JPS5920489A - 噴射メツキ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発８Ａは噴射メッキ装置１％にチーズ状の被メッキ材
の部分メッキに好適な回転ホイール利用の噴射メッキ装
置に関する。

ＩＣリードフレームの如きテープ状の被メッキ材は責金
机例えば全全部分的にメッキして施すものでろり、その
ためのメッキ装置は浸漬タイプに代えてメッキ液を噴射
して施す噴射タイプのものが採用され、被メツキ材全支
持するベースと、メッキ必要部位のみ全ｊに呈せしめる
ためのマス５りと、メッキ液全噴射するノズルとが不可
欠の要素とされ１種々の形状、構造の装置４が今迄に開
発され且つ実施化されている。その内の１つに回転ホイ
ール上ベースとして用い、被メッキ材ｔその外周面に沿
わせその外１１１１　ｋマスクでカバーし、マスクの開
孔よ５）１１呈する被メッキ材の部位にメッキ液全１＊
射して施すタイプの装置が知られている０例えば第１図
〜第３図で示す［ス）　ｌ／ツゾ電気メツヤ装置Ｊ　（
／Ｉ＃公昭５５−９０７２号公報参照）がそれで、ベー
スとなる回転ホイール１の外周面２にチーズ状の被メッ
キ材３を沿わせるようにし、その外側看：エンドレス状
のマスクバンド冬でカバーシている。回転ホイール１の
外周面２には浅溝５があシ、その中に環状のゴムクッシ
ョンＧが４人されこのゴムクッション６とマスクバンド
４とで被メッキ拐３は挾持されメッキ必要部位７のみ外
１１１１１へ向けて露呈されるようにしである。そして
、外周面２ＶＣ対して円弧状の噴射ボックス８が対峙し
て設けてあり、この噴射ボックス８の上面部にＬ「くほ
み」が形成されその中にシート状の陽極９が配置してあ
夕、　（／丁みのない恰も突出している上面部は外周面
２．具体的にはマスクバンド４．に近接しそこに円弧状
のメッキ室１０を形成している。メッキ液１１はタンク
１２内よタポンズ１３でパイプ１４ａ。

１４ｂ、１４ｃを通って噴射ｙｌ？ｌタックス両端（上
端）よりその内部の通路１５へ供給され。

複数の同心状の噴射孔１６よシ円弧状のメッキ室１０内
に流出してそこケ満たしマスクバンド４よりｔｉｒ呈し
ているメッキ必要部位７にメッキが施される。メッキ液
１１の殆どは円弧状のメッキ室１００両端（上端）よジ
外部へ溢流（オーバフロー〕しその外１１１１１　Ｋ配
置しである容器１７内に充満し１次いで２￥！流排出路
１８．１８よりパイプ１９ａ、１９ｂ、１９ｃ’ｅ経て
タンク１２に戻される。

しかしながら、このような従来の回転ホイール利用の噴
射メッキ装置は、メッキ宛１０にメッキ液１１全充満し
てメッキを行なうもので、陽極イオンを消費したメッキ
液の回収はメッキ室１０及び、容器１７に於ける液の充
満の後に溢流によってのみ行なわれるようになっていた
ため、メッキ液１１の供給時は「噴射」ヤあってもメッ
キ時はいわば「浸漬」メッキに近い状態となるので、陰
極電流密度金それ程高くできず従ってその分メッキ速度
もそれ程速くできないという不具合がある。

本発明はこのような従来の不具合に注目して開発された
回転ホイールオリ用の噴射メッキ装置に係るもので％噴
射ボックスと回転ホイールの外周面との間で液室を形成
せず液室の形成に代えて噴射ノズルを外周面めがけて突
出せしめその先端を回転ホイールの外周面に近接位置決
めすることにより従来の不具合をＭ決せんとするもので
ある。

そして具体的には、本発明に係る噴射メッキ装置はメッ
キ液全噴射して施すための噴射ボックスを、回転ホイー
ルとの間で液室音形成せぬよう、距離′ｆｃ置いて回転
ホイールの外周面に対峙せしめ、その上面部にはアノー
ド兼用の噴射ノズル全回転ホイールの外周面めがけて突
出してその先端全近接位置決めすることを要旨とし１い
る。

以下本発明の詳細を、七の一実施例１示す第４図〜第７
図に基づいて説明する。

全体がほぼボックス状の装置本体２０のやや上方にベー
スとなる回転ホイール２１が回転自在に軸支され、通常
のガイドロール２２及びカソード兼用のガイドロール２
３を介しＩＯリードフレームの如きテープ状の被メッキ
材ｚ４が装置本体２０内に導入され回転ホイール２１の
外周面２５を沿って移動自在にされて装置本体２０外へ
導出されるようにしである。゛この外周面２５には被メ
ッキ拐２４會位置決めするために環状の四部２６が形成
され、凹部２６内の被メッキ材２４の外面側にはマスク
バンド２７が遼わせである。このマスクバンド２７はｌ
Ｚｉ定式のもので両端部２８．２９が支持具３０ＫＭ脱
自在に取付けてあり、適宜なサイズ及び形状の開孔３１
全備えている。

噴射ボックス３２は全体が円弧状のもので、回転ホイー
ル２１の外周面２５に対してその間に液室を形成せぬよ
う距離１＞置いて対峙されている。噴射ボックス３２の
上面部３３には開口３４がおシそこにアノード兼用の噴
射ノズル３５が回転ホイール２１の外周面２５めがけて
突出して備えである。噴射ノズル３５の先端は外周面２
５具体的にはマスクツセンド２７の開孔３１に近接して
位置決めされ、そこにＬ不溶性のアノード３６が取付け
ておる。３７ｔｊ：０ニア７ナツト及び３８は金Ｍ製の
台座プレートで、噴射ノズル３５を噴射ボックス３２の
上面部３３に固定している。尚台座プレート３８盆通電
自在としてメインのアノード３Ｇに対するサブの第２ア
ノードとすることも可能である。又１図示せぬが噴射ボ
ックス３２内の通路３９に第２７ノー・ドを配置してお
くことも可能である。

４０鉱液面で、メッキ液４１は装置本体２０の下方をい
わばタンク部２０ａにしてお！り、＋１射ボックス３２
の下方に液面４０が来るように適宜の手段にて液面制御
される。尚、４２はヒータ、４３はポンプ、そして４４
はメッキ液供給系を示している。

次に作用を説明する。

メッキ液４１はポンプ４３にてメッキ液供給系４４を通
って噴射ボックス３２内の通路３９に供給され〔矢示Ａ
（第６図）〕、通路３９の充満と共に噴射ノズル３５よ
り噴射されて〔矢示Ｂ〕マスクバンド２７の開孔３１よ
ｐ露呈している被メッキ材２４のメッキ必要部位に触れ
る。この時アノード３６より陽極イオンが供給され、被
メッキ材２４は陰極化されているので′Ｍ、解メツメツ
キ処理なわれて例えば金メッキがメッキ必要部位に析出
形成される。

メッキ液４１は被メッキ拐２４のメッキ必要部位に対し
て、イオンを供給するのに必要にして十分なる時間（は
んの数秒であるが）そこへ留まるが瞬時にしてそこを離
れ〔矢示０〕噴射ボツクス３２の上面部−３３を越えて
下方へ落下して（矢示Ｄ　）　ｓ　タンク部２０ａに回
収される。

噴射ノズル３５全介してのメッキ液４１の噴射供給は被
メッキ材２４のメッキ必要部位近辺に激しい液の攪拌状
態を呈し、開孔３１に近接しているアノード３６よシ十
分なイオンの供給が行なわれるので良好な条件下で電解
メッキが達成され、しかもイオン消費済のメッキ液は迅
速に回収されるので陰極電流密度全相当に高くしてメッ
キ処理できることになる。尚、メッキ液４１の時間当り
の噴射量にもよるが、外周面２５と上面部３３間にメッ
キ液４１が瞬間的に留まる状態の場合には台座プレート
３８に通電して第２アノードとして作用させてもよい。

第８図は本発明の他の実施例を示す図であムこの実施例
では、ｉツクス状の装置本体２０に隣接させて別のタン
ク部５０が設けられ、装置本体２０とタンク部５０間の
隔壁５１下部に導通孔５２が形成されていて装置本体２
０の下方のタンク部２０ａから迅速にメッキ液４１の回
収ができるようにしである。

この実施例によれば、噴射ノズル３５より噴射されたメ
ッキ液４１は被メッキ拐２４のメッキ必要部位に触れた
後タンク部２０ａに留まることなく導通孔５２よルタン
ク部５０へ流れてそこに回収されることになる。尚その
他の構成及び作用については、先の実施例とほぼ同様に
つき図中同一部分を同一符号で示しｉ抜脱８Ａヲ省略す
るものである。

以上説明してきたように、本発明によれば、噴射ボック
スは回転ホイールの外周面との間に液室を形成せぬよう
距離を置いて位置決めされ且つその上面部には７ノード
兼用の噴射ノズル金回転ホイールの外周面めがけて突用
しその先端を近接位置決めした構成のものとしたので、
被メッキ材のメッキ必要部位に対しメッキエリア、イオ
ン供給に必要にしで十分なる時間のみ、留めその後は迅
速にそこよυ回収でき、折角）′なメッキ液とイオンを
消費したメッキ液との交替妙；激しい攪拌状態の下で達
成できてその分１皺極電流密度を高くでき且つメッキ処
理速度’ｔ　ａ自速くすることができるという効果がア
ク、メッキエリアもきれいにできる。そしてメッキ液の
迅速な回収のため噴射Ｓ？ツプレ全回転カｚイールの外
周面より離して位置決めするも噴射７ｊ？ツクスよフ突
出させ且つ外周面に近接配置した１只射ノズルの先端に
アノードを設けることにより被メッキ拐のメッキ必要部
位に対して近接する位置よｐアノードイオンを供給でき
るものである。

更に第８図の如き実施例によれば、メッキ液の回収、同
管理がし易く装置り本体に於ける１！Ａ身４−？プレス
の取付け、形成が容易になるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は回転ホイール使用の噴射メッキ４促置の従来例
を示す概略正面図、 第２図は第１図中の矢示ＩＩ　−１線に沿う断面図、 第３図＃′ｉ第２図中の矢示１１部の拡大断面図。 第４図は本発明の一実施例を示す概略正面図。 Ｍ５図は第４図中の矢示ｖ−ｖｉに沿う断面図、 第６図は第５図中の矢示■部の拡大断面図。 第７図は第６図中の矢示■１部の拡大断面図。 そして 第８図は本発明の他の実施例を示す第５図相当の部分断
面図である。 ２０、、、装置本体 ２１・・・回転ホイール ２４・・・被メッキ拐 ２５・・・外周面 ２７・・・マスクバンド ３１・・・開孔 ３２・・・噴射ボックス ３３°゛°上面部 ３５・・・噴射ノズル ３Ｇ・・・アノード ４０・・・液面 ４１・・・メッキ液 ４３・−・ポンプ Ａ、ｎ、Ｏ，Ｄ・・・メッキ液の流れ方向５０・・・タ
ンク部゛ 第１図 第３図 第２図 第４図 第５図 第６図 第７図 １ 第８図 １ ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 回転ホイールの外周面にマスクバンドを介してテープ状
   の被メッキ材を沿わせ、マスクバンドの開孔より外部へ
   露呈する被メッキ材のメッキ必要部位に対し、予め回−
   転ホイールの外周面に対峙して設けた噴射ボックスよｐ
   メッキ液を１ブ（射して施す噴射メッキ装置に於いて、
   上記（噴射ボックスは回転ホイールの外周面との開に液
   室を形成せぬよう距離を置いて位置決めされ且つその上
   面部にはアノード兼用の噴射ノズルを回転ホイールの外
   周面めがけて突出しその先端を近接位置決めしているこ
   と全Ｉｒξ歎とする噴射メッキ装置。