JPS59200926A - 光源変調型偏光二光束分光光度計 - Google Patents
光源変調型偏光二光束分光光度計Info
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- JPS59200926A JPS59200926A JP58073923A JP7392383A JPS59200926A JP S59200926 A JPS59200926 A JP S59200926A JP 58073923 A JP58073923 A JP 58073923A JP 7392383 A JP7392383 A JP 7392383A JP S59200926 A JPS59200926 A JP S59200926A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/3103—Atomic absorption analysis
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
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- G01J3/427—Dual wavelengths spectrometry
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- G01N2021/3111—Atomic absorption analysis using Zeeman split
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は試料の分析に用いられる光源褒詞型の偏光二光
束分光光度計に係り、特に、ゼーマン原子吸光用の光ｍ
ｌｌ調型偏光光光束分光光度計関するものである。
束分光光度計に係り、特に、ゼーマン原子吸光用の光ｍ
ｌｌ調型偏光光光束分光光度計関するものである。
分光光匿Ｈ↑において、光源を励起させる電力を変調し
て変調光を得ることは従来よシ行なわれておシ、このよ
うにして得られた変調光を用いることにより試料室等で
発生するノイズ成分を除去するのに効果ｆｔｈげている
。
て変調光を得ることは従来よシ行なわれておシ、このよ
うにして得られた変調光を用いることにより試料室等で
発生するノイズ成分を除去するのに効果ｆｔｈげている
。
第１図は隼号周彼奴とノイズ周波数とを比較して示す線
図である。試料室等で発生する光学的ノイズ２は比較的
周波数の低い区域で多く発生するが、光源の点灯周波数
Ｃｆｏ ）の腺１を高い周波数としであるので、光学的
には両者の周波数成分が共存していても、電気信号に変
換した後は容易に光源の周波数成分１と試料至等で発生
したノイズ２とを区別することができる。即ち、ｆｏｋ
中心とするバンドパスフィルタを用いるか、１０以上の
周波数を通過させるバイパスフィルタを用いることによ
って試料室等で発生したノイズ２０犬部分を除去できる
ので、良好なＳ／Ｎ比が得られる。しかしこれを本発明
の対象とする偏光二九束分光光度計に適用するにはもう
少し複雑な関係となる。
図である。試料室等で発生する光学的ノイズ２は比較的
周波数の低い区域で多く発生するが、光源の点灯周波数
Ｃｆｏ ）の腺１を高い周波数としであるので、光学的
には両者の周波数成分が共存していても、電気信号に変
換した後は容易に光源の周波数成分１と試料至等で発生
したノイズ２とを区別することができる。即ち、ｆｏｋ
中心とするバンドパスフィルタを用いるか、１０以上の
周波数を通過させるバイパスフィルタを用いることによ
って試料室等で発生したノイズ２０犬部分を除去できる
ので、良好なＳ／Ｎ比が得られる。しかしこれを本発明
の対象とする偏光二九束分光光度計に適用するにはもう
少し複雑な関係となる。
第２図は光源の変調とサンダル光及びレファレンス光の
切換えとが同期していない場合の信号波形図で、横軸は
時間の経過を示し、縦軸は電流量を示している。光源の
変調は縦線で示しているがこの縦線は発光強度の最大の
所を示すもので、その間には最低の所が介在している。
切換えとが同期していない場合の信号波形図で、横軸は
時間の経過を示し、縦軸は電流量を示している。光源の
変調は縦線で示しているがこの縦線は発光強度の最大の
所を示すもので、その間には最低の所が介在している。
また、十数本の縦線が揃って高低を生じていることはサ
ンプル光４とレファレンス光３，５とが交互に得られる
三光束光学系の光量を足める電流波形を示しておシ、こ
の場合の切換周波数は５０１−Ｉ Ｚ 、光源の変調層
Ｖ、数は１．４８３．３３Ｈ２に設定しであるとする。
ンプル光４とレファレンス光３，５とが交互に得られる
三光束光学系の光量を足める電流波形を示しておシ、こ
の場合の切換周波数は５０１−Ｉ Ｚ 、光源の変調層
Ｖ、数は１．４８３．３３Ｈ２に設定しであるとする。
即ち、３：８９の比率としであると仮定する。
このように設定しであるので両者の周波数の比は、従来
のように独立に設定している場合のように２つの点で整
数とはなり得ない。捷ず８．！には、どのような周波数
源を用いてもその値にはｆ士Δｆに示されるように、Δ
ｆの誤差が存在するためである。第２には、仮にある条
件で両者の周波数比が整数になっていたとしても時間的
な不安定女素のため長時間持続することができないため
である。即ち、レファレンス光３の区間では変調された
光源の発光強度の山が１５個入っているが、サンプル光
４の区間では１４個の山しか入っていない。両者の周波
数比は上記の如（３：８９に設定しであるので、レファ
レンス光３とレファレンス光５においては光源の変調周
期の１／３Ωずれがメジ、その結果として３周期毎に変
調光源との位相が一致するのでサンダル光とレファレン
ス光の切換周波数５０Ｈ２の１７３の１６．７ ＨＺ
（Ｄピートが発生する。
のように独立に設定している場合のように２つの点で整
数とはなり得ない。捷ず８．！には、どのような周波数
源を用いてもその値にはｆ士Δｆに示されるように、Δ
ｆの誤差が存在するためである。第２には、仮にある条
件で両者の周波数比が整数になっていたとしても時間的
な不安定女素のため長時間持続することができないため
である。即ち、レファレンス光３の区間では変調された
光源の発光強度の山が１５個入っているが、サンプル光
４の区間では１４個の山しか入っていない。両者の周波
数比は上記の如（３：８９に設定しであるので、レファ
レンス光３とレファレンス光５においては光源の変調周
期の１／３Ωずれがメジ、その結果として３周期毎に変
調光源との位相が一致するのでサンダル光とレファレン
ス光の切換周波数５０Ｈ２の１７３の１６．７ ＨＺ
（Ｄピートが発生する。
また、実際には両者の周波数の比３：８９は完全に安定
していないので、僅かに変動すると別のビート周波数を
発生する。例えば３：８９．１になると１０ ： ２９
７に換算されるので１／１００５Ｈ２のビートが発生す
ることになる。したがって、光源の変調とサンダル光と
レファレンス光の切換を独立に制御した場合には、必ら
ずビートが発生し、しかも現実にはそのビート周波数は
変動するために発生したビートを除去することは困難で
ある。
していないので、僅かに変動すると別のビート周波数を
発生する。例えば３：８９．１になると１０ ： ２９
７に換算されるので１／１００５Ｈ２のビートが発生す
ることになる。したがって、光源の変調とサンダル光と
レファレンス光の切換を独立に制御した場合には、必ら
ずビートが発生し、しかも現実にはそのビート周波数は
変動するために発生したビートを除去することは困難で
ある。
第３図は第２図のビートの振幅を説明する線図である。
この図は第２図の横軸を拡大してサンダル光又はレファ
レンス光の１区間１０ｍ５ｅＣの間にどれだけの発光量
を取込むことができるかを検討したものである。光源は
正弦波変調されており、１９ｍ８ｅｃの間に変調光源の
１４．８３３・・・・・・周波が取込まれているが、そ
の全体の光量は変調光源の位相に依存している。第３図
（ａ）は取込んだ光量が最大になる場合を示し、第３図
（ｂ）は取込んだ光量が最小になる場合を示す。図中に
おいて１４周周期分６，７と、０．８３３周期成分８．
９を区別しており、第３図（ａ）の０．８３３周期周期
面積は０．９９３であシ、第３図（ｂ）においては０．
８３３周期９０面積は０．６７４である。
レンス光の１区間１０ｍ５ｅＣの間にどれだけの発光量
を取込むことができるかを検討したものである。光源は
正弦波変調されており、１９ｍ８ｅｃの間に変調光源の
１４．８３３・・・・・・周波が取込まれているが、そ
の全体の光量は変調光源の位相に依存している。第３図
（ａ）は取込んだ光量が最大になる場合を示し、第３図
（ｂ）は取込んだ光量が最小になる場合を示す。図中に
おいて１４周周期分６，７と、０．８３３周期成分８．
９を区別しており、第３図（ａ）の０．８３３周期周期
面積は０．９９３であシ、第３図（ｂ）においては０．
８３３周期９０面積は０．６７４である。
しかし１周期の面積を１に規格化しているので、両者の
ｌｏｍ激間の面積比は１４，９９３対１４，６７４とな
シ、第３図（ａ）の場合の吸光庇上０とすれば第３図（
ｂ）の場合は吸光度０．００９に対応する。
ｌｏｍ激間の面積比は１４，９９３対１４，６７４とな
シ、第３図（ａ）の場合の吸光庇上０とすれば第３図（
ｂ）の場合は吸光度０．００９に対応する。
第２図では、従来法において発生するビートの周波数に
ついて検討したが、第３図の例ではビートの振幅として
０．００９の吸光度が生じ得ることか判明した。したが
って、従来法ではビートが必らず発生するため、これを
低減きせるための信号処理に大きな負担がかかつており
、測定表示値の精度は不十分であるという欠点をもって
いた〇〔発明の目的〕 本発明は上記従来技術の欠点を解消し、ビートの発生を
根本的に防止することができる光源変調型偏光三光束分
光光度計を提供することを目的とする。
ついて検討したが、第３図の例ではビートの振幅として
０．００９の吸光度が生じ得ることか判明した。したが
って、従来法ではビートが必らず発生するため、これを
低減きせるための信号処理に大きな負担がかかつており
、測定表示値の精度は不十分であるという欠点をもって
いた〇〔発明の目的〕 本発明は上記従来技術の欠点を解消し、ビートの発生を
根本的に防止することができる光源変調型偏光三光束分
光光度計を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
本発明の特徴とするところは、交流電力によって点灯さ
れる光源と、この光源より出射した光より任意の波長光
を選択する分光器と、この分光器の出射スリットと光電
変換素子との間に設置し、直交する偏光面を有する一対
の直線偏光を壁間的に分離する偏光プリズムと、この偏
光プリズムで分離した一対の直線偏光を集光して出射ス
リット像を交互に取９田す手段と、一対の直線偏光を受
光面の同一場所で検知する光電変換集子とを有し、一対
の直線偏光の光強度を比較測定するごとく構成したこと
にある。
れる光源と、この光源より出射した光より任意の波長光
を選択する分光器と、この分光器の出射スリットと光電
変換素子との間に設置し、直交する偏光面を有する一対
の直線偏光を壁間的に分離する偏光プリズムと、この偏
光プリズムで分離した一対の直線偏光を集光して出射ス
リット像を交互に取９田す手段と、一対の直線偏光を受
光面の同一場所で検知する光電変換集子とを有し、一対
の直線偏光の光強度を比較測定するごとく構成したこと
にある。
第４図は本発明の一実施例であるゼーマン効果を用いた
光源変調型偏光三光束分光光度計の外観図で、測光系１
０．データ処理装置１１、グラファイトアトマイザ電源
１２の３部よ多構成されている。−１：た、測光系１ｏ
はホローカソードラング室１３、ガス制御部１４、グラ
ファイトアトマイザ１５、分光器制御部１６及び電気回
路部１７よシ成っている。更に、データ処理装置１１は
ＣＲＴディスプレイ部１８とキーボード１９よシ成って
いるが、この他にプロッタや記録計、或いはフロッピデ
ィスク、外部コンピュータと通信するインターフェース
等を接続することも可能である。
光源変調型偏光三光束分光光度計の外観図で、測光系１
０．データ処理装置１１、グラファイトアトマイザ電源
１２の３部よ多構成されている。−１：た、測光系１ｏ
はホローカソードラング室１３、ガス制御部１４、グラ
ファイトアトマイザ１５、分光器制御部１６及び電気回
路部１７よシ成っている。更に、データ処理装置１１は
ＣＲＴディスプレイ部１８とキーボード１９よシ成って
いるが、この他にプロッタや記録計、或いはフロッピデ
ィスク、外部コンピュータと通信するインターフェース
等を接続することも可能である。
第５図は第４図の光学系統図でおる。ホローカソードラ
ンプ２０または無極放電管よ９発した光はレンズ２１で
ゼーマングラファイトアトマイザ部２２の試料原子蒸気
発生部２４に集束はせられて通過し、ミラー２５で反射
させられると共に再び集束きｎてミラー２６で反射して
分光器２７０入射スリツト２８に入射する。上記ゼーマ
ングラファイトアトマイザ部２２はグラファイト製電極
内に光を通過させる試料原子蒸気発生部２４をもってお
シ、その周囲はマダイ・ット２３ａ、２３ｂで包囲され
ている。ここで原子吸収を受けた特定波長光は分光器２
７で選択されて出射スリット３２よシ出射するが、その
間にコリメーティングミラー２９．３１及び平面回折格
子３０で反射φ回折される。
ンプ２０または無極放電管よ９発した光はレンズ２１で
ゼーマングラファイトアトマイザ部２２の試料原子蒸気
発生部２４に集束はせられて通過し、ミラー２５で反射
させられると共に再び集束きｎてミラー２６で反射して
分光器２７０入射スリツト２８に入射する。上記ゼーマ
ングラファイトアトマイザ部２２はグラファイト製電極
内に光を通過させる試料原子蒸気発生部２４をもってお
シ、その周囲はマダイ・ット２３ａ、２３ｂで包囲され
ている。ここで原子吸収を受けた特定波長光は分光器２
７で選択されて出射スリット３２よシ出射するが、その
間にコリメーティングミラー２９．３１及び平面回折格
子３０で反射φ回折される。
出射スリット３２以後はサンプル光（磁場に平行な偏光
成分）とレファレンス光（磁場と垂直な偏光成分〕を分
別する偏光光学系で、ウォラストンプリズム３３でサン
プル光とレファレンス光とに分離され、レンズ３４、ミ
ラー３５で出射スリット３２の像をテヨッグ３６上に結
像させる。このチョッパ３６はサンプル光とレファレン
ス光のいずれか一方のみを通過させるように形成しであ
るので、こ扛を通過した光は再びレンズ３８で集束され
、光電子増倍管３９の受光面の同一箇所で交互に検知さ
れる。即ち、ウォラストンプリズム３３の光束分離点の
像を受光面に結像させている。
成分）とレファレンス光（磁場と垂直な偏光成分〕を分
別する偏光光学系で、ウォラストンプリズム３３でサン
プル光とレファレンス光とに分離され、レンズ３４、ミ
ラー３５で出射スリット３２の像をテヨッグ３６上に結
像させる。このチョッパ３６はサンプル光とレファレン
ス光のいずれか一方のみを通過させるように形成しであ
るので、こ扛を通過した光は再びレンズ３８で集束され
、光電子増倍管３９の受光面の同一箇所で交互に検知さ
れる。即ち、ウォラストンプリズム３３の光束分離点の
像を受光面に結像させている。
なお、チョッパ３６ ｉｄニシンクロナスモータ３７を
用いて定速回転させている。
用いて定速回転させている。
第６図は第５図の測光電気系統図で、第５図と同じ部分
には同一符号を付しである。チョッパ３６がフォトカプ
ラ４０．４１の間隙を通過すると、サンプル光とレファ
レンス光を交互に検知すると共に、第２図に示すごとく
ホローカソードランプ２０よりの光の周波数変調を行っ
ている。このフォトカプラ４０からの信号は波形整形回
路４２を辿って１電気回路１７のＣＰＵにサンダル光か
レファレンス光かを伝える。
には同一符号を付しである。チョッパ３６がフォトカプ
ラ４０．４１の間隙を通過すると、サンプル光とレファ
レンス光を交互に検知すると共に、第２図に示すごとく
ホローカソードランプ２０よりの光の周波数変調を行っ
ている。このフォトカプラ４０からの信号は波形整形回
路４２を辿って１電気回路１７のＣＰＵにサンダル光か
レファレンス光かを伝える。
一方、フォトカプラ４１よシの信号はプリアンプ４３で
増幅した後成形整形回路４４を通シ、定′亀流回路４５
（ｌ−変調してホロ−カソードラング２０會点月する。
増幅した後成形整形回路４４を通シ、定′亀流回路４５
（ｌ−変調してホロ−カソードラング２０會点月する。
このホローカソードラング２０の光は、第５図の光学系
を通り光電子増倍管３９で電気信号に変換される。その
後プリアンプ４６で増幅され、バンドパスフィルタ４７
でホローカソードラング２０の変調周波数成分のみを通
過させ、整流回路４８、ローパスフィルタ４９を通って
ＣＰＵに入力する。
を通り光電子増倍管３９で電気信号に変換される。その
後プリアンプ４６で増幅され、バンドパスフィルタ４７
でホローカソードラング２０の変調周波数成分のみを通
過させ、整流回路４８、ローパスフィルタ４９を通って
ＣＰＵに入力する。
また、グラファイトアトマイザ電源１２は電源周波数の
電流源でめシ、チョッパ３６を回転きせるのにシンクロ
ナスモータ３７を用いているので、チョッパ３６は′電
源周波数に同期して回転している。
電流源でめシ、チョッパ３６を回転きせるのにシンクロ
ナスモータ３７を用いているので、チョッパ３６は′電
源周波数に同期して回転している。
このような電気系を採用しているので、第６図の系統は
次のような関係が成立している。電源周波ｖ、全共通の
周仮数源としてサンダル光とレファレンス光の切換え、
ホローカソードランプの変調及び試料原子蒸気発生部２
４の加熱を行っているので、この３者は同期してビート
ラ発生しない。
次のような関係が成立している。電源周波ｖ、全共通の
周仮数源としてサンダル光とレファレンス光の切換え、
ホローカソードランプの変調及び試料原子蒸気発生部２
４の加熱を行っているので、この３者は同期してビート
ラ発生しない。
したがって、ＳＺＮ比の大きな測定データが得ら扛て測
定ａ度は大幅に向上する。
定ａ度は大幅に向上する。
本災施例の偏光二光束分元光度計は、光源変調と同期し
てサンプル光とレファレンス光の切換えと試料原子魚気
発生部の加熱を行っているので、ビート１６号ケ発生す
ることはなく、Ｓ／Ｎ比は大幅に向上するという効果が
得られる。
てサンプル光とレファレンス光の切換えと試料原子魚気
発生部の加熱を行っているので、ビート１６号ケ発生す
ることはなく、Ｓ／Ｎ比は大幅に向上するという効果が
得られる。
上記夷〃１．！ｉ圀はグラファイトアトマイザを試料原
子魚気発生部として用いた場合であるが、炎光を用いた
時（１−上記グラファイトアトマイザ電源１２は勿論不
要となる。したがって、光源変調と同期してサンプル光
とレファレンス光の切換えを行えば所期の目的？達成す
ることができる。なお、この際はモータ３７はシンクロ
ナスモータでなくパルスモータを用いてもよい。
子魚気発生部として用いた場合であるが、炎光を用いた
時（１−上記グラファイトアトマイザ電源１２は勿論不
要となる。したがって、光源変調と同期してサンプル光
とレファレンス光の切換えを行えば所期の目的？達成す
ることができる。なお、この際はモータ３７はシンクロ
ナスモータでなくパルスモータを用いてもよい。
本発明の光源変調型偏光三光束分光光度計は、複数の周
波数のへ号の同期を信号発生・処理の段階で整えること
ができるので、ビートの発生を防止してＳ／Ｎ比を向上
をせ効率の良い信号処理が可能となるという効果が得ら
れる。
波数のへ号の同期を信号発生・処理の段階で整えること
ができるので、ビートの発生を防止してＳ／Ｎ比を向上
をせ効率の良い信号処理が可能となるという効果が得ら
れる。
第１図は侶号周阪数とノイズ周波数とを比較して示す線
図、第２図は光源の変調とサンダル光及びレファレンス
光の切換えが同期しない場合の信号波形図、第３図は第
２図のビートの珈幅を説明する想図、第４図は本発明の
一実施例である光源変調型二元束分光光度計の外観図、
第５図は第４図の光学系統図、第６図は第５図の測光電
気系統図である。 １・・・光源の周波数を示す線、２・・・試料室で発生
するノイズを示す曲線、３．５・・・レファレンス光、
４・・・サンプル光、６，７，８．９・・・周期成分、
１０・・・測光系、１１・・・データ処理装置、１２・
・・グラファイトアトマイザ電源、１３・・・ホローカ
ソードランプ室、１４・・・ガス制御部、１５・・・グ
ラファイトアトマイザ、１６・・・分光器制御部、１７
・・・電気回路部、１８・・・ＣＲＴディスプレイ部、
１９・・・キーホード、２０・・・ホローカソードラン
グ、２１゜３８・・・レンズ、２２・・・ゼーマングラ
ファイトアトマイザ部、２３・・・マグイツト、２４・
・・試料原子発生部、２５，２６，２９，３１．３５・
・・ミラー、２７・・・分光器、２８・・・入射スリッ
ト、３０・・・平面回折格子、３２・・・出射スリット
、３３・・・ウォラストンプリズム、３６・・・チョッ
パ、３７・・・モータ、３９・・・光電子増倍管、４０
．４１・・・フォトカブラ、４２．４４・・・波形整形
回路、４３・・・プリアンプ、４７・・・バンドパスフ
ィルタ、４８・・・整流回路、第１図 噌７図 弔３図 （α） 慴を図 １づ ／／ｂ １５ ／６ ／７
１８ １Ｌ／范５図
図、第２図は光源の変調とサンダル光及びレファレンス
光の切換えが同期しない場合の信号波形図、第３図は第
２図のビートの珈幅を説明する想図、第４図は本発明の
一実施例である光源変調型二元束分光光度計の外観図、
第５図は第４図の光学系統図、第６図は第５図の測光電
気系統図である。 １・・・光源の周波数を示す線、２・・・試料室で発生
するノイズを示す曲線、３．５・・・レファレンス光、
４・・・サンプル光、６，７，８．９・・・周期成分、
１０・・・測光系、１１・・・データ処理装置、１２・
・・グラファイトアトマイザ電源、１３・・・ホローカ
ソードランプ室、１４・・・ガス制御部、１５・・・グ
ラファイトアトマイザ、１６・・・分光器制御部、１７
・・・電気回路部、１８・・・ＣＲＴディスプレイ部、
１９・・・キーホード、２０・・・ホローカソードラン
グ、２１゜３８・・・レンズ、２２・・・ゼーマングラ
ファイトアトマイザ部、２３・・・マグイツト、２４・
・・試料原子発生部、２５，２６，２９，３１．３５・
・・ミラー、２７・・・分光器、２８・・・入射スリッ
ト、３０・・・平面回折格子、３２・・・出射スリット
、３３・・・ウォラストンプリズム、３６・・・チョッ
パ、３７・・・モータ、３９・・・光電子増倍管、４０
．４１・・・フォトカブラ、４２．４４・・・波形整形
回路、４３・・・プリアンプ、４７・・・バンドパスフ
ィルタ、４８・・・整流回路、第１図 噌７図 弔３図 （α） 慴を図 １づ ／／ｂ １５ ／６ ／７
１８ １Ｌ／范５図
Claims (1)
- １、交流電力によって点灯される光源と、この光源より
出射した光よシ任意の波長光を選択する分光器と、この
分光器の出射スリットと光電変換素子との間に設置し、
直交する偏光ｔｈ］’ｉｌ−有する一対の直線偏光を空
間的に分離する偏光プリズムと、この偏光プリズムで分
離した上記一対の直線偏光を来光して上ｄ己出射スリッ
ト像全交互に取シ出す手段と、上記一対の直線偏光を受
光面の同一場所で検知する上記光電変換素子とケ有し、
上記一対の直線偏光の光強度を比較測定するごとく構成
したことを特徴とする光諒変調型偏光二光末分元光度耐
。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58073923A JPS59200926A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | 光源変調型偏光二光束分光光度計 |
| US06/604,939 US4645341A (en) | 1983-04-28 | 1984-04-27 | Double polarized light beam spectrophotometer of light source modulation type |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58073923A JPS59200926A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | 光源変調型偏光二光束分光光度計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59200926A true JPS59200926A (ja) | 1984-11-14 |
Family
ID=13532151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58073923A Pending JPS59200926A (ja) | 1983-04-28 | 1983-04-28 | 光源変調型偏光二光束分光光度計 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4645341A (ja) |
| JP (1) | JPS59200926A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1986007448A1 (en) * | 1985-06-11 | 1986-12-18 | Grün-Optik Wetzlar Gmbh | Installation for detecting the polarized fraction of a measurement light beam |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3809212A1 (de) * | 1988-03-18 | 1989-10-05 | Bodenseewerk Perkin Elmer Co | Atomabsorptions-spektrometer |
| US5754124A (en) * | 1996-11-13 | 1998-05-19 | Pittco, Inc. | Electrical hazard warning system |
| US7354553B2 (en) * | 2005-05-02 | 2008-04-08 | Dirk Appel | Method and apparatus for detecting the presence of elemental mercury in a gas sample |
| DE102006005983A1 (de) * | 2006-02-08 | 2007-08-16 | Eisenmann Anlagenbau Gmbh & Co. Kg | Rollenbahnförderer |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1964469C3 (de) * | 1969-12-23 | 1974-05-02 | Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim | Vorrichtung zur Atomabsorptionsanalyse einer Probe |
| DE2165106C2 (de) * | 1971-01-05 | 1984-02-09 | Varian Techtron Proprietary Ltd., North Springvale, Victoria | Verfahren und Vorrichtung zur Analyse von Atomspektren |
| JPS5269378A (en) * | 1975-12-05 | 1977-06-09 | Hitachi Ltd | Magnetic optical photometer |
| JPS5436788A (en) * | 1977-08-26 | 1979-03-17 | Hitachi Ltd | Automatic analyzer |
| JPS56117149A (en) * | 1980-02-22 | 1981-09-14 | Hitachi Ltd | Zeeman atomic absorption photometer |
| US4340307A (en) * | 1980-07-07 | 1982-07-20 | Beckman Instruments, Inc. | Bichromatic spectrophotometer with wavelength reversal |
-
1983
- 1983-04-28 JP JP58073923A patent/JPS59200926A/ja active Pending
-
1984
- 1984-04-27 US US06/604,939 patent/US4645341A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1986007448A1 (en) * | 1985-06-11 | 1986-12-18 | Grün-Optik Wetzlar Gmbh | Installation for detecting the polarized fraction of a measurement light beam |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4645341A (en) | 1987-02-24 |
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