び透過率の測定、特に微小なビー
ムスプリツタプリズムを再現性良く測定可能とす
る光学特性測定装置を提供することを目的とする
ものである。
試料の反射率及び透過率の測定、特に微小なビー
ムスプリツタプリズムを再現性良く測定可能とす
る光学特性測定装置を提供することを目的とする
ものである。
前述の如き問題点を解決するためになされた本
発明の構成は、被検試料に照射した光を検知器で
検知し該被検試料の光学特性を測定する装置にお
いて、分光器に後置されているしぼりよりなる前
記光の微小仮想光源と、前記被検試料の測定面が
該被検試料と前記検知器とを結ぶ線と同一直線上
に配置される該被検試料との間に設置され、前記
微小仮想光源の像を前記被検試料の測定面付近に
結像させる第１の光学系、及び前記被検試料と前
記検知器との間に設置され該被検試料の測定面付
近と該検知器の受光部付近とに共役点をもち、前
記被検試料と前記検知器とを結ぶ線に対して対称
関係にある位置の間で切り換え可能になつている
第２の光学系を有していることを特徴とするもの
である。
発明の構成は、被検試料に照射した光を検知器で
検知し該被検試料の光学特性を測定する装置にお
いて、分光器に後置されているしぼりよりなる前
記光の微小仮想光源と、前記被検試料の測定面が
該被検試料と前記検知器とを結ぶ線と同一直線上
に配置される該被検試料との間に設置され、前記
微小仮想光源の像を前記被検試料の測定面付近に
結像させる第１の光学系、及び前記被検試料と前
記検知器との間に設置され該被検試料の測定面付
近と該検知器の受光部付近とに共役点をもち、前
記被検試料と前記検知器とを結ぶ線に対して対称
関係にある位置の間で切り換え可能になつている
第２の光学系を有していることを特徴とするもの
である。
本発明の作用を、第１図の本発明の光学系統の
説明図に基づく構造の具体的な説明とともに説明
する。第１図において、２は光源、３は分光器、
４は偏光器、５はしぼり、６は被検試料、７は検
知器、８は鏡９と例えば球面鏡よりなる光学素子
１０とからなる第１の光学系、１１は例えば球面
鏡よりなる光学素子１２と鏡１３とからなる第２
の光学系で、球面鏡１２は、被検試料６の接合中
心６ａと検知器７の受光点７ａ結ぶ線Ｘ−X′に
対して対称の位置に移動できるようになつてお
り、鏡13は前述の線Ｘ−X′に対して対称角度回
転可能になつている。１２′と１３′がそれぞれ交
換後の球面鏡と鏡の位置を示している。なお、１
４，１５及び１６は鏡で光源の輝度変動による測
定値の誤差を補償する補償光路を構成している。
説明図に基づく構造の具体的な説明とともに説明
する。第１図において、２は光源、３は分光器、
４は偏光器、５はしぼり、６は被検試料、７は検
知器、８は鏡９と例えば球面鏡よりなる光学素子
１０とからなる第１の光学系、１１は例えば球面
鏡よりなる光学素子１２と鏡１３とからなる第２
の光学系で、球面鏡１２は、被検試料６の接合中
心６ａと検知器７の受光点７ａ結ぶ線Ｘ−X′に
対して対称の位置に移動できるようになつてお
り、鏡13は前述の線Ｘ−X′に対して対称角度回
転可能になつている。１２′と１３′がそれぞれ交
換後の球面鏡と鏡の位置を示している。なお、１
４，１５及び１６は鏡で光源の輝度変動による測
定値の誤差を補償する補償光路を構成している。
本発明では、しぼり５は光学素子１０によつて
被検試料６のほぼ中心６ａに結像するように配置
され、また被検試料６の中心６ａは検知器７の受
光点７ａとはほぼ共役関係にあるように光学素子
１２が配置されている。
被検試料６のほぼ中心６ａに結像するように配置
され、また被検試料６の中心６ａは検知器７の受
光点７ａとはほぼ共役関係にあるように光学素子
１２が配置されている。
そして、光源２より分光器３を経て出射される
光を偏光器４によつて偏光として第１図に示す光
学配置によつて被検試料６の中心６ａ、例えばビ
ームスプリツタプリズムの接合部の接合中心付近
にしぼり５の微小像を投射し接合面を透過した光
束１７又は接合面で反射した光束１８を検知器７
に投射し検知する。
光を偏光器４によつて偏光として第１図に示す光
学配置によつて被検試料６の中心６ａ、例えばビ
ームスプリツタプリズムの接合部の接合中心付近
にしぼり５の微小像を投射し接合面を透過した光
束１７又は接合面で反射した光束１８を検知器７
に投射し検知する。
透過率を測定するには、被検試料６を設置せず
に第２の光学系１１の光学素子及び鏡をそれぞれ
１２，１３の位置に配置した状態で、検知器７に
入射する光量を測定記憶し、次に被検試料６を所
定の位置に設置して検知器７に入射する光量を測
定し、この測定値を記憶されている値で除するこ
とによつて、鏡９、光学素子１０、光学素子１
２、鏡１３の透過率の影響が除去され被検試料６
の透過率が求められる。
に第２の光学系１１の光学素子及び鏡をそれぞれ
１２，１３の位置に配置した状態で、検知器７に
入射する光量を測定記憶し、次に被検試料６を所
定の位置に設置して検知器７に入射する光量を測
定し、この測定値を記憶されている値で除するこ
とによつて、鏡９、光学素子１０、光学素子１
２、鏡１３の透過率の影響が除去され被検試料６
の透過率が求められる。
また、反射率を測定するには、透過率を測定す
る場合と同様に、被検試料６を設置せずに第２の
光学系１１の光学素子及び鏡をそれぞれ１２，１
３の位置に配置した状態で検知器７に入射する光
量を測定記憶し、次に被検試料６を所定の位置に
設定して、第２の光学系１１の光学素子及び鏡の
位置をそれぞれ１２′，１３′の位置に交換した状
態で検知器７に入射する光量を測定し、この測定
値を記憶されている光量で除することによつて、
鏡９、光学素子１０、光学素子１２、鏡１３の反
射率の影響が除去され、被検試料６の反射率が求
められる。
る場合と同様に、被検試料６を設置せずに第２の
光学系１１の光学素子及び鏡をそれぞれ１２，１
３の位置に配置した状態で検知器７に入射する光
量を測定記憶し、次に被検試料６を所定の位置に
設定して、第２の光学系１１の光学素子及び鏡の
位置をそれぞれ１２′，１３′の位置に交換した状
態で検知器７に入射する光量を測定し、この測定
値を記憶されている光量で除することによつて、
鏡９、光学素子１０、光学素子１２、鏡１３の反
射率の影響が除去され、被検試料６の反射率が求
められる。
本発明の光学特性測定装置は、以上の如く、構
成され使用されるため、被検試料、例えば、ビー
ムスプリツタプリズムが少し傾いても必ず、検出
器の受光面付近に結像させることができる。
成され使用されるため、被検試料、例えば、ビー
ムスプリツタプリズムが少し傾いても必ず、検出
器の受光面付近に結像させることができる。
以下、本発明の一実施例を第２図及び第６〜第
１１図を用いて説明する。これらの図において、
第１図、第３図、第４図及び第５図と同一部分に
は同一符号が付してある。
１１図を用いて説明する。これらの図において、
第１図、第３図、第４図及び第５図と同一部分に
は同一符号が付してある。
第２図は分光光度計と外置き大形試料室積分球
との組合せよりなる光学特性測定装置の光学系統
図、第６図は第２図の要部の平面図、第７図は同
じく正面図、第８図は同じく右側面図、第９図は
第２図のしぼりの正面図、第１０図及び第１１図
はそれぞれ第２図の被検試料のホールダの平面図
および側面図を示している。
との組合せよりなる光学特性測定装置の光学系統
図、第６図は第２図の要部の平面図、第７図は同
じく正面図、第８図は同じく右側面図、第９図は
第２図のしぼりの正面図、第１０図及び第１１図
はそれぞれ第２図の被検試料のホールダの平面図
および側面図を示している。
これらの図で、１９は光源２と白色光を単色光
に分光し対照光２０と試料光２１に分割する機能
とを持ち、分光光度計で各部の制御機能、データ
処理機能を有する分光光度計を示している。２２
は溶液等の測定を行うとき使用する試料室でこの
組合せでは対照光２０と試料光２１を大形試料室
２３に導くためにトロイダル鏡２４を介して各々
の光を直角に曲げている。２５は被検試料で、例
えば第５図に示すようなビームスプリツタプリズ
ムを示している。
に分光し対照光２０と試料光２１に分割する機能
とを持ち、分光光度計で各部の制御機能、データ
処理機能を有する分光光度計を示している。２２
は溶液等の測定を行うとき使用する試料室でこの
組合せでは対照光２０と試料光２１を大形試料室
２３に導くためにトロイダル鏡２４を介して各々
の光を直角に曲げている。２５は被検試料で、例
えば第５図に示すようなビームスプリツタプリズ
ムを示している。
しぼり５は、第９図に示すようなしぼり板３３
に設けられた孔よりなり、しぼり板３３には複数
個の形状、大きさの異なる孔が設けられており、
被検試料２５の大きさによつて交換できるように
なつている。球面鏡１０によつて被検試料２５の
ほぼ中心２５ａ付近に結像するように配置され、
また被検試料２５の中心２５ａは積分球検知器７
の受光点７ａとほぼ共役関係にあるように球面鏡
１２が配置してある。
に設けられた孔よりなり、しぼり板３３には複数
個の形状、大きさの異なる孔が設けられており、
被検試料２５の大きさによつて交換できるように
なつている。球面鏡１０によつて被検試料２５の
ほぼ中心２５ａ付近に結像するように配置され、
また被検試料２５の中心２５ａは積分球検知器７
の受光点７ａとほぼ共役関係にあるように球面鏡
１２が配置してある。
球面鏡１２は線Ｘ−X′に対して対照の位置１
２′に移動可能なように、第７図及び第８図に示
すようなガイドピン付アツセンブリとなつてい
る。第８図は１２′の位置に移動させた球面鏡と
１２の位置における軸受けガイド２６を示してい
る。
２′に移動可能なように、第７図及び第８図に示
すようなガイドピン付アツセンブリとなつてい
る。第８図は１２′の位置に移動させた球面鏡と
１２の位置における軸受けガイド２６を示してい
る。
鏡１３は、その位置で線Ｘ−X′に対して対称
角度回転して１３′に位置させることが可能にな
つている。第６図に示す２７及び２８は回転角度
規正用のピン及びストツプを示している。
角度回転して１３′に位置させることが可能にな
つている。第６図に示す２７及び２８は回転角度
規正用のピン及びストツプを示している。
被検試料２５の固定には第１０図及び第１１図
に示すような試料保持具２９が用いられる。被検
試料２５は試料押えがね３０によつて固定され、
ねじ３１及び調節ねじ３２によつて位置合せが実
施可能になつている。
に示すような試料保持具２９が用いられる。被検
試料２５は試料押えがね３０によつて固定され、
ねじ３１及び調節ねじ３２によつて位置合せが実
施可能になつている。
この実施例の光学特性測定装置は、このように
構成されているので被検試料２５の設置角度誤差
が1/50傾いて設置されても被検試料２５の中心付
近のしぼり５の像は球面鏡１２によつて積分球検
知器７の受光点７ａに結像するので正規光路をほ
どんと逸脱せずに積分球の受光点７ａに到達す
る。
構成されているので被検試料２５の設置角度誤差
が1/50傾いて設置されても被検試料２５の中心付
近のしぼり５の像は球面鏡１２によつて積分球検
知器７の受光点７ａに結像するので正規光路をほ
どんと逸脱せずに積分球の受光点７ａに到達す
る。
従つて、試料保持具２９は被検試料２５、例え
ばビームスプリツタプリズムの設置方向は厳密を
要せずビームスプリツタプリズムの接合面の中心
が常に定位置になるように保持すれば、ビームス
プリツタプリズム光学特性の測定が可能である。
ばビームスプリツタプリズムの設置方向は厳密を
要せずビームスプリツタプリズムの接合面の中心
が常に定位置になるように保持すれば、ビームス
プリツタプリズム光学特性の測定が可能である。
本実施例の被検試料の中心と検知器の受光点が
共役にあるため被検試料の設置位置の方向がわず
かに偏角しても反射光は確実に受光部に投射され
る。
共役にあるため被検試料の設置位置の方向がわず
かに偏角しても反射光は確実に受光部に投射され
る。
また、しぼりの像を被検試料の設置位置の中心
付近に結像させるためしぼりの窓の大きさを被検
試料の大きさに応じ変化させることにより測定点
の光束の大きさを調節することができる。また測
定光束の位置を微細に調節することができるなど
の効果がある。
付近に結像させるためしぼりの窓の大きさを被検
試料の大きさに応じ変化させることにより測定点
の光束の大きさを調節することができる。また測
定光束の位置を微細に調節することができるなど
の効果がある。
なお、前述の実施例においては、第１及び第２
の光学系で球面鏡を用いた例を示し、球面鏡を用
いる場合には、安価な光学系を得ることができる
が、球面鏡に代りに、楕円面鏡、トロイダル鏡及
びレンズと平面鏡との組み合せを用いることもで
きる。また、前述の実施例では、検知器に、積分
球形検知器を用いた例を示したが、光電子増倍
管、半導体検知器を検知器として用いることもで
きる。
の光学系で球面鏡を用いた例を示し、球面鏡を用
いる場合には、安価な光学系を得ることができる
が、球面鏡に代りに、楕円面鏡、トロイダル鏡及
びレンズと平面鏡との組み合せを用いることもで
きる。また、前述の実施例では、検知器に、積分
球形検知器を用いた例を示したが、光電子増倍
管、半導体検知器を検知器として用いることもで
きる。
また、前述の実施例においては、被検試料の透
過率及び反射率の両方を測定可能な光学特性測定
装置について説明したが、同様の原理に基づい
て、被検試料の反射率又は透過率専用の光学特性
測定装置を提供することが可能なことは言う迄も
ない。
過率及び反射率の両方を測定可能な光学特性測定
装置について説明したが、同様の原理に基づい
て、被検試料の反射率又は透過率専用の光学特性
測定装置を提供することが可能なことは言う迄も
ない。
本発明はビームスプリツタプリズムなどの被検
試料の反射率及び透過率の測定、特に微小なビー
ムスプリツタプリズムを再現性良く測定可能とす
る光学特性測定装置を提供可能とするもので、産
業上の効果の大なるものである。
試料の反射率及び透過率の測定、特に微小なビー
ムスプリツタプリズムを再現性良く測定可能とす
る光学特性測定装置を提供可能とするもので、産
業上の効果の大なるものである。
第１図は本発明の光学特性測定装置の光学系統
の説明図、第２図は同じく一実施例の光学系統
図、第３図、第４図及び第５図はそれぞれ異なる
ビームスプリツタープリズムの斜視図、第６図は
第２図の要部の平面図、第７図は同じく平面図、
第８図は同じく右側面図、第９図は第２図のしぼ
りの正面図、第１０図及び第１１図はそれぞれ第
２図の被検試料のホールダの平面図及び側面図で
ある。 ５……しぼり、６……被検試料、７……検知
器、８……第１の光学系、９……鏡、１０……光
学素子、１１……第２の光学系、１２，１２′…
…光学素子、１３，１３′……鏡、１７……接合
面を透過した光束、１８……接合面で反射した光
束。
の説明図、第２図は同じく一実施例の光学系統
図、第３図、第４図及び第５図はそれぞれ異なる
ビームスプリツタープリズムの斜視図、第６図は
第２図の要部の平面図、第７図は同じく平面図、
第８図は同じく右側面図、第９図は第２図のしぼ
りの正面図、第１０図及び第１１図はそれぞれ第
２図の被検試料のホールダの平面図及び側面図で
ある。 ５……しぼり、６……被検試料、７……検知
器、８……第１の光学系、９……鏡、１０……光
学素子、１１……第２の光学系、１２，１２′…
…光学素子、１３，１３′……鏡、１７……接合
面を透過した光束、１８……接合面で反射した光
束。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被検試料に照射した光を検知器で検知し該被
検試料の光学特性を測定する装置において、分光
器に後置されているしぼりよりなる前記光の微小
仮想光源と、前記被検試料の測定面が該被検試料
と前記検知器とを結ぶ線と同一直線上に配置され
る該被検試料との間に設置され、前記微小仮想光
源の像を前記被検試料の測定面付近に結像させる
第１の光学系、及び前記被検試料と前記検知器と
の間に設置され該被検試料の測定面付近と該検知
器の受光部付近とに共役点をもち、前記被検試料
と前記検知器とを結ぶ線に対して対称関係にある
位置の間で切り換え可能になつている第２の光学
系を有していることを特徴とする光学特性測定装
置。 ２ 前記第１及び第２の光学系が、それぞれ楕円
面鏡、トロイダル鏡、球面鏡及びレンズと平面鏡
と鏡との組み合せの何れかであり、前記検知器
が、積分球形検知器、光電子増倍管、半導体検知
器の何れかである特許請求の範囲第１項記載の光
学特性測定装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61176466A JPS6332338A (ja) | 1986-07-26 | 1986-07-26 | 光学特性測定装置 |
| US07/076,292 US4810872A (en) | 1986-07-26 | 1987-07-22 | Optical property measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61176466A JPS6332338A (ja) | 1986-07-26 | 1986-07-26 | 光学特性測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6332338A JPS6332338A (ja) | 1988-02-12 |
| JPH0554902B2 true JPH0554902B2 (ja) | 1993-08-13 |
Family
ID=16014174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61176466A Granted JPS6332338A (ja) | 1986-07-26 | 1986-07-26 | 光学特性測定装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4810872A (ja) |
| JP (1) | JPS6332338A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0741302U (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-21 | 株式会社サン・フロンティア・テクノロジー | ガス容器の誤装填防止装置 |
| JPH0741303U (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-21 | 株式会社サン・フロンティア・テクノロジー | ガス容器の誤装填防止装置 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5157459A (en) * | 1989-08-29 | 1992-10-20 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Wave front aberration measuring apparatus |
| JPH05172742A (ja) * | 1991-07-29 | 1993-07-09 | Shimadzu Corp | 色分解プリズムの分光透過率測定装置 |
| EP0572336B1 (en) * | 1992-05-29 | 2001-03-14 | Eastman Kodak Company | Coating density analyzer and method using image processing |
| US5298346A (en) * | 1992-07-27 | 1994-03-29 | Motorola, Inc. | Battery identification system |
| US5400116A (en) * | 1993-11-03 | 1995-03-21 | Eastman Kodak Company | Apparatus and method for producing gradated exposures on radiation sensitive material |
| US6734967B1 (en) | 1995-01-19 | 2004-05-11 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system |
| US5608526A (en) * | 1995-01-19 | 1997-03-04 | Tencor Instruments | Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system |
| US5745234A (en) * | 1995-07-31 | 1998-04-28 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Variable angle reflectometer employing an integrating sphere and a light concentrator |
| JP3931605B2 (ja) * | 2001-09-19 | 2007-06-20 | セイコーエプソン株式会社 | 光学素子の検査装置および光学素子の検査方法 |
| EP1457840B1 (en) | 2003-03-14 | 2014-07-30 | Ricoh Company, Ltd. | Colour image forming apparatus, which controls the image density by evaluating a reflection signal and a diffuse reflection signal of an optical detecting unit |
| US10156488B2 (en) * | 2013-08-29 | 2018-12-18 | Corning Incorporated | Prism-coupling systems and methods for characterizing curved parts |
| US9983064B2 (en) | 2013-10-30 | 2018-05-29 | Corning Incorporated | Apparatus and methods for measuring mode spectra for ion-exchanged glasses having steep index region |
| US9919958B2 (en) | 2014-07-17 | 2018-03-20 | Corning Incorporated | Glass sheet and system and method for making glass sheet |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2146904A (en) * | 1936-05-07 | 1939-02-14 | Eastman Kodak Co | Reflection and transmission densitometer |
| DE2047952C3 (de) * | 1970-09-30 | 1973-10-18 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | Verfahren zur photometrischen Auswertung der sich bei der Auftrennung von Substanz gemischen in dünnen Schichten aus licht streuendem Material ergebenden Zonen |
| US4040750A (en) * | 1976-05-28 | 1977-08-09 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Real time reflectometer |
| NL8006097A (nl) * | 1980-11-07 | 1982-06-01 | Nl Bank Nv | Inrichting voor het automatisch vaststellen en beoordelen van kwaliteiten van afdrukken. |
| US4589776A (en) * | 1982-09-27 | 1986-05-20 | Chiratech, Inc. | Method and apparatus for measuring optical properties of materials |
| US4591271A (en) * | 1983-03-21 | 1986-05-27 | Byers Donald W | Method and apparatus for coating detection and surface evaluation |
| US4672196A (en) * | 1984-02-02 | 1987-06-09 | Canino Lawrence S | Method and apparatus for measuring properties of thin materials using polarized light |
-
1986
- 1986-07-26 JP JP61176466A patent/JPS6332338A/ja active Granted
-
1987
- 1987-07-22 US US07/076,292 patent/US4810872A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0741302U (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-21 | 株式会社サン・フロンティア・テクノロジー | ガス容器の誤装填防止装置 |
| JPH0741303U (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-21 | 株式会社サン・フロンティア・テクノロジー | ガス容器の誤装填防止装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6332338A (ja) | 1988-02-12 |
| US4810872A (en) | 1989-03-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5042951A (en) | High resolution ellipsometric apparatus | |
| US5581350A (en) | Method and system for calibrating an ellipsometer | |
| US5469259A (en) | Inspection interferometer with scanning autofocus, and phase angle control features | |
| EP1103784B1 (en) | Ellipsometer | |
| US7471392B2 (en) | Polarimetric scatterometry methods for critical dimension measurements of periodic structures | |
| TW579436B (en) | Interferometer, beam-combining unit and manipulator system | |
| US6870621B2 (en) | Small spot ellipsometer | |
| JPH0554902B2 (ja) | ||
| EP0396409B1 (en) | High resolution ellipsometric apparatus | |
| JP4399126B2 (ja) | 分光エリプソメータ | |
| CA2025204C (en) | Spectrum measuring equipment | |
| JPS62266439A (ja) | 分光偏光測定装置 | |
| US4105335A (en) | Interferometric optical phase discrimination apparatus | |
| EP0128183A1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR EXAMINING OBJECTS. | |
| EP0081651B1 (en) | Three-axis angle sensor | |
| JPH04127004A (ja) | エリプソメータ及びその使用方法 | |
| JP3519605B2 (ja) | エリプソメトリ装置 | |
| JP2000292347A (ja) | 旋光度測定装置 | |
| JP2712987B2 (ja) | 偏光測定装置の調整方法 | |
| JPH02238376A (ja) | 電界測定用プローブ | |
| JPS6244215B2 (ja) | ||
| JPS60211304A (ja) | 平行度測定装置 | |
| JPS5987309A (ja) | 面傾き測定装置 | |
| JPS62278422A (ja) | 光源性能計測装置 | |
| JP2000065727A (ja) | 偏光解析装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |