JPH09185845A - 情報記録媒体 - Google Patents
情報記録媒体Info
- Publication number
- JPH09185845A JPH09185845A JP8353614A JP35361496A JPH09185845A JP H09185845 A JPH09185845 A JP H09185845A JP 8353614 A JP8353614 A JP 8353614A JP 35361496 A JP35361496 A JP 35361496A JP H09185845 A JPH09185845 A JP H09185845A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- dye
- recording medium
- information recording
- substrate
- Prior art date
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- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザ光による情報の書き込み、および読み
取りにおいて誤りが少なく、かつ再生時のS/Nが向上
した追記型の情報記録媒体を提供すること。 【解決手段】 射出成型により得られた内周環状溝を有
するプラスチック基板の表面に、色素記録層が、スピン
コート法によって該基板の内周環状溝より外側に塗布形
成されており、さらにその上に反射層が付設されている
ことを特徴とする情報記録媒体。
取りにおいて誤りが少なく、かつ再生時のS/Nが向上
した追記型の情報記録媒体を提供すること。 【解決手段】 射出成型により得られた内周環状溝を有
するプラスチック基板の表面に、色素記録層が、スピン
コート法によって該基板の内周環状溝より外側に塗布形
成されており、さらにその上に反射層が付設されている
ことを特徴とする情報記録媒体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体に関
するものであり、さらに詳しくは、レーザービームを用
いての情報の書き込み及び読み取りが可能な追記型の情
報記録媒体に関するものである。
するものであり、さらに詳しくは、レーザービームを用
いての情報の書き込み及び読み取りが可能な追記型の情
報記録媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光情報記録媒体としては、従来から音楽
等のオーディオ用として再生専用のコンパクトディスク
(CD)が広く用いられている。この再生専用のコンパ
クトディスクは、デジタル化された記録信号に対応する
多数のピット(穴)が表面に形成された透明な樹脂基板
と、そのピットを被覆するように形成された金属層(反
射層)とから形成されている。そして、そのような再生
専用のコンパクトディスクは、まず、記録信号がピット
の形で記録された型(モールド)を製造した後、このモ
ールドからスタンパを作成し、このスタンパを用いて樹
脂成形操作を行なって、表面にピットを有する基板を作
成し、次いでその基板のピット側表面にスパッタリング
などの方法で金属層を形成する方法を利用して製造され
る。
等のオーディオ用として再生専用のコンパクトディスク
(CD)が広く用いられている。この再生専用のコンパ
クトディスクは、デジタル化された記録信号に対応する
多数のピット(穴)が表面に形成された透明な樹脂基板
と、そのピットを被覆するように形成された金属層(反
射層)とから形成されている。そして、そのような再生
専用のコンパクトディスクは、まず、記録信号がピット
の形で記録された型(モールド)を製造した後、このモ
ールドからスタンパを作成し、このスタンパを用いて樹
脂成形操作を行なって、表面にピットを有する基板を作
成し、次いでその基板のピット側表面にスパッタリング
などの方法で金属層を形成する方法を利用して製造され
る。
【0003】従って、上記のような樹脂成形を利用して
製造されるコンパクトディスクは、同一の情報が記録さ
れた多数枚の光情報記録媒体の複製の要求がある場合に
有利に利用できるものである。しかし、一方では、同一
の情報が記録された光情報記録媒体が多数枚必要でない
とき、たとえば、同一の情報が記録された光情報記録媒
体が、一枚乃至数十枚程度のみ必要である場合には、そ
のモールドやスタンパの製造のために必要な費用を考え
ると、このような樹脂成形による再生専用のコンパクト
ディスクは有利な記録媒体ということはできない。
製造されるコンパクトディスクは、同一の情報が記録さ
れた多数枚の光情報記録媒体の複製の要求がある場合に
有利に利用できるものである。しかし、一方では、同一
の情報が記録された光情報記録媒体が多数枚必要でない
とき、たとえば、同一の情報が記録された光情報記録媒
体が、一枚乃至数十枚程度のみ必要である場合には、そ
のモールドやスタンパの製造のために必要な費用を考え
ると、このような樹脂成形による再生専用のコンパクト
ディスクは有利な記録媒体ということはできない。
【0004】このため、情報の記録が可能な追記型光情
報記録媒体が開発されいる。追記型光情報記録媒体とし
ては、プラスチックなどからなる円盤状の透明基板の上
に直接色素記録層を、スピンコートなどの塗布法を利用
して塗布形成したタイプのもの、また透明基板の上に中
間層(下塗樹脂層)を介して金属記録層を付設したタイ
プのものが知られている。
報記録媒体が開発されいる。追記型光情報記録媒体とし
ては、プラスチックなどからなる円盤状の透明基板の上
に直接色素記録層を、スピンコートなどの塗布法を利用
して塗布形成したタイプのもの、また透明基板の上に中
間層(下塗樹脂層)を介して金属記録層を付設したタイ
プのものが知られている。
【0005】プラスチック基板は、最近ではプラスチッ
ク(合成樹脂)を材料として射出成型で製造されること
が多くなっている。この射出成型は一般に、所定の凹凸
模様を表面に有するスタンパと呼ばれる金型の該表面を
加熱しながら加圧下にて熱可塑性の合成樹脂を接触させ
る方法により、該スタンパの凹凸模様に対応する凹凸模
様を表面に有するプラスチック製円盤を得ることからな
る成型操作である。
ク(合成樹脂)を材料として射出成型で製造されること
が多くなっている。この射出成型は一般に、所定の凹凸
模様を表面に有するスタンパと呼ばれる金型の該表面を
加熱しながら加圧下にて熱可塑性の合成樹脂を接触させ
る方法により、該スタンパの凹凸模様に対応する凹凸模
様を表面に有するプラスチック製円盤を得ることからな
る成型操作である。
【0006】上記のスタンパは、加圧装置に取り付けら
れた状態で上記の成型操作に利用されるが、このスタン
パの加圧装置への取り付け用の治具は通常、スタンパ表
面の内周側(成型される円盤状基板の円孔の周囲で、記
録領域よりも内側の部分)に取り付ける。従って、その
ようなスタンパを用いて得られた基板は、記録領域より
も内周側に環状溝が設けられた形状、すなわち第1図に
示されるような断面形状を有する基板となる。そのよう
な環状溝は当然、円盤状基板の円滑な回転を妨げないよ
うに、その中心位置に対して対称の位置そして形状とな
るように配慮されているため、その存在自体が、その基
板を用いて製造される光ディスクの性能に与える影響は
少ないといえる。
れた状態で上記の成型操作に利用されるが、このスタン
パの加圧装置への取り付け用の治具は通常、スタンパ表
面の内周側(成型される円盤状基板の円孔の周囲で、記
録領域よりも内側の部分)に取り付ける。従って、その
ようなスタンパを用いて得られた基板は、記録領域より
も内周側に環状溝が設けられた形状、すなわち第1図に
示されるような断面形状を有する基板となる。そのよう
な環状溝は当然、円盤状基板の円滑な回転を妨げないよ
うに、その中心位置に対して対称の位置そして形状とな
るように配慮されているため、その存在自体が、その基
板を用いて製造される光ディスクの性能に与える影響は
少ないといえる。
【0007】記録材料として色素を用いるタイプの情報
記録媒体は、基板の表面に、色素もしくは色素と少量の
添加成分とからなる色素記録層材料の溶液をスピンコー
ト法などの塗布法を利用して塗布形成して色素記録層を
形成する。必要に応じて、その色素記録層の上に保護層
などを形成する。
記録媒体は、基板の表面に、色素もしくは色素と少量の
添加成分とからなる色素記録層材料の溶液をスピンコー
ト法などの塗布法を利用して塗布形成して色素記録層を
形成する。必要に応じて、その色素記録層の上に保護層
などを形成する。
【0008】本発明者は、円盤状基板の表面に設定され
ている記録領域よりも内周側に環状溝が設けられてなる
射出成型により製造したプラスチック基板の表面に、常
法に従い、環状溝の内側からスピンコート法により色素
記録層材料溶液を塗布して記録層(記録可能層)を形成
した場合、その記録層が不均一になる傾向があることを
見出した。そして、そのような記録層の不均一さは、得
られる情報記録媒体の記録層に記録されるピット形状の
ばらつき、および情報の書き誤りや読み誤りを生じさせ
易いなどの問題を引き起すことも確認した。
ている記録領域よりも内周側に環状溝が設けられてなる
射出成型により製造したプラスチック基板の表面に、常
法に従い、環状溝の内側からスピンコート法により色素
記録層材料溶液を塗布して記録層(記録可能層)を形成
した場合、その記録層が不均一になる傾向があることを
見出した。そして、そのような記録層の不均一さは、得
られる情報記録媒体の記録層に記録されるピット形状の
ばらつき、および情報の書き誤りや読み誤りを生じさせ
易いなどの問題を引き起すことも確認した。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、レー
ザ光による情報の書き込み、および読み取りの際の誤り
の少なく、また情報の再生時におけるS/N比が向上し
た追記型の情報記録媒体を提供することを主な目的とす
る。
ザ光による情報の書き込み、および読み取りの際の誤り
の少なく、また情報の再生時におけるS/N比が向上し
た追記型の情報記録媒体を提供することを主な目的とす
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、射出成型によ
り得られた内周環状溝を有するプラスチック基板の表面
に、色素記録層が、スピンコート法によって該基板の内
周環状溝より外側に塗布形成されており、さらにその上
に反射層が付設されていることを特徴とする情報記録媒
体にある。
り得られた内周環状溝を有するプラスチック基板の表面
に、色素記録層が、スピンコート法によって該基板の内
周環状溝より外側に塗布形成されており、さらにその上
に反射層が付設されていることを特徴とする情報記録媒
体にある。
【0011】すなわち、色素記録層の形成に一般的に用
いられているスピンコート法は、色素溶液を円盤状基板
の中央付近に付与し、基板を回転させることにより、そ
の色素溶液を外側に広げながら基板表面に塗布する方法
である。本発明者の研究によると、上記のスピンコート
方法は、基板の中央付近に付与された塗布液が前記の内
周側の環状溝を渡って基板の外周側に広がる際に、塗布
液がその環状溝の外周側裾部において逆方向に強く押し
戻され、これにより塗布液の流れが乱れ、形成される塗
布層が不均一になり、生成する色素記録層に塗布むらが
発生する傾向があることを見出した。本発明者は更に研
究を行なった結果、内周側の環状溝(内周環状溝)より
外側から色素記録層形成用塗布液を外周側に塗布するこ
とにより、上記のような塗布むらの発生を顕著に低減で
きることを見出した。また、そのようにして塗布形成さ
れた色素記録層の上に反射層を設けることにより、情報
の再生時におけるS/N比の向上が実現することも見い
出した。
いられているスピンコート法は、色素溶液を円盤状基板
の中央付近に付与し、基板を回転させることにより、そ
の色素溶液を外側に広げながら基板表面に塗布する方法
である。本発明者の研究によると、上記のスピンコート
方法は、基板の中央付近に付与された塗布液が前記の内
周側の環状溝を渡って基板の外周側に広がる際に、塗布
液がその環状溝の外周側裾部において逆方向に強く押し
戻され、これにより塗布液の流れが乱れ、形成される塗
布層が不均一になり、生成する色素記録層に塗布むらが
発生する傾向があることを見出した。本発明者は更に研
究を行なった結果、内周側の環状溝(内周環状溝)より
外側から色素記録層形成用塗布液を外周側に塗布するこ
とにより、上記のような塗布むらの発生を顕著に低減で
きることを見出した。また、そのようにして塗布形成さ
れた色素記録層の上に反射層を設けることにより、情報
の再生時におけるS/N比の向上が実現することも見い
出した。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の追記型の情報記録媒体の
構成を添付図面を参照しながら更に詳しく説明する。第
1図は、射出成型により成型されたプラスチック製基板
の模式図であり、そして第2図は、本発明に従って、基
板上に色素記録層(記録可能層)と反射層が形成された
情報記録媒体の模式図である。ただし、本発明の情報記
録媒体の基板は中心に設定されている回転軸を中心にし
て対称の関係にあるため、第1図および第2図では、そ
れぞれ片側のみを示している。第1図では、記録領域1
1よりも内周側に環状溝12が形成された基板13の構
成を示している。第2図では、基板33に、内周環状溝
32のすぐ外側から色素記録層35設け、更にその上に
反射層34を設けた例である。この構成例は、本発明の
代表例にすぎず、反射層の上に保護層等が設けられてい
てもよい。
構成を添付図面を参照しながら更に詳しく説明する。第
1図は、射出成型により成型されたプラスチック製基板
の模式図であり、そして第2図は、本発明に従って、基
板上に色素記録層(記録可能層)と反射層が形成された
情報記録媒体の模式図である。ただし、本発明の情報記
録媒体の基板は中心に設定されている回転軸を中心にし
て対称の関係にあるため、第1図および第2図では、そ
れぞれ片側のみを示している。第1図では、記録領域1
1よりも内周側に環状溝12が形成された基板13の構
成を示している。第2図では、基板33に、内周環状溝
32のすぐ外側から色素記録層35設け、更にその上に
反射層34を設けた例である。この構成例は、本発明の
代表例にすぎず、反射層の上に保護層等が設けられてい
てもよい。
【0013】本発明の情報記録媒体の基板は、上記のよ
うに射出成型されたプラスチック製の円盤状基板であ
り、内周側に溝のあるものである。そして、その基板
は、表面にトラッキング用案内溝として機能するプレグ
ルーブが付けられた基板であることが有利であるので、
以下の説明ではプレグルーブ付き基板を例にとって説明
する。プレグルーブ付き基板は、たとえば、ポリカーボ
ネート樹脂、ポリアクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、
エポキシ樹脂および非晶質ポリオレフィンなどのプラス
チック材料(好ましくは、ポリカーボネート、ポリメチ
ルメタクリレート、または非晶質ポリオレフィン)の射
出成型によって製造した基板である。プレグルーブは公
知の方法によって、射出成型時、あるいはその後に基板
表面に形成される。
うに射出成型されたプラスチック製の円盤状基板であ
り、内周側に溝のあるものである。そして、その基板
は、表面にトラッキング用案内溝として機能するプレグ
ルーブが付けられた基板であることが有利であるので、
以下の説明ではプレグルーブ付き基板を例にとって説明
する。プレグルーブ付き基板は、たとえば、ポリカーボ
ネート樹脂、ポリアクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、
エポキシ樹脂および非晶質ポリオレフィンなどのプラス
チック材料(好ましくは、ポリカーボネート、ポリメチ
ルメタクリレート、または非晶質ポリオレフィン)の射
出成型によって製造した基板である。プレグルーブは公
知の方法によって、射出成型時、あるいはその後に基板
表面に形成される。
【0014】本発明の情報記録媒体を製造する方法とし
ては、たとえば、下記の方法を利用することができる。
まず、基板表面上に公知のスピンコート法により色素記
録層を形成させる。色素記録層は、従来知られているも
のと同様に、色素のみからなる層、あるいは色素と少量
の結合剤などの添加剤を含む層である。本発明で記録材
料として用いる色素としては、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズ
レニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crな
どの金属の錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタ
ン系色素、アミジニウム系・ジインモニウム系色素およ
びニトロソ化合物系色素を挙げることができる。これら
のうちでも記録再生用レーザとして近赤外領域のレーザ
光を発する半導体レーザの利用が実用化されている点か
ら700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収率
が高い色素が好ましい。次にその例を挙げる。 i)シアニン系色素
ては、たとえば、下記の方法を利用することができる。
まず、基板表面上に公知のスピンコート法により色素記
録層を形成させる。色素記録層は、従来知られているも
のと同様に、色素のみからなる層、あるいは色素と少量
の結合剤などの添加剤を含む層である。本発明で記録材
料として用いる色素としては、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。たとえば、シアニン系色素、フタロシアニン系
色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズ
レニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ni、Crな
どの金属の錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタ
ン系色素、アミジニウム系・ジインモニウム系色素およ
びニトロソ化合物系色素を挙げることができる。これら
のうちでも記録再生用レーザとして近赤外領域のレーザ
光を発する半導体レーザの利用が実用化されている点か
ら700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収率
が高い色素が好ましい。次にその例を挙げる。 i)シアニン系色素
【0015】
【化2】
【0016】ただし、[1]〜[4]の式において、記
号は次の意味を表わす。式[2]において、nは2また
は3である。式[3]において、Rは水素原子またはN
(CH3 )2 である。式[4]において、nは0〜3の
整数であり、Aは次の基を表わす。
号は次の意味を表わす。式[2]において、nは2また
は3である。式[3]において、Rは水素原子またはN
(CH3 )2 である。式[4]において、nは0〜3の
整数であり、Aは次の基を表わす。
【0017】
【化3】
【0018】(上記の各式において、Rはアルキル基で
あり、Xは対イオンであり、場合により、ベンゼン環ま
たはナフタリン環には塩素原子、アルキル基、アルコキ
シ基またはアリール基が存在していてもよい) また、式[4]において、Bは次の基を表わす。
あり、Xは対イオンであり、場合により、ベンゼン環ま
たはナフタリン環には塩素原子、アルキル基、アルコキ
シ基またはアリール基が存在していてもよい) また、式[4]において、Bは次の基を表わす。
【0019】
【化4】
【0020】(上記の各式において、Rはアルキル基で
あり、Xは対イオンであり、場合により、ベンゼン環ま
たはナフタリン環には塩素原子、アルキル基、アルコキ
シ基またはアリール基が存在していてもよい)
あり、Xは対イオンであり、場合により、ベンゼン環ま
たはナフタリン環には塩素原子、アルキル基、アルコキ
シ基またはアリール基が存在していてもよい)
【0021】
【化5】
【0022】上記の式[5]において、Rはアルキル基
であり、そしてXはハロゲン原子である。
であり、そしてXはハロゲン原子である。
【0023】
【化6】
【0024】上記の式[6]においてRは置換または未
置換のアルキル基、アルコキシ基、アラルキル基、アル
ケニル基であり、Xは水素原子またはハロゲン原子であ
り、Yはハロゲン、パークロレート、置換または未置換
のベンゼンスルホネート、パラトルエンスルホネート、
メチルスルホネート、エチルスルホネート、ベンゼンカ
ルボキシレート、メチルカルボキシレート、またはトリ
フルオロメチルカルボキシレートであり、nは0〜3の
整数である。
置換のアルキル基、アルコキシ基、アラルキル基、アル
ケニル基であり、Xは水素原子またはハロゲン原子であ
り、Yはハロゲン、パークロレート、置換または未置換
のベンゼンスルホネート、パラトルエンスルホネート、
メチルスルホネート、エチルスルホネート、ベンゼンカ
ルボキシレート、メチルカルボキシレート、またはトリ
フルオロメチルカルボキシレートであり、nは0〜3の
整数である。
【0025】
【化7】
【0026】上記の式[7]において、R1 、R2 およ
びR3 はそれぞれ置換または未置換のアルキル基であっ
て、互いに同じか異なっていてもよく、X- は過ハロゲ
ン酸イオン、トルエンスルホン酸イオンまたはアルキル
硫酸イオンであり、nは0〜3の整数であり、そしてイ
ンドレニン環の4位、5位、6位および7位のうちの少
なくとも一つにハロゲン原子が存在し、場合により他の
位置にさらにハロゲン原子が存在していてもよく、さら
に場合によりベンゼン環はアルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、アリル基またはアル
キルカルボニル基で置換されていてもよい。
びR3 はそれぞれ置換または未置換のアルキル基であっ
て、互いに同じか異なっていてもよく、X- は過ハロゲ
ン酸イオン、トルエンスルホン酸イオンまたはアルキル
硫酸イオンであり、nは0〜3の整数であり、そしてイ
ンドレニン環の4位、5位、6位および7位のうちの少
なくとも一つにハロゲン原子が存在し、場合により他の
位置にさらにハロゲン原子が存在していてもよく、さら
に場合によりベンゼン環はアルキル基、アルコキシ基、
ヒドロキシル基、カルボキシル基、アリル基またはアル
キルカルボニル基で置換されていてもよい。
【0027】
【化8】
【0028】上記の式[8]において、A1 およびA2
はそれぞれ水素原子または置換基であり、Zは五員複素
環を形成するのに必要な原子団であり、R1 〜R4 はそ
れぞれ水素原子または置換基であり、R5 は置換基であ
るか、またはZと共に六員複素環を形成してもよく、X
- は陰イオンであり、nは0〜2の整数である。
はそれぞれ水素原子または置換基であり、Zは五員複素
環を形成するのに必要な原子団であり、R1 〜R4 はそ
れぞれ水素原子または置換基であり、R5 は置換基であ
るか、またはZと共に六員複素環を形成してもよく、X
- は陰イオンであり、nは0〜2の整数である。
【0029】
【化9】
【0030】
【化10】
【0031】
【化11】
【0032】上記の式[11]において、ΦおよびΨは
それぞれ芳香族環が縮合していてもよいインドール環残
基、チアゾール環残基、オキサゾール環残基、セレナゾ
ール環残基、イミダゾール環残基またはピリジン環残基
であり、Lはモノカルボシアニン、ジカルボシアニン、
トリカルボシアニンまたはテトラカルボシアニンを形成
するための連結基であり、X- は陰イオンであり、mは
0または1である。 ii)スクワリリウム系色素
それぞれ芳香族環が縮合していてもよいインドール環残
基、チアゾール環残基、オキサゾール環残基、セレナゾ
ール環残基、イミダゾール環残基またはピリジン環残基
であり、Lはモノカルボシアニン、ジカルボシアニン、
トリカルボシアニンまたはテトラカルボシアニンを形成
するための連結基であり、X- は陰イオンであり、mは
0または1である。 ii)スクワリリウム系色素
【0033】
【化12】
【0034】
【化13】
【0035】iii)アズレニウム系色素
【0036】
【化14】
【0037】ただし、式[14]において、R1 とR
2 、R2 とR3 、R3 とR4 、R4 とR5 、R5 とR6
およびR6 とR7 の組合せのうち少なくとも一つの組合
せで置換もしくは未置換の複素環または脂肪族環による
環を形成し、該環を形成しないときのR1 、R2 、R
3 、R4 、R5 、R6 およびR7 はそれぞれ水素原子、
ハロゲン原子、または一価の有機残基であり、あるいは
R1 とR2 、R3 とR4 、R4 とR5 、R5 とR6 およ
びR6 とR7 の組合せのうち少なくとも一つの組合せで
置換もしくは未置換の芳香族環を形成してもよく、Aは
二重結合によって結合した二価の有機残基であり、Z-
はアニオン残基である。なお、アズ8レン環を構成する
少なくとも一つの炭素原子が窒素原子に置き換えられて
アザアズレン環となっていてもよい。 iv)インドフェノール系色素
2 、R2 とR3 、R3 とR4 、R4 とR5 、R5 とR6
およびR6 とR7 の組合せのうち少なくとも一つの組合
せで置換もしくは未置換の複素環または脂肪族環による
環を形成し、該環を形成しないときのR1 、R2 、R
3 、R4 、R5 、R6 およびR7 はそれぞれ水素原子、
ハロゲン原子、または一価の有機残基であり、あるいは
R1 とR2 、R3 とR4 、R4 とR5 、R5 とR6 およ
びR6 とR7 の組合せのうち少なくとも一つの組合せで
置換もしくは未置換の芳香族環を形成してもよく、Aは
二重結合によって結合した二価の有機残基であり、Z-
はアニオン残基である。なお、アズ8レン環を構成する
少なくとも一つの炭素原子が窒素原子に置き換えられて
アザアズレン環となっていてもよい。 iv)インドフェノール系色素
【0038】
【化15】
【0039】ただし、式[15]において、X及びY
は、それぞれ水素原子、アルキル基、アシルアミノ基、
アルコキシ基またはハロゲン原子であり、R1 、R2 及
びR3はそれぞれ水素原子、C1 〜C20の置換又は未置
換のアルキル基、アリール基、複素環またはシクロヘキ
シル基であり、Aは−NHCO−または−CONH−で
ある。 v)金属錯塩系色素
は、それぞれ水素原子、アルキル基、アシルアミノ基、
アルコキシ基またはハロゲン原子であり、R1 、R2 及
びR3はそれぞれ水素原子、C1 〜C20の置換又は未置
換のアルキル基、アリール基、複素環またはシクロヘキ
シル基であり、Aは−NHCO−または−CONH−で
ある。 v)金属錯塩系色素
【0040】
【化16】
【0041】ただし、式[16]において、R1 〜R4
は、それぞれ、アルキル基またはアリール基であり、M
は二価の遷移金属原子である。
は、それぞれ、アルキル基またはアリール基であり、M
は二価の遷移金属原子である。
【0042】
【化17】
【0043】ただし、式[17]において、R1 および
R2 は、それぞれ、アルキル基またはハロゲン原子であ
り、Mは二価の遷移金属原子である。
R2 は、それぞれ、アルキル基またはハロゲン原子であ
り、Mは二価の遷移金属原子である。
【0044】
【化18】
【0045】ただし、式[18]において、R1 および
R2 は、それぞれ、置換または未置換のアルキル基また
はアリール基であり、R3 はアルキル基、ハロゲン原子
または−NR4 R5 (ここで、R4 およびR5 はそれぞ
れ、置換または未置換のアルキル基またはアリール基で
ある)であり、Mは二価の遷移金属原子であり、nは0
〜3の整数である。
R2 は、それぞれ、置換または未置換のアルキル基また
はアリール基であり、R3 はアルキル基、ハロゲン原子
または−NR4 R5 (ここで、R4 およびR5 はそれぞ
れ、置換または未置換のアルキル基またはアリール基で
ある)であり、Mは二価の遷移金属原子であり、nは0
〜3の整数である。
【0046】
【化19】
【0047】ただし、式[19]において、[Cat]
は、錯塩を中性ならしめるために必要な陽イオンであ
り、MはNi、Cu、Co、PdまたはPtであり、そ
してnは1または2である。
は、錯塩を中性ならしめるために必要な陽イオンであ
り、MはNi、Cu、Co、PdまたはPtであり、そ
してnは1または2である。
【0048】
【化20】
【0049】ただし、式[20]において、[Cat]
は、錯塩を中性ならしめるために必要な陽イオンであ
り、MはNi、Cu、Co、PdまたはPtであり、そ
してnは1または2である。
は、錯塩を中性ならしめるために必要な陽イオンであ
り、MはNi、Cu、Co、PdまたはPtであり、そ
してnは1または2である。
【0050】
【化21】
【0051】ただし、式[21]において、Xは水素原
子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、nは1
〜4の整数であり、Aは第四級アンモニウム基である。
子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、nは1
〜4の整数であり、Aは第四級アンモニウム基である。
【0052】
【化22】
【0053】ただし、式[22]において、X1 および
X2 はそれぞれ、ニロト基および/またはハロゲン原子
であり、n1 およびn2 は、それぞれ1〜3の整数であ
り、R1 およびR2 はそれぞれアミノ基、モノアルキル
アミノ基、ジアルキルアミノ基、アセチルアミノ基、ベ
ンゾイルアミノ基(置換ベンゾイルアミノ基を含む)で
あり、X1 とX2 、n1 とn2 およびR1 とR2 はそれ
ぞれ互いに同じであっても異なっていてもよく、MはC
rまたはCo原子であり、Yは水素、ナトリウム、カリ
ウム、アンモニウム、脂肪族アンモニウム(置換脂肪族
アンモニウムを含む)または脂環族アンモニウムであ
る。 vi)ナフトキノン系、アントラキノン系色素
X2 はそれぞれ、ニロト基および/またはハロゲン原子
であり、n1 およびn2 は、それぞれ1〜3の整数であ
り、R1 およびR2 はそれぞれアミノ基、モノアルキル
アミノ基、ジアルキルアミノ基、アセチルアミノ基、ベ
ンゾイルアミノ基(置換ベンゾイルアミノ基を含む)で
あり、X1 とX2 、n1 とn2 およびR1 とR2 はそれ
ぞれ互いに同じであっても異なっていてもよく、MはC
rまたはCo原子であり、Yは水素、ナトリウム、カリ
ウム、アンモニウム、脂肪族アンモニウム(置換脂肪族
アンモニウムを含む)または脂環族アンモニウムであ
る。 vi)ナフトキノン系、アントラキノン系色素
【0054】
【化23】
【0055】ただし、式[23]において、Rは水素原
子、アルキル基、アリル基、アミノオ基または置換アミ
ノ基である。
子、アルキル基、アリル基、アミノオ基または置換アミ
ノ基である。
【0056】
【化24】
【0057】ただし、式[24]において、Rは水素原
子、アルキル基、アリル基、アミノオ基または置換アミ
ノ基である。
子、アルキル基、アリル基、アミノオ基または置換アミ
ノ基である。
【0058】
【化25】
【0059】ただし、式[25]において、Rは水素原
子、アルキル基、アリル基、アミノオ基または置換アミ
ノ基である。
子、アルキル基、アリル基、アミノオ基または置換アミ
ノ基である。
【0060】
【化26】
【0061】ただし、式[26]において、Xはハロゲ
ン原子であり、nは0〜10の整数である。
ン原子であり、nは0〜10の整数である。
【0062】
【化27】
【0063】ただし、式[27]において、Xはハロゲ
ン原子である。
ン原子である。
【0064】
【化28】
【0065】これらの色素のうちで、本発明に特に好ま
しく使用することができるのはシアニン系色素である。
なお、これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合
物として用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる
場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジイ
ンモニウム系色素をクエンチャーとして一緒に用いても
よい。
しく使用することができるのはシアニン系色素である。
なお、これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合
物として用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる
場合に、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系・ジイ
ンモニウム系色素をクエンチャーとして一緒に用いても
よい。
【0066】色素記録層の形成は、上記色素、さらに所
望により少量の結合剤を溶剤に溶解して塗布液を調製
し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成
したのち乾燥することにより行なうことができる。本発
明の塗布液調製用の溶剤には、弗素を含有する化合物を
用いることが好ましい。本発明に用いられる弗素含有化
合物の例としては、弗素化アルコール、弗素置換ケト
ン、弗素置換エステル、弗素化カルボン酸、弗素置換ア
ミド、弗素置換ベンゼン、弗素化アルカンおよび弗素化
エーテルを挙げることができる。
望により少量の結合剤を溶剤に溶解して塗布液を調製
し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成
したのち乾燥することにより行なうことができる。本発
明の塗布液調製用の溶剤には、弗素を含有する化合物を
用いることが好ましい。本発明に用いられる弗素含有化
合物の例としては、弗素化アルコール、弗素置換ケト
ン、弗素置換エステル、弗素化カルボン酸、弗素置換ア
ミド、弗素置換ベンゼン、弗素化アルカンおよび弗素化
エーテルを挙げることができる。
【0067】本発明において、上記弗素含有化合物は単
独で溶剤として用いてもよいが、あるいは他の溶剤と併
用することにより混合溶剤として用いてもよい。そのよ
うな溶剤の例としては、トルエン、キシレン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチルエチル
ケトン、ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、ク
ロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒ
ドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタノー
ル、n−プロパノール、イソプロパノールおよびn−ブ
タノールなどの色素を溶解し得る溶剤を挙げることがで
きる。弗素含有化合物と他の溶剤とを混合して用いる場
合には、弗素含有化合物は溶剤全体の5〜95重量%の
範囲で使用され、好ましくは30〜90重量%の範囲で
ある。このようにして調製される塗布液の濃度は一般に
0.01〜10重量%の範囲にあり、好ましくは0.1
〜5重量%の範囲である。
独で溶剤として用いてもよいが、あるいは他の溶剤と併
用することにより混合溶剤として用いてもよい。そのよ
うな溶剤の例としては、トルエン、キシレン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチルエチル
ケトン、ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、ク
ロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒ
ドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタノー
ル、n−プロパノール、イソプロパノールおよびn−ブ
タノールなどの色素を溶解し得る溶剤を挙げることがで
きる。弗素含有化合物と他の溶剤とを混合して用いる場
合には、弗素含有化合物は溶剤全体の5〜95重量%の
範囲で使用され、好ましくは30〜90重量%の範囲で
ある。このようにして調製される塗布液の濃度は一般に
0.01〜10重量%の範囲にあり、好ましくは0.1
〜5重量%の範囲である。
【0068】結合剤を使用する場合の結合剤としては、
たとえば、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラ
ン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質、およびポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソ
ブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合
体等のビニル樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタク
リル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコー
ル、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹
脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等
の熱可塑性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子物質
を挙げることができる。
たとえば、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラ
ン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質、およびポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソ
ブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合
体等のビニル樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタク
リル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコー
ル、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹
脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等
の熱可塑性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子物質
を挙げることができる。
【0069】塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収
剤、可塑剤、滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加
してもよい。記録層は単層でも重層でもよいが、その層
厚は一般に0.01〜10μmの範囲にあり、好ましく
は0.02〜1μmno範囲である。また、記録層は基
板の片面のみならず両面に設けられていてもよい。
剤、可塑剤、滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加
してもよい。記録層は単層でも重層でもよいが、その層
厚は一般に0.01〜10μmの範囲にあり、好ましく
は0.02〜1μmno範囲である。また、記録層は基
板の片面のみならず両面に設けられていてもよい。
【0070】記録層の上には、情報の再生時におけるS
/N比の向上および記録時における感度の向上の目的で
反射層が設けられる。反射層の材料である光反射性物質
はレーザ光に対する反射率が高い物質であって、その例
としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、N
b、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、
Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pd、Cu、Ag、A
u、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、T
e、Pb、Po、Sn、Biなどの金属および半金属を
挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、
Al、CrおよびNiである。これらの物質は単独で用
いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合
金として用いてもよい。反射層は、たとえば上記光反射
性物質を原料として、蒸着、スパッタリングまたはイオ
ンプレーティングを行なうことにより記録層の上に形成
することができる。反射層の層厚は一般には100〜3
000オングストロームである。なお、反射層は基板と
記録層との間に設けられていてもよく、この場合には情
報の記録再生は記録層側(基板側とは反対の側)から行
なわれる。
/N比の向上および記録時における感度の向上の目的で
反射層が設けられる。反射層の材料である光反射性物質
はレーザ光に対する反射率が高い物質であって、その例
としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、N
b、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、
Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pd、Cu、Ag、A
u、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、T
e、Pb、Po、Sn、Biなどの金属および半金属を
挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、
Al、CrおよびNiである。これらの物質は単独で用
いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合
金として用いてもよい。反射層は、たとえば上記光反射
性物質を原料として、蒸着、スパッタリングまたはイオ
ンプレーティングを行なうことにより記録層の上に形成
することができる。反射層の層厚は一般には100〜3
000オングストロームである。なお、反射層は基板と
記録層との間に設けられていてもよく、この場合には情
報の記録再生は記録層側(基板側とは反対の側)から行
なわれる。
【0071】また記録層(または反射層)の上には、記
録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層
が設けられてもよい。この保護層は、基板の記録層が設
けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設
けられてもよい。保護層に用いられる材料の例として、
SiO、SiO2 、MgF2 、SnO2等の無機物質、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機
物質を挙げることができる。
録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層
が設けられてもよい。この保護層は、基板の記録層が設
けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設
けられてもよい。保護層に用いられる材料の例として、
SiO、SiO2 、MgF2 、SnO2等の無機物質、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機
物質を挙げることができる。
【0072】保護層は、たとえば保護層材料のプラスチ
ックの押出し加工で得られたフィルムを、接着層を介し
て記録層(あるいは反射層)の上、および/または基板
の反対側にラミネートすることにより形成することがで
きる。あるいは、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の
方法により設けてもよい。熱可塑性樹脂あるいは熱硬化
性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布
液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥すること
によっても形成することができる。UV硬化性樹脂の場
合には、そのまま、もしくは適当な溶剤に溶解して塗布
液を調製したのち、この塗布液を塗布し、UV光を照射
して硬化させることによっても形成することができる。
これらの塗布液中には、さらに帯電防止剤、酸化防止
剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加して
もよい。保護層の層厚は一般に0.1〜100μmの範
囲にある。
ックの押出し加工で得られたフィルムを、接着層を介し
て記録層(あるいは反射層)の上、および/または基板
の反対側にラミネートすることにより形成することがで
きる。あるいは、真空蒸着、スパッタリング、塗布等の
方法により設けてもよい。熱可塑性樹脂あるいは熱硬化
性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布
液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥すること
によっても形成することができる。UV硬化性樹脂の場
合には、そのまま、もしくは適当な溶剤に溶解して塗布
液を調製したのち、この塗布液を塗布し、UV光を照射
して硬化させることによっても形成することができる。
これらの塗布液中には、さらに帯電防止剤、酸化防止
剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加して
もよい。保護層の層厚は一般に0.1〜100μmの範
囲にある。
【0073】本発明の情報記録媒体は、上述した構成か
らなる単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を
有する二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わ
せ、接着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイ
プの情報記録媒体を製造することもできる。あるいはま
た、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構
成を有する基板を用いて、リング状内側スペーサとリン
グ状外側スペーサとを介して接合することにより、エア
ーサンドイッチタイプの記録情報記録媒体とすることも
できる。
らなる単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を
有する二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わ
せ、接着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイ
プの情報記録媒体を製造することもできる。あるいはま
た、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記構
成を有する基板を用いて、リング状内側スペーサとリン
グ状外側スペーサとを介して接合することにより、エア
ーサンドイッチタイプの記録情報記録媒体とすることも
できる。
【0074】
[参考例1]射出成型によってプレグルーブを設けた円
盤状のポリカーボネート基板[外形:130mm、中心
孔内径:15mm(第1図の16)、環状溝内径:33
mm(第1図の15)、環状溝外径:35.5mm(第
1図の14)、環状溝深さ:120μm(第1図の1
2)、厚さ:1.2mm、プレグルーブの深さ:120
mm(内径:15mm、厚さ:1.2mm、トラックピ
ッチ:1.6μm]を用意した。この基板上に、下記の
シアニン系色素2gを2,2,3,3−テトラフロロプ
ロピルアルコール100ccに溶解した色素記録層形成
用塗布液(濃度:2重量%)をスピンコータを用いて環
状溝外周(第1図の17)の外側に0.5mmの位置か
ら基板外周まで塗布し、次いで乾燥して、層厚600オ
ングストロームの色素記録層を形成することにより、基
板上に塗布型の色素記録層が形成された積層体(参照デ
ィスク1)を得た。 シアニン系色素
盤状のポリカーボネート基板[外形:130mm、中心
孔内径:15mm(第1図の16)、環状溝内径:33
mm(第1図の15)、環状溝外径:35.5mm(第
1図の14)、環状溝深さ:120μm(第1図の1
2)、厚さ:1.2mm、プレグルーブの深さ:120
mm(内径:15mm、厚さ:1.2mm、トラックピ
ッチ:1.6μm]を用意した。この基板上に、下記の
シアニン系色素2gを2,2,3,3−テトラフロロプ
ロピルアルコール100ccに溶解した色素記録層形成
用塗布液(濃度:2重量%)をスピンコータを用いて環
状溝外周(第1図の17)の外側に0.5mmの位置か
ら基板外周まで塗布し、次いで乾燥して、層厚600オ
ングストロームの色素記録層を形成することにより、基
板上に塗布型の色素記録層が形成された積層体(参照デ
ィスク1)を得た。 シアニン系色素
【0075】
【化29】
【0076】[実施例1]参考例1で得られた積層体の
色素記録層の上に厚さ100nmのAu層をスパッタに
より形成して、基板上に塗布型色素記録層と金属反射層
がこの順に積層された情報記録媒体(光ディスク)を得
た。
色素記録層の上に厚さ100nmのAu層をスパッタに
より形成して、基板上に塗布型色素記録層と金属反射層
がこの順に積層された情報記録媒体(光ディスク)を得
た。
【0077】[比較例1]参考例1で使用したものと同
じ色素記録層形成用塗布液をスピンコータを用いて、参
考例1で用意した基板の環状溝外周(第1図の17)の
外側に0.5mmの位置を、環状溝内周の内側に6.5
mmの位置に変えて、そこから基板外周まで塗布した以
外は参考例1の場合と同様にして、基板の上に塗布型の
色素記録層が形成された積層体(参照ディスク2)を製
造した。次いで、この積層体の色素記録層の上に厚さ1
00nmのAu層をスパッタにより形成して、基板上に
塗布型色素記録層と金属反射層がこの順に積層された情
報記録媒体(光ディスク)を得た。
じ色素記録層形成用塗布液をスピンコータを用いて、参
考例1で用意した基板の環状溝外周(第1図の17)の
外側に0.5mmの位置を、環状溝内周の内側に6.5
mmの位置に変えて、そこから基板外周まで塗布した以
外は参考例1の場合と同様にして、基板の上に塗布型の
色素記録層が形成された積層体(参照ディスク2)を製
造した。次いで、この積層体の色素記録層の上に厚さ1
00nmのAu層をスパッタにより形成して、基板上に
塗布型色素記録層と金属反射層がこの順に積層された情
報記録媒体(光ディスク)を得た。
【0078】[光ディスクの評価] (1)ジッタの評価 参考例1、実施例1そして比較例1で得られた参照ディ
スクおよび光ディスクについて、半導体レーザ(波長:
830nm)搭載の記録性能評価機(ナカミチ(株)
製)を用い、周波数2.5mHz、デューティ50%、
5m/秒の線速で二値情報の記録を3〜8mWの記録出
力で行なった。次いで、上記により記録された二値情報
を再生レーザ出力0.8mWにして再生した。出力アン
プの帯域を200kHzから20HHzにして、再生信
号のゼロクロス点の立ち上がりから立ち下がりまでの時
間を800回測定し、そのズレ(ジッタ)を測定した。
スクおよび光ディスクについて、半導体レーザ(波長:
830nm)搭載の記録性能評価機(ナカミチ(株)
製)を用い、周波数2.5mHz、デューティ50%、
5m/秒の線速で二値情報の記録を3〜8mWの記録出
力で行なった。次いで、上記により記録された二値情報
を再生レーザ出力0.8mWにして再生した。出力アン
プの帯域を200kHzから20HHzにして、再生信
号のゼロクロス点の立ち上がりから立ち下がりまでの時
間を800回測定し、そのズレ(ジッタ)を測定した。
【0079】(2)再生時のS/Nの評価 アドバンテスト社製スペクトロアナライザTR4135
を用いて再生信号のC/Nを測定した。S/Nは、使用
する機器に依存する値であることから、一般的なC/N
によって評価した。上記の各評価の結果を第1表に示
す。
を用いて再生信号のC/Nを測定した。S/Nは、使用
する機器に依存する値であることから、一般的なC/N
によって評価した。上記の各評価の結果を第1表に示
す。
【0080】
【表1】 第 1 表 ──────────────────────────────────── ジッタ(n・秒) 再生時S/N(dB) ──────────────────────────────────── 実施例1[参照ディスク1] 9[10] 54[50] ──────────────────────────────────── 比較例1[参照ディスク1] 24[25] 52[48] ────────────────────────────────────
【0081】第1表のジッタの値は、元の信号と、記録
された信号との間のズレを時間で表わした値であり、値
が小さいほど、そのズレが少ないことを意味する。上記
の結果から明らかなように、実施例の方がジッタの値は
小さく、元の信号と、記録された信号とのズレが少ない
ことが分る。従って、本発明の情報記録媒体は書き誤り
や、読み誤りがすくなく、信頼性の高い情報記録媒体で
あるということができる。そして、本発明の情報記録媒
体は反射層の付設により情報の再生時におけるC/N
(S/Nに対応)が向上することもわかる。
された信号との間のズレを時間で表わした値であり、値
が小さいほど、そのズレが少ないことを意味する。上記
の結果から明らかなように、実施例の方がジッタの値は
小さく、元の信号と、記録された信号とのズレが少ない
ことが分る。従って、本発明の情報記録媒体は書き誤り
や、読み誤りがすくなく、信頼性の高い情報記録媒体で
あるということができる。そして、本発明の情報記録媒
体は反射層の付設により情報の再生時におけるC/N
(S/Nに対応)が向上することもわかる。
【0082】
【発明の効果】本発明の情報記録媒体は、情報の書き誤
りや、読み誤りの少なく、また情報の記録時の感度が高
く、再生時のS/Nが高い追記型光情報記録媒体とな
る。
りや、読み誤りの少なく、また情報の記録時の感度が高
く、再生時のS/Nが高い追記型光情報記録媒体とな
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】射出成型により得られた内周環状溝を有する情
報記録媒体の構成の例を模式的に示す断面図である。
報記録媒体の構成の例を模式的に示す断面図である。
【図2】本発明に従う情報記録媒体の構成の例を模式的
に示す断面図である。
に示す断面図である。
11 記録領域 12 内周環状溝 13 情報記録媒体用射出成型基板 14 環状溝外径 15 環状溝内径 16 中心孔内径 17 環状溝外周 32 内周環状溝 33 情報記録媒体用射出成型基板 34 反射層 35 色素記録層
Claims (6)
- 【請求項1】 射出成型により得られた内周環状溝を有
するプラスチック基板の表面に、色素記録層が、スピン
コート法によって該基板の内周環状溝より外側に塗布形
成されており、さらにその上に反射層が付設されている
ことを特徴とする情報記録媒体。 - 【請求項2】 色素記録層の層厚0.02〜1μmの範
囲にある請求項1に記載の情報記録媒体。 - 【請求項3】 色素記録層の色素がシアニン系色素であ
る請求項1もしくは2に記載の情報記録媒体。 - 【請求項4】 色素記録層のシアニン色素が下記式
(6)を有するシアニン系色素である請求項3に記載の
情報記録媒体。 【化1】 (ただし、Rは置換または未置換のアルキル基、アルコ
キシ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素
原子またはハロゲン原子であり、Yはハロゲン、パーク
ロレート、置換または未置換のベンゼンスルホネート、
パラトルエンスルホネート、メチルスルホネート、エチ
ルスルホネート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカ
ルボキシレート、またはトリフルオロメチルカルボキシ
レートであり、nは0〜3の整数である。) - 【請求項5】 反射層の金属からなる反射層である請求
項1乃至4の内のいずれかの項に記載の情報記録媒体。 - 【請求項6】 プラスチック基板が、ポリカーボネー
ト、ポリメチルメタクリレートおよび非晶質ポリオレフ
ィンより選ばれるポリマーを材料として形成されたもの
である請求項1乃至5の内のいずれかの項に記載の情報
記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8353614A JPH09185845A (ja) | 1996-12-16 | 1996-12-16 | 情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8353614A JPH09185845A (ja) | 1996-12-16 | 1996-12-16 | 情報記録媒体 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62249366A Division JPH07118094B2 (ja) | 1987-10-02 | 1987-10-02 | 情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09185845A true JPH09185845A (ja) | 1997-07-15 |
Family
ID=18432043
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8353614A Pending JPH09185845A (ja) | 1996-12-16 | 1996-12-16 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09185845A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6743527B2 (en) | 2000-04-25 | 2004-06-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical disk, method for producing the same, and apparatus for producing the same |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59206077A (ja) * | 1983-05-10 | 1984-11-21 | Toshiba Ii M I Kk | 光学式情報記録体の保護膜コ−テイング方法 |
JPS62222449A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 情報記録媒体用基板 |
-
1996
- 1996-12-16 JP JP8353614A patent/JPH09185845A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100469218B1 (ko) * | 2000-04-25 | 2005-01-29 | 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 | 광 디스크 및 그 제조 방법 및 광 디스크의 제조 장치 |
US7047545B2 (en) | 2000-04-25 | 2006-05-16 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical disk, method for producing the same, and apparatus for producing the same |
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