JPS59206077A - 光学式情報記録体の保護膜コ−テイング方法 - Google Patents
光学式情報記録体の保護膜コ−テイング方法Info
- Publication number
- JPS59206077A JPS59206077A JP8005483A JP8005483A JPS59206077A JP S59206077 A JPS59206077 A JP S59206077A JP 8005483 A JP8005483 A JP 8005483A JP 8005483 A JP8005483 A JP 8005483A JP S59206077 A JPS59206077 A JP S59206077A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- resin
- recording medium
- information recording
- film
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ディスク状の光学式情報記録体（以下、光学
式ディスクという）の反射股上に、保護膜をコーティン
グする方法に関するものである。
式ディスクという）の反射股上に、保護膜をコーティン
グする方法に関するものである。
一般に、光学式ディスクはポリカーボネート等の樹脂の
成形品からなり、その記録面側に反射膜をコーティング
するのであるが、この反射膜は極めて薄いため、金属と
しての充分な強度を持たない。
成形品からなり、その記録面側に反射膜をコーティング
するのであるが、この反射膜は極めて薄いため、金属と
しての充分な強度を持たない。
そのため、反射膜が傷つきやすいのでこれを保護するた
め、また、反射膜にアルミニウムのような酸化されやす
い金属を使用したとき酸化を防止するためもあって、反
射膜の上にさらに保護膜をコーティングする。
め、また、反射膜にアルミニウムのような酸化されやす
い金属を使用したとき酸化を防止するためもあって、反
射膜の上にさらに保護膜をコーティングする。
保護膜を形成するだめの樹脂としては、製造工程から考
えて、一般に紫外線硬化型樹脂が用いられている。
えて、一般に紫外線硬化型樹脂が用いられている。
従来、このような保護膜をコーチインクする方法として
、スピンナーコーティング方法があり、これには、中心
部滴下型とダウンフロー型とがある。
、スピンナーコーティング方法があり、これには、中心
部滴下型とダウンフロー型とがある。
中心部滴下型というのは、第１図（Ａ）〜（Ｃ）に示す
ように、まず光学式ディスク１の中心部トＪ近に樹脂２
（ａ、体状）を滴下しくＡ）、ただぢに高速回転させて
樹脂〆ｌｋ ２を遠心力で振り切り（Ｂ）、膜厚を調節
したところで紫外線照射源３から紫外線を照射して硬化
させて（Ｃ）、保護膜を形成する方法である。
ように、まず光学式ディスク１の中心部トＪ近に樹脂２
（ａ、体状）を滴下しくＡ）、ただぢに高速回転させて
樹脂〆ｌｋ ２を遠心力で振り切り（Ｂ）、膜厚を調節
したところで紫外線照射源３から紫外線を照射して硬化
させて（Ｃ）、保護膜を形成する方法である。
また、ダウンフロー型というのは、光学式ディスクを回
転させながら、樹脂液を外周（または内周）から連続し
て導入し、除々に内周（または外周）へと樹脂射出ノズ
ルを移動させ、全周にわたって樹脂液が導入された後、
余分な樹脂を振り切る方法である。
転させながら、樹脂液を外周（または内周）から連続し
て導入し、除々に内周（または外周）へと樹脂射出ノズ
ルを移動させ、全周にわたって樹脂液が導入された後、
余分な樹脂を振り切る方法である。
しかしながら、光学式ディスク１は第２図に示すように
複雑な形状をしており（図中Ａは、スタンパ−を成形機
に装着するためのクランピングエリアであり、それ以外
が記録エリアである）、中心滴下型では、このクランピ
ングエリアＡ内まで樹脂液を滴下させると、高速回転に
よって振り切る際、ちょうどガラス板に水滴が流れ落ち
るときに初めに流れた所だけに水滴が集中して他の所に
はほとんど水滴の流れが見られないのと同様にして、ク
ランピングエリアＡからあふれ出す樹脂液はある部分に
集中し、光学式ディスク１の半ｉ￥方向に筋のような局
部的に厚い樹脂部分が残ってしまうという欠点があった
。
複雑な形状をしており（図中Ａは、スタンパ−を成形機
に装着するためのクランピングエリアであり、それ以外
が記録エリアである）、中心滴下型では、このクランピ
ングエリアＡ内まで樹脂液を滴下させると、高速回転に
よって振り切る際、ちょうどガラス板に水滴が流れ落ち
るときに初めに流れた所だけに水滴が集中して他の所に
はほとんど水滴の流れが見られないのと同様にして、ク
ランピングエリアＡからあふれ出す樹脂液はある部分に
集中し、光学式ディスク１の半ｉ￥方向に筋のような局
部的に厚い樹脂部分が残ってしまうという欠点があった
。
このため、クランピングエリアＡを避けて、その外周か
らダウンフローでコーティングする方法があるが、樹脂
液の精度が高い場合、表面張力が大きくなって、反射膜
面に濡れにくくなり、特にダウンフローのように樹脂液
の流れが速いと余８１濡れにくくなり、樹脂ｌ（ｋの濡
れた面と濡れにくい面とが分離して、第３図（Ｂ）のよ
うにコーティングされた保護膜のエンディングエツジ（
内周縁）がギザギザの円になるという欠点があった。
らダウンフローでコーティングする方法があるが、樹脂
液の精度が高い場合、表面張力が大きくなって、反射膜
面に濡れにくくなり、特にダウンフローのように樹脂液
の流れが速いと余８１濡れにくくなり、樹脂ｌ（ｋの濡
れた面と濡れにくい面とが分離して、第３図（Ｂ）のよ
うにコーティングされた保護膜のエンディングエツジ（
内周縁）がギザギザの円になるという欠点があった。
なお、第３図（Ａ）は以下に説明する本発明による場合
の保護膜である（内周円が均一の円になっている）。
の保護膜である（内周円が均一の円になっている）。
ずなわら、オニ発明の目的は、上記（）Ｌ来のコーティ
ング方法の欠点を克服し、均一な保護膜をコーティング
することのできる方法を提供するごとにある。
ング方法の欠点を克服し、均一な保護膜をコーティング
することのできる方法を提供するごとにある。
以下、図によって本発明を具体的に説明する。
第４図は、本発明の詳細な説明するための断面図（Ａ）
と平面図（Ｂ）である。
と平面図（Ｂ）である。
同図（Ａ）、（Ｂ）に示すように、まず、光学式ディス
ク１の中間部分（ただし、クランピングエリアへの外側
）にドーナツ状に樹脂液２を滴下し、しかる後、高速で
光学式ディスク１を回転させて余分な樹脂液２を振り切
って膜厚を調整し、紫外線を照射して樹脂膜を硬化させ
るのである。
ク１の中間部分（ただし、クランピングエリアへの外側
）にドーナツ状に樹脂液２を滴下し、しかる後、高速で
光学式ディスク１を回転させて余分な樹脂液２を振り切
って膜厚を調整し、紫外線を照射して樹脂膜を硬化させ
るのである。
なお、最初に樹脂液２をドーナツ状に滴下させる際、光
学式ディスク１は低速で回転させても、あるいは静止さ
せたままでよい。
学式ディスク１は低速で回転させても、あるいは静止さ
せたままでよい。
このようにして樹脂液２を光学式ディスク１にコーティ
ングすると、樹脂液２はその表面張力によってクランピ
ングエリアＡには落ち込まず、かつ、全周（記録エリア
）にわたって均一にコーチインクされることができる。
ングすると、樹脂液２はその表面張力によってクランピ
ングエリアＡには落ち込まず、かつ、全周（記録エリア
）にわたって均一にコーチインクされることができる。
また、樹脂液２中に含まれる気泡の影習も少なくなる。
なお、ピント面ばかりでなく、入射光面（第４図（Ａ）
の下面側）にも保護膜をコーティングしてよい。
の下面側）にも保護膜をコーティングしてよい。
以上説明したように、本発明によれば、保護膜を均一に
かつ気泡の影響少なくコーティングすることができ、仕
上り外観を向上させることができる。
かつ気泡の影響少なくコーティングすることができ、仕
上り外観を向上させることができる。
第１図（Ａ）〜（Ｃ）゛は従来のスピンナーコーティン
グ方法を説明するための工程図、第２図は光学式ディス
クの断面図、第３図（Ａ）は本発明の方法によりコーテ
ィングされた保護膜の仕上り形状を示す平面図、第３図
（Ｂ）は従来のダウンフロー法によるコーテイング面を
示す平面図、および第４図（Ａ）は本発明の詳細な説明
するための断面図、第４図（Ｂ）はその平面図である。 １・・・光学式ディスク、２・・・樹脂液。 特許出願人 東芝イーエムアイ株式会社（Ａ）
（Ｂ） （
ｃ）■ 第２図 第３図 （Ａ） （Ｂ） 第４図 （Ａ） □１ ５３９−
グ方法を説明するための工程図、第２図は光学式ディス
クの断面図、第３図（Ａ）は本発明の方法によりコーテ
ィングされた保護膜の仕上り形状を示す平面図、第３図
（Ｂ）は従来のダウンフロー法によるコーテイング面を
示す平面図、および第４図（Ａ）は本発明の詳細な説明
するための断面図、第４図（Ｂ）はその平面図である。 １・・・光学式ディスク、２・・・樹脂液。 特許出願人 東芝イーエムアイ株式会社（Ａ）
（Ｂ） （
ｃ）■ 第２図 第３図 （Ａ） （Ｂ） 第４図 （Ａ） □１ ５３９−
Claims (1)
- ディスク状の光学式情報記録体の反射膜上に保護膜をコ
ーティングする際、まず光学式情報記録体を低速で回転
させながらあるいは静止させたままで光学式情報記録体
の中間分にｌ・−ナラ状に保護膜形成用の樹脂を滴下し
、しかる後光学式情報記録体を高速で回転させてその反
射膜上の全面に均一に保護膜を形成することを特徴とす
る光学式情報記録体の保護膜コーティング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8005483A JPS59206077A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 光学式情報記録体の保護膜コ−テイング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8005483A JPS59206077A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 光学式情報記録体の保護膜コ−テイング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59206077A true JPS59206077A (ja) | 1984-11-21 |
| JPS615794B2 JPS615794B2 (ja) | 1986-02-21 |
Family
ID=13707518
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8005483A Granted JPS59206077A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 光学式情報記録体の保護膜コ−テイング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59206077A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62222449A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 情報記録媒体用基板 |
| JPH0192938A (ja) * | 1987-10-02 | 1989-04-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 情報記録媒体 |
| EP0723261A2 (en) * | 1995-01-23 | 1996-07-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium and process for producing same |
| JPH09185845A (ja) * | 1996-12-16 | 1997-07-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 情報記録媒体 |
| JPH09265664A (ja) * | 1996-12-16 | 1997-10-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 情報記録媒体 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5068102A (ja) * | 1973-10-15 | 1975-06-07 | ||
| JPS5727439A (en) * | 1980-07-23 | 1982-02-13 | Yoshiro Nakamatsu | Spin coating system with speed variation |
-
1983
- 1983-05-10 JP JP8005483A patent/JPS59206077A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5068102A (ja) * | 1973-10-15 | 1975-06-07 | ||
| JPS5727439A (en) * | 1980-07-23 | 1982-02-13 | Yoshiro Nakamatsu | Spin coating system with speed variation |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62222449A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 情報記録媒体用基板 |
| JPH0553021B2 (ja) * | 1986-03-20 | 1993-08-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | |
| JPH0192938A (ja) * | 1987-10-02 | 1989-04-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 情報記録媒体 |
| EP0723261A2 (en) * | 1995-01-23 | 1996-07-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium and process for producing same |
| EP0723261A3 (en) * | 1995-01-23 | 1996-09-04 | Canon Kk | Optical recording medium and method for its production |
| US5714222A (en) * | 1995-01-23 | 1998-02-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium and process for producing same |
| JPH09185845A (ja) * | 1996-12-16 | 1997-07-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 情報記録媒体 |
| JPH09265664A (ja) * | 1996-12-16 | 1997-10-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 情報記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS615794B2 (ja) | 1986-02-21 |
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