JPS621238Y2 - - Google Patents
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- JPS621238Y2 JPS621238Y2 JP200783U JP200783U JPS621238Y2 JP S621238 Y2 JPS621238 Y2 JP S621238Y2 JP 200783 U JP200783 U JP 200783U JP 200783 U JP200783 U JP 200783U JP S621238 Y2 JPS621238 Y2 JP S621238Y2
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- plating liquid
- plated
- plate
- plating
- nozzle
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- Expired
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Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はリードフレーム等の金属板に部分的メ
ツキを施すための装置の改良に関するものであ
る。
ツキを施すための装置の改良に関するものであ
る。
半導体装置用リードフレームは、半導体素子接
合部及びインナーリード部のみに金、銀等をメツ
キするのが一般的になつている。このような部分
的メツキを施すため、第１図Ａ，Ｂに概念的に示
すような装置が用いられている。即ち図に示すよ
うに、被メツキ部分と略等しい形状の複数個の開
口１ａを一列に設けた上蓋１を有する外箱２と、
この外箱２の内部にあつて前記開口１ａに向かつ
て下方からメツキ液を噴射するメツキ液噴射ノズ
ル３を備えた内箱４と、前記上蓋１の上に載置し
た被メツキ部分を規定する形状の開口５ａを有す
る例えば弾性マスク板５及びこのマスク板５の上
に載置した被メツキ材料６をマスク板５に押し付
けるための押圧板７を備えている。なお、押圧板
７には、下面に被メツキ材料６との密着を良くす
るための弾性板８が張り付けてある。この押圧板
７は図示しないエアシリンダにより上下に動作で
きるようになつている。また、内箱４はメツキ液
供給管９を介して図示しないメツキ液供給ポンプ
と連結され、外箱２はメツキ液排出管１０を介し
て図示しないメツキ液貯留槽に連結され、さらに
内箱４にはメツキ液の流れを整えるための整流板
１１が設けられている。
合部及びインナーリード部のみに金、銀等をメツ
キするのが一般的になつている。このような部分
的メツキを施すため、第１図Ａ，Ｂに概念的に示
すような装置が用いられている。即ち図に示すよ
うに、被メツキ部分と略等しい形状の複数個の開
口１ａを一列に設けた上蓋１を有する外箱２と、
この外箱２の内部にあつて前記開口１ａに向かつ
て下方からメツキ液を噴射するメツキ液噴射ノズ
ル３を備えた内箱４と、前記上蓋１の上に載置し
た被メツキ部分を規定する形状の開口５ａを有す
る例えば弾性マスク板５及びこのマスク板５の上
に載置した被メツキ材料６をマスク板５に押し付
けるための押圧板７を備えている。なお、押圧板
７には、下面に被メツキ材料６との密着を良くす
るための弾性板８が張り付けてある。この押圧板
７は図示しないエアシリンダにより上下に動作で
きるようになつている。また、内箱４はメツキ液
供給管９を介して図示しないメツキ液供給ポンプ
と連結され、外箱２はメツキ液排出管１０を介し
て図示しないメツキ液貯留槽に連結され、さらに
内箱４にはメツキ液の流れを整えるための整流板
１１が設けられている。
次に、このような装置を用いてメツキをするに
は、被メツキ材料６をマスク板５の上に正確に置
き、押圧板７を下げて被メツキ材料６をマスク板
５に押し付け、メツキ液供給ポンプを起動してメ
ツキ液を内箱４に供給し、内箱４からメツキ液が
ノズル３を介して噴射されると同時に被メツキ材
料６と不溶性陽極との間に通電するのである。こ
の場合、ノズル３が導電性であればこれを陽極と
し、被メツキ材料６は陰極とする。若しノズル３
が非導電性の場合は、ノズル３の近傍に不溶性の
陽極板又は陽極線を別に設ける。
は、被メツキ材料６をマスク板５の上に正確に置
き、押圧板７を下げて被メツキ材料６をマスク板
５に押し付け、メツキ液供給ポンプを起動してメ
ツキ液を内箱４に供給し、内箱４からメツキ液が
ノズル３を介して噴射されると同時に被メツキ材
料６と不溶性陽極との間に通電するのである。こ
の場合、ノズル３が導電性であればこれを陽極と
し、被メツキ材料６は陰極とする。若しノズル３
が非導電性の場合は、ノズル３の近傍に不溶性の
陽極板又は陽極線を別に設ける。
ところで、この装置の場合、ノズル３と被メツ
キ材料６との間が近接はしているものの多少離れ
て取付けられている。このためノズル３から噴射
されたメツキ液が上蓋１の開口１ａ及びマスク板
５の開口５ａを通つて被メツキ部分に正確に当る
かどうかは整流板１１の構造、ノズル３の形、長
さ、圧力等に左右される。例えば複数個のノズル
３から噴射されるメツキ液流量がそれぞれ同じで
あつても噴射方向がばらついていると被メツキ部
分に供給されるメツキ液量がばらつくことにな
り、複数個の被メツキ部分間でメツキ厚が同一に
ならないのみならず、同一の被メツキ部分内にお
いても局部的にメツキ厚に差が出ることになる。
即ちメツキ厚のばらつきが大きいと、必要なメツ
キ厚を確保するためには最も薄くメツキされる部
分を、この必要な厚さに合わせることになる。し
たがつて他の部分は必要以上に厚くメツキされる
こととなり、高価な貴金属を無駄に使用する結果
となる。よつて、このような事態を回避するには
整流板１１の工夫の外、ノズル３の方向の調整が
必要であるが、内箱４を外箱２中に多数個配列し
た部分メツキ装置では、この調整を行なうことは
多大の労力と時間を要し現実的ではない。
キ材料６との間が近接はしているものの多少離れ
て取付けられている。このためノズル３から噴射
されたメツキ液が上蓋１の開口１ａ及びマスク板
５の開口５ａを通つて被メツキ部分に正確に当る
かどうかは整流板１１の構造、ノズル３の形、長
さ、圧力等に左右される。例えば複数個のノズル
３から噴射されるメツキ液流量がそれぞれ同じで
あつても噴射方向がばらついていると被メツキ部
分に供給されるメツキ液量がばらつくことにな
り、複数個の被メツキ部分間でメツキ厚が同一に
ならないのみならず、同一の被メツキ部分内にお
いても局部的にメツキ厚に差が出ることになる。
即ちメツキ厚のばらつきが大きいと、必要なメツ
キ厚を確保するためには最も薄くメツキされる部
分を、この必要な厚さに合わせることになる。し
たがつて他の部分は必要以上に厚くメツキされる
こととなり、高価な貴金属を無駄に使用する結果
となる。よつて、このような事態を回避するには
整流板１１の工夫の外、ノズル３の方向の調整が
必要であるが、内箱４を外箱２中に多数個配列し
た部分メツキ装置では、この調整を行なうことは
多大の労力と時間を要し現実的ではない。
本考案は、このような従来の欠点を解消したも
ので、ノズルの調整をしなくても被メツキ部分間
及び部分内のメツキ厚のばらつきが小さくできる
よう内箱と、外箱の上蓋との間にメツキ液が充満
できるようにメツキ液噴出口の両側に沿つて堰板
を取付けるようにしたものである。以下本考案の
一実施例を図面により説明する。
ので、ノズルの調整をしなくても被メツキ部分間
及び部分内のメツキ厚のばらつきが小さくできる
よう内箱と、外箱の上蓋との間にメツキ液が充満
できるようにメツキ液噴出口の両側に沿つて堰板
を取付けるようにしたものである。以下本考案の
一実施例を図面により説明する。
第２図は本考案部分メツキ装置の一実施例を示
す概念図で、Ａ図はＢ図のＹ−Ｙ断面図、Ｂ図は
Ａ図のＸ−Ｘ断面図である。なお、第１図と同じ
部品には同一の参照符号を付した。図に示すよう
に内箱４と上蓋１の間に上端をほぼ一定間隔で凹
状に切欠いた堰板１２をノズル３の列の両側に沿
つて取付けるようにしたものである。この堰板１
２を設けることによりノズル３の上部空間に、メ
ツキ液を噴射した際、メツキ液が充満されるよう
になる。さらに堰板１２の上端部に切欠きを設け
ておくと被メツキ部分近傍空間の空気を円滑に排
出し、また充満したメツキ液を有効に撹拌される
よう或る程度メツキ液がノズル３から導入され適
当な量だけ排出させるためである。なお、堰板１
２の上端部は上蓋１に接触していない方が空気の
排出にとつて都合が良い。また、切欠きの形状は
凹状に限らず何れでも良いが、切欠きは浅く、多
数設ける方が良い。また、切欠きの代りに貫通孔
を設けても良い。そして堰板１２の切欠き乃至貫
通孔の面積及び堰板１２と上蓋１の隙間の面積は
ノズル３の全開口面積の0.5〜10倍程度にすると
良い。なお両側の堰板形状は同一にする必要はな
い。
す概念図で、Ａ図はＢ図のＹ−Ｙ断面図、Ｂ図は
Ａ図のＸ−Ｘ断面図である。なお、第１図と同じ
部品には同一の参照符号を付した。図に示すよう
に内箱４と上蓋１の間に上端をほぼ一定間隔で凹
状に切欠いた堰板１２をノズル３の列の両側に沿
つて取付けるようにしたものである。この堰板１
２を設けることによりノズル３の上部空間に、メ
ツキ液を噴射した際、メツキ液が充満されるよう
になる。さらに堰板１２の上端部に切欠きを設け
ておくと被メツキ部分近傍空間の空気を円滑に排
出し、また充満したメツキ液を有効に撹拌される
よう或る程度メツキ液がノズル３から導入され適
当な量だけ排出させるためである。なお、堰板１
２の上端部は上蓋１に接触していない方が空気の
排出にとつて都合が良い。また、切欠きの形状は
凹状に限らず何れでも良いが、切欠きは浅く、多
数設ける方が良い。また、切欠きの代りに貫通孔
を設けても良い。そして堰板１２の切欠き乃至貫
通孔の面積及び堰板１２と上蓋１の隙間の面積は
ノズル３の全開口面積の0.5〜10倍程度にすると
良い。なお両側の堰板形状は同一にする必要はな
い。
このように堰板１２を設けることによりメツキ
液噴射中、メツキ液は被メツキ材料６、マスク板
５、上蓋１、内箱４及び堰板１２で囲まれる空間
内に充満し、堰板１２の上端部と上蓋１の隙間及
び切欠きからメツキ液が排出されると共に、この
空間内に新たなメツキ液が供給され、噴出するメ
ツキ液の流速により充満したメツキ液を撹拌する
ことになる。この結果、複数個の被メツキ部分は
ノズル３の方向と正確に一致していなくても充満
し、かつ撹拌されているメツキ液に接することが
でき、被メツキ部分内及びこの部分間のばらつき
が減少する。なお、本考案においてメツキ液噴出
口はノズルに限定する必要はなく、例えば内箱４
の上蓋に複数個の開口を設けて噴出口としても良
いし、上蓋に長手方向に沿つた長方形の開口を設
けて、この開口に複数個の開口を有する陽極板を
取付けたものでも良く、またこの長方形の開口を
スリツト状に細くしたものであつても良い。
液噴射中、メツキ液は被メツキ材料６、マスク板
５、上蓋１、内箱４及び堰板１２で囲まれる空間
内に充満し、堰板１２の上端部と上蓋１の隙間及
び切欠きからメツキ液が排出されると共に、この
空間内に新たなメツキ液が供給され、噴出するメ
ツキ液の流速により充満したメツキ液を撹拌する
ことになる。この結果、複数個の被メツキ部分は
ノズル３の方向と正確に一致していなくても充満
し、かつ撹拌されているメツキ液に接することが
でき、被メツキ部分内及びこの部分間のばらつき
が減少する。なお、本考案においてメツキ液噴出
口はノズルに限定する必要はなく、例えば内箱４
の上蓋に複数個の開口を設けて噴出口としても良
いし、上蓋に長手方向に沿つた長方形の開口を設
けて、この開口に複数個の開口を有する陽極板を
取付けたものでも良く、またこの長方形の開口を
スリツト状に細くしたものであつても良い。
以上詳細に説明したように、本考案によればメ
ツキ液噴出口から噴射されるメツキ液が被メツキ
部分に正確に当らなくても差支えがないため、内
箱をそのままにして外箱の上蓋及びマスク板の開
口数、開口寸法のみを変更することが可能にな
り、仕様の異なる品種に変更する際、休止時間を
短縮できる効果もある。また、このような柔軟性
のある装置は実操業上極めて有効であり、長期間
の運転により装置本体の各部が多少変形してもマ
スク板の精度が保たれている限り正確な位置に均
一な厚さでメツキできる効果がある。
ツキ液噴出口から噴射されるメツキ液が被メツキ
部分に正確に当らなくても差支えがないため、内
箱をそのままにして外箱の上蓋及びマスク板の開
口数、開口寸法のみを変更することが可能にな
り、仕様の異なる品種に変更する際、休止時間を
短縮できる効果もある。また、このような柔軟性
のある装置は実操業上極めて有効であり、長期間
の運転により装置本体の各部が多少変形してもマ
スク板の精度が保たれている限り正確な位置に均
一な厚さでメツキできる効果がある。
第１図Ａ，Ｂは従来の部分メツキ装置の概念図
で、Ａ図はＢ図のＹ−Ｙ断面図、Ｂ図はＡ図のＸ
−Ｘ断面図、第２図Ａ，Ｂは本考案部分メツキ装
置の一実施例を示す概念図で、Ａ図はＢ図のＹ−
Ｙ断面図、Ｂ図はＡ図のＸ−Ｘ断面図である。 １……上蓋、１ａ……開口、２……外蓋、３…
…ノズル、４……内箱、５……マスク板、５ａ…
…開口、６……被メツキ材料、７……押圧板、８
……弾性板、１１……整流板、１２……堰板。
で、Ａ図はＢ図のＹ−Ｙ断面図、Ｂ図はＡ図のＸ
−Ｘ断面図、第２図Ａ，Ｂは本考案部分メツキ装
置の一実施例を示す概念図で、Ａ図はＢ図のＹ−
Ｙ断面図、Ｂ図はＡ図のＸ−Ｘ断面図である。 １……上蓋、１ａ……開口、２……外蓋、３…
…ノズル、４……内箱、５……マスク板、５ａ…
…開口、６……被メツキ材料、７……押圧板、８
……弾性板、１１……整流板、１２……堰板。
Claims (1)
- 被メツキ部分と略等しい形状の開口を複数個設
けた上蓋を有する外箱と、この外箱の内部にあつ
て下方から前記開口に向つてメツキ液を噴射する
メツキ液噴出口を備えた内箱とを有し、前記上蓋
上に被メツキ部分を規定する形状の開口を有する
マスク板と、このマスク板に被メツキ材料を押し
付けるための押圧板とを備えた部分メツキ装置に
おいて、内箱と外箱の上蓋との間にメツキ液が充
満するようにメツキ液噴出口の両側に沿つて堰板
を設けたことを特徴とする部分メツキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP200783U JPS59109773U (ja) | 1983-01-11 | 1983-01-11 | 部分メツキ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP200783U JPS59109773U (ja) | 1983-01-11 | 1983-01-11 | 部分メツキ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59109773U JPS59109773U (ja) | 1984-07-24 |
| JPS621238Y2 true JPS621238Y2 (ja) | 1987-01-13 |
Family
ID=30133706
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP200783U Granted JPS59109773U (ja) | 1983-01-11 | 1983-01-11 | 部分メツキ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59109773U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002079548A1 (fr) * | 2001-03-28 | 2002-10-10 | Fujitsu Limited | Cuve de galvanoplastie |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59126771A (ja) * | 1983-01-11 | 1984-07-21 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 部分メツキ装置 |
| JP2552476B2 (ja) * | 1987-03-19 | 1996-11-13 | ヤマハ発動機株式会社 | 高速メツキ装置 |
-
1983
- 1983-01-11 JP JP200783U patent/JPS59109773U/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002079548A1 (fr) * | 2001-03-28 | 2002-10-10 | Fujitsu Limited | Cuve de galvanoplastie |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59109773U (ja) | 1984-07-24 |
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