JPS5919928B2 - 新規な不飽和脂肪族アルコ−ル及びその製造法 - Google Patents
新規な不飽和脂肪族アルコ−ル及びその製造法Info
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- JPS5919928B2 JPS5919928B2 JP55126172A JP12617280A JPS5919928B2 JP S5919928 B2 JPS5919928 B2 JP S5919928B2 JP 55126172 A JP55126172 A JP 55126172A JP 12617280 A JP12617280 A JP 12617280A JP S5919928 B2 JPS5919928 B2 JP S5919928B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/32—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring increasing the number of carbon atoms by reactions without formation of -OH groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C33/00—Unsaturated compounds having hydroxy or O-metal groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C33/02—Acyclic alcohols with carbon-to-carbon double bonds
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- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な不飽和脂肪族アルコールを目的とする
。
。
また、本発明は、これらの不飽和脂肪族アルコールの製
造に関する。本発明に従う化合物は、次の一般式 (ここでnは2又は4に等しい) を有する。
造に関する。本発明に従う化合物は、次の一般式 (ここでnは2又は4に等しい) を有する。
しかして、特に本発明は
1・6・10・15−ー\キサデカテトラエン一3−オ
ール(n−2)及び1・6・10・14・18・23−
テトラコサヘキサエン一3−オール(n−4)に関する
。
ール(n−2)及び1・6・10・14・18・23−
テトラコサヘキサエン一3−オール(n−4)に関する
。
また、本発明は、ブタジエンと水を極性の中性溶媒中で
パラジウム塩とオルトほう酸B(0H)3の存在下で反
応させることを特徴とする式Aの化合物の製造方法を目
的とする。
パラジウム塩とオルトほう酸B(0H)3の存在下で反
応させることを特徴とする式Aの化合物の製造方法を目
的とする。
本発明の特別の実施態様によれば、極性の中性溶媒中で
、パラジウム塩及びオルトほう酸と同時にカルボン酸が
用いられる。
、パラジウム塩及びオルトほう酸と同時にカルボン酸が
用いられる。
なお、本発明の範囲においてカルボン酸の添加は強制的
でないことが強調されねばならない。
でないことが強調されねばならない。
それでも、これはパラジウム塩からなる触媒系の安定性
を強大させ、またn=2のアルコール(自)の選択性を
増大させるものである。パラジウム塩は、好ましくは、
式 (RlCOO)2Pd(B)のカルボン酸パラジウム、
式(R2PdRlCOO)2(0のカルボキシレート基
を持つパラジウムのアリル錯体及び式R2PdOR,D
)のパラジウムのアリル錯体よりなる群から選ばれる。
を強大させ、またn=2のアルコール(自)の選択性を
増大させるものである。パラジウム塩は、好ましくは、
式 (RlCOO)2Pd(B)のカルボン酸パラジウム、
式(R2PdRlCOO)2(0のカルボキシレート基
を持つパラジウムのアリル錯体及び式R2PdOR,D
)のパラジウムのアリル錯体よりなる群から選ばれる。
上記の各式においてR1はメチル、エチル、イソプロピ
ル、n−ブチル基のような1〜6個の炭素原子を有する
アルキル基及びフエニル、トリル、ベンジル、ナフチル
基のようなアリール基よりなる群から選ばれる基を表わ
し、そしてこれらの基は場合によつては置換されていて
よく、R2は式(ここでR3は水素原子又はR,基を表
わす)の基を表わす。
ル、n−ブチル基のような1〜6個の炭素原子を有する
アルキル基及びフエニル、トリル、ベンジル、ナフチル
基のようなアリール基よりなる群から選ばれる基を表わ
し、そしてこれらの基は場合によつては置換されていて
よく、R2は式(ここでR3は水素原子又はR,基を表
わす)の基を表わす。
本発明に従う方法で使用できるカルボン酸パラジウム(
B)の例としては酢酸パラジウム及び安息香酸パラジウ
ムをあげることができる。
B)の例としては酢酸パラジウム及び安息香酸パラジウ
ムをあげることができる。
本発明の方法で使用できるパラジウムのアリル錯体(0
の例としては、次の化合物があげられる。
の例としては、次の化合物があげられる。
錯体◎の例としては
をあげることができる。
溶媒は、好ましくはジメチルホルムアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミド、ジメチルアセトアミド及びN−
メチルピロリドンよりなる群から選ばれる。
ルホスホロトリアミド、ジメチルアセトアミド及びN−
メチルピロリドンよりなる群から選ばれる。
本発明の範囲内で場合により用いられるカルボン酸は、
次の一般式(ここでR4は場合によつては置換されてい
てもよいアルキル及びアリール基よりなる群から選ばれ
る基を表わす)を有する。
次の一般式(ここでR4は場合によつては置換されてい
てもよいアルキル及びアリール基よりなる群から選ばれ
る基を表わす)を有する。
本発明の特別の実施態様によれば、R4が1〜12個の
炭素原子を有する非環式又は環式アルキル基を表わす式
R4COOHのカルボン酸が用いられる。
炭素原子を有する非環式又は環式アルキル基を表わす式
R4COOHのカルボン酸が用いられる。
特に、式及び
の酸をあげることができる。
他の実施態様によれば、R4
が
及び
(ここでR5は水素、0H及び1〜12個の炭素原子を
有するアルキル基よりなる群から選ばれる基を表わす)
よりなる群から選ばれる基を表わす式R4COOHのカ
ルボン酸が用いられる。
有するアルキル基よりなる群から選ばれる基を表わす)
よりなる群から選ばれる基を表わす式R4COOHのカ
ルボン酸が用いられる。
特に、次の酸
及び
があげられる。
一般に、反応は、約−5℃〜約150℃の間の温度で実
施される。
施される。
温度は、カルボン酸を加えないで実施するときは、好ま
しくは約10℃〜35℃の間である。この存在下で実施
するときには、温度は好ましくは50℃〜100℃の間
である。カルボン酸を使用すると、触媒系の安定性が高
められるとともに、より高い温度での反応の使用が可能
となる。その結果として反応速度の増大、したがつてア
ルコールの生産性の増大が達成されることになる。ブタ
ジエン対水のモル比は、好ましくは約0.1〜10の間
である。
しくは約10℃〜35℃の間である。この存在下で実施
するときには、温度は好ましくは50℃〜100℃の間
である。カルボン酸を使用すると、触媒系の安定性が高
められるとともに、より高い温度での反応の使用が可能
となる。その結果として反応速度の増大、したがつてア
ルコールの生産性の増大が達成されることになる。ブタ
ジエン対水のモル比は、好ましくは約0.1〜10の間
である。
ほぼ1程度のモル比でブタジエンと水を用いることが特
に好ましい。ブタジエンのモル数対パラジウムのグラム
原子数の比は、一般に約100〜約1000の間である
。ほぼ300程度の値を用いることが好ましい。しかし
、上記の範囲よりも小さく又は大きい値を排除するわけ
ではない。なぜならば、それは反応速度に影響するが選
択性には影響しないからである。より良い選択性を得る
ためには、好ましくは、約0.1]〜約20の間の水対
ほう酸B(0H)3 のモル比で実施される。さらに好
ましくは、約2〜約10の間のH2O/ B( 0H)
3モル比が用いられる。カルボン酸のモル数対パラジウ
ムのグラム原子数の比は、好ましくは約0.5〜約20
の間である。さらに好ましくはその比は約2〜約6の間
である。本発明の方法は均質媒体中で実施するのが好ま
しい。したがつて、ほう酸は、溶解度の限界(周囲温度
で溶媒11につきほぼ250V)を越えない量で用いら
れる。しかして、ほう酸の量は、溶媒の量によつて決定
される。この溶媒の量は、ブタジエンが水−溶媒混合物
に可溶であるのに十分でなければならない。反応は一般
に自然発生圧力下で実施されるが、自然発生圧力よりも
高く又は低い圧力を本発明の範囲から排除するものであ
る。
に好ましい。ブタジエンのモル数対パラジウムのグラム
原子数の比は、一般に約100〜約1000の間である
。ほぼ300程度の値を用いることが好ましい。しかし
、上記の範囲よりも小さく又は大きい値を排除するわけ
ではない。なぜならば、それは反応速度に影響するが選
択性には影響しないからである。より良い選択性を得る
ためには、好ましくは、約0.1]〜約20の間の水対
ほう酸B(0H)3 のモル比で実施される。さらに好
ましくは、約2〜約10の間のH2O/ B( 0H)
3モル比が用いられる。カルボン酸のモル数対パラジウ
ムのグラム原子数の比は、好ましくは約0.5〜約20
の間である。さらに好ましくはその比は約2〜約6の間
である。本発明の方法は均質媒体中で実施するのが好ま
しい。したがつて、ほう酸は、溶解度の限界(周囲温度
で溶媒11につきほぼ250V)を越えない量で用いら
れる。しかして、ほう酸の量は、溶媒の量によつて決定
される。この溶媒の量は、ブタジエンが水−溶媒混合物
に可溶であるのに十分でなければならない。反応は一般
に自然発生圧力下で実施されるが、自然発生圧力よりも
高く又は低い圧力を本発明の範囲から排除するものであ
る。
反応時間は、上述の好ましい温度範囲で実施するときは
、好ましくは、約1時間から30時間である。
、好ましくは、約1時間から30時間である。
30時間以上では重質分の形成が進む。
重質分(ブタジエンのオリゴマ一、非官能性重合体、ア
ルコール官能基を持つ重合体)の形成を減少させるため
には、反応系にトリフエニルホスフインP(φ)3 の
ようなホスフィンを添加することができる。ホスフイン
は、好ましくは、P3+/Pdの原子比が約0.1〜0
.5の間であるような量で用いられる。好ましくは、こ
の比はほぼ0.25程度である。本発明の方法は、連続
式又は断続式で実施することができる。
ルコール官能基を持つ重合体)の形成を減少させるため
には、反応系にトリフエニルホスフインP(φ)3 の
ようなホスフィンを添加することができる。ホスフイン
は、好ましくは、P3+/Pdの原子比が約0.1〜0
.5の間であるような量で用いられる。好ましくは、こ
の比はほぼ0.25程度である。本発明の方法は、連続
式又は断続式で実施することができる。
式(自)に相当する生成物は、次式の飽和線状アルコー
ルに水素化することができ、又は次式の飽和線状アルコ
ールに異性化し水素化することができる。
ルに水素化することができ、又は次式の飽和線状アルコ
ールに異性化し水素化することができる。
これらの飽和線状アルコールは、生成分解性洗剤の先駆
物質である。
物質である。
また、式(自)の化合物は、次式
のケトンに変換することができ、
又は次式
のケトン異性化し水素化することができる。
本発明に従う方法は、強制的ではないが、好ましくは酸
素のない雰囲気下で実施される。本発明の他の特徴及び
利点は、下記の実施例から明らかとなろう。
素のない雰囲気下で実施される。本発明の他の特徴及び
利点は、下記の実施例から明らかとなろう。
もちろん、これらは、本発明の範囲を何ら制限するもの
ではない。例1〜8 磁気式攪拌機で駆動させたテフロン製攪拌棒によつてか
きまぜるようにした厚い壁を持つガラスチユーブに、8
0ワ(0.35ミリグラム原子のPd)の酢酸パラジウ
ムと17(16ミリモル)5のほう酸を導入し、アルゴ
ン真空系により3回パージし、続けて107のジメチル
ホルムアミド、表1に示す量の水及び4.5y(92ミ
リモル)のブタジエンを導入する。
ではない。例1〜8 磁気式攪拌機で駆動させたテフロン製攪拌棒によつてか
きまぜるようにした厚い壁を持つガラスチユーブに、8
0ワ(0.35ミリグラム原子のPd)の酢酸パラジウ
ムと17(16ミリモル)5のほう酸を導入し、アルゴ
ン真空系により3回パージし、続けて107のジメチル
ホルムアミド、表1に示す量の水及び4.5y(92ミ
リモル)のブタジエンを導入する。
20℃で24時間かきまぜる。
気相クロマトグつ ラフイ一により、下記の化合物が得
られたことが示された。これらの化合物は、当業者に周
知の全ての技術、例えば減圧蒸留のような方法によつて
分離することができる。
られたことが示された。これらの化合物は、当業者に周
知の全ての技術、例えば減圧蒸留のような方法によつて
分離することができる。
得られた結果を表1に示す。
例9〜14
例1におけるように実施するが、ただしほう酸料及び水
の量を表に示すように変える。
の量を表に示すように変える。
得られた結果を表に示す。例15〜18
例1におけるように実施するが、ただし溶媒(ジメチル
ホルムアミド)の量を107から15yに増大させ、そ
して17又は27のほう酸を表に示すようないろいろな
量の水とともに用いる。
ホルムアミド)の量を107から15yに増大させ、そ
して17又は27のほう酸を表に示すようないろいろな
量の水とともに用いる。
得られた結果を表に示す。例19〜22
H20/B(0H)3=4のモル比とともに、表に示す
各種の触媒を用いて、例1におけるように実施する。
各種の触媒を用いて、例1におけるように実施する。
得られた結果を表に示す。例23
H20/B(0H)3=4のモル比を用い、て29.6
1119のトリフエニルホスフインP弐《○〉)(O羽
3ミリグラム原子のP3+)を添加して、例1における
ように実施する。
1119のトリフエニルホスフインP弐《○〉)(O羽
3ミリグラム原子のP3+)を添加して、例1における
ように実施する。
ブタジエンの転化率は27.4%である。
次の生成物が得られた。
例24
例23におけるように実施するが、ただしトリフエニル
ホスフインに代えて57.8即のm−スルホン化トリフ
エニルホスフインP入\○2ノ (0.094ミリグラ
ム原子のP3+)を添加する。
ホスフインに代えて57.8即のm−スルホン化トリフ
エニルホスフインP入\○2ノ (0.094ミリグラ
ム原子のP3+)を添加する。
ブタジエンの転化率は3
次の生成物が得られた。
1:0.629t4.2%である。
:0.149y
:0.161y
:0.400y
例25〜27
H20/ B( 0H)3 = 4の比を用いて例1に
おけるように実施するが、ただし溶媒の性質を変える。
おけるように実施するが、ただし溶媒の性質を変える。
どの場合も10yの溶媒を用いる。結果を表vに示す。
例28〜34 H20/ B( 0H)3 = 4のモル比を用いて例
1におけるように実施するが、ただし酢酸パラジウムの
量を代える。
例28〜34 H20/ B( 0H)3 = 4のモル比を用いて例
1におけるように実施するが、ただし酢酸パラジウムの
量を代える。
結果を表に示す。例35〜37
H20/ B( 0H)3 = 4のモル比を用いて例
1におけるように実施するが、ただし温度を変える。
1におけるように実施するが、ただし温度を変える。
結果を表に示す。例38〜40
H20/B(0H)3−4のモル比を用いて例1におけ
るように実施するが、ただしブタジエンの濃度を変える
。
るように実施するが、ただしブタジエンの濃度を変える
。
結果を表に示す。例41〜50
H20/B(0H)3が2に等しいか(表にお 1いて
例41〜45)又は4に等しい(表xにおいて例46〜
50)モル比を用い、そして反応時間を変えて、例1に
おけるように実施する。
例41〜45)又は4に等しい(表xにおいて例46〜
50)モル比を用い、そして反応時間を変えて、例1に
おけるように実施する。
結果をそれぞれの表に示す。1.20y(5.34ミリ
グラム原子のPd)の酢酸パラジウムと157(242
ミリモル)のオルトほう酸を導入する。
グラム原子のPd)の酢酸パラジウムと157(242
ミリモル)のオルトほう酸を導入する。
アルゴン真空系により3回パージし、続けて164y(
:l)2メチルホルムアミド、17.64f(0.98
モル)の水及び627(1.15モル)のブタジエンを
導入する。20℃で24時間かきまぜる。
:l)2メチルホルムアミド、17.64f(0.98
モル)の水及び627(1.15モル)のブタジエンを
導入する。20℃で24時間かきまぜる。
ブタジエンの転化率は41%である。水を添加し、ほう
酸を重炭酸ナトリウムで中和した後27yの有機相を回
収する。その気相クロマトグラフイ一分析により、これ
が次の生成物を含有することが示された。T−イロ八0
a 例52〜58 磁気撹拌機によつて駆動されるテフロン製攪拌棒により
かきまぜるようにした厚い壁を持つガラスチユーブに、
80〜(0.35ミリグラム原子のPd)の酢酸パラジ
ウム、17(16ミリモル)のオルトほう酸及びH+/
Pdの原子比が2に等しいような量のカルボン酸を導入
する。
酸を重炭酸ナトリウムで中和した後27yの有機相を回
収する。その気相クロマトグラフイ一分析により、これ
が次の生成物を含有することが示された。T−イロ八0
a 例52〜58 磁気撹拌機によつて駆動されるテフロン製攪拌棒により
かきまぜるようにした厚い壁を持つガラスチユーブに、
80〜(0.35ミリグラム原子のPd)の酢酸パラジ
ウム、17(16ミリモル)のオルトほう酸及びH+/
Pdの原子比が2に等しいような量のカルボン酸を導入
する。
アルゴン真空系によつて3回パージし、続けて107の
ジメチルホルムアミド、1.2yの水(H2O/B(0
H)3モル比−4)及び4.57(92ミリモル)のブ
タジエンを導入する。
ジメチルホルムアミド、1.2yの水(H2O/B(0
H)3モル比−4)及び4.57(92ミリモル)のブ
タジエンを導入する。
25℃で24時間かきまぜる。
得られた結果を表M及びMに示す。
例59
Pd(φCOO),:0.136V(0.36ミリグラ
ム原子のPd)B(0H)3:1f ジメチルホルムアミド:9.3t H20:1.18V ブタジエン:4.6V を用いて例1におけるように実施する。
ム原子のPd)B(0H)3:1f ジメチルホルムアミド:9.3t H20:1.18V ブタジエン:4.6V を用いて例1におけるように実施する。
50℃に2時間加熱する。
ブタジエンの転化率は37,7%である。
次の生成物が得られた。
1:0.807f
:0.267f
:0.139f
:0.501f7
例60
例59におけるように実施するが、ただし50℃に16
時間加熱する。
時間加熱する。
ブタジエンの転化率は63.4%である。
次の生成物が得られた。
1:1.140f
:0.333r
:0.239t
:0.8θ6r
例61
例60におけるように実施するが、ただし、1.79r
の水を用いる。
の水を用いる。
ブタジエンの転化率は54.8%である。
次の生成物が得られた。
1:1.3251
:0.296f
:0.240f
:0.305t
例62
Pd(AcO)2:81.6η(0.36ミリグラム原
子のPd)安息香酸:88η(0.72ミリモル) B(0H)3:1f ジメチルホルムアミド:9.6r H20:1.23y ブタジエン:4.7t を用いて例1におけるように実施する。
子のPd)安息香酸:88η(0.72ミリモル) B(0H)3:1f ジメチルホルムアミド:9.6r H20:1.23y ブタジエン:4.7t を用いて例1におけるように実施する。
50℃で2時間加熱する。
ブタジエンの転化率は34%である。
次の生成物が得られた。
:0.815V
:0.206y
:0.186t
:0.335t
例63
例62におけるように実施するが、ただし1.787の
H2Oを用いる。
H2Oを用いる。
ブタジエンの転化率は21.3%である。
次の生成物が得られた。
:0.506f7
:0.1117
:0.1627
:0.1497
例64
125m1のステンレス鋼製オートクレーブ(Pd(A
cO)2:0.238y(1.06ミリグ原子のPd)
安息香酸:0.263y(2.15ミリモル)B(0H
)3:37ジメチルホルムアミド:28.5y H20:3.6V ブタジエン:167 を導入する。
cO)2:0.238y(1.06ミリグ原子のPd)
安息香酸:0.263y(2.15ミリモル)B(0H
)3:37ジメチルホルムアミド:28.5y H20:3.6V ブタジエン:167 を導入する。
かきまぜながら65℃に1時間加熱する。
ブタジエンの転化率は30.4%である。
次の生成物が得られた。
1:2.292f7
:0.6937
:0.7147
:0.9187
例65
Pd(ACO)2:0.080t(0.35ミリグ原子
のPd)安息香酸:0.187y(1.53ミリモル)
B(0H)3:17ジメチルホルムアミド:9.77 H20:1.207 ブタジエン:4.67 を用いて、例1におけるように実施する。
のPd)安息香酸:0.187y(1.53ミリモル)
B(0H)3:17ジメチルホルムアミド:9.77 H20:1.207 ブタジエン:4.67 を用いて、例1におけるように実施する。
50℃に4時間加熱する。
ブタジエンの転化率は25.8%である。
次の生成物が得られた。
:0.702y
:0.118y
:0.1597
:0.1567
例66
例65におけるように実施するが、ただし50℃に16
時間加熱する。
時間加熱する。
ブタジエンの転化率は55.6%である。
次の生成物が得られた。
:1.3337
:0.167t
:0,286y
:0.393V
例67
例66におけるように実施するが、ただし1.87の水
を用いる。
を用いる。
ブタジエンの転化率は35%である。
次の生成物が得られた。
1:0.9217
:0.087
:0.161f7
:0V
例68
例67におけるように実施するが、ただし65℃に2時
間加熱する。
間加熱する。
ブタジエンの転化率は29.1%である。
次の生成物が得られた。
1:0.757y
:0.1107
:0.193y
:0.035V
例69
Pd(AcO)2:0.162V(0.724ミリグラ
ム原子のPd)安息香酸:0.361y(2.96ミリ
モル)B(0H)3:27ジメチルホルムアミド:19
y H20:3.6y ブタジエン:10r を用いて、例におけるように実施する。
ム原子のPd)安息香酸:0.361y(2.96ミリ
モル)B(0H)3:27ジメチルホルムアミド:19
y H20:3.6y ブタジエン:10r を用いて、例におけるように実施する。
80℃に1時間加熱する。
転化率は31.4%である。
次の生成物が得られた。
1:1,59t
:0.2547
:0.5727
:0.230V
例70
例69におけるように実施するが、ただし0.II0V
(0.49ミリグラム原子のPd)の酢酸パラジウムと
0.243y( 2ミリモル)の安息香酸を用いる。
(0.49ミリグラム原子のPd)の酢酸パラジウムと
0.243y( 2ミリモル)の安息香酸を用いる。
ブタジエンの転化率は27.1%である。
次の生成物が得られた。
I: 1.196V
:0.190y
:0.335y
:0.097y
例71
Pd( AcO)2:0.166V( 0.74ミリグ
ラム原子のPd) 安息香酸:0.361V(2.96ミリモル)B( 0
H)3 :4V ジメチルホルムアミド:28.5yH2 0:7 F7 ブタジエン:11y を用いて例64におけるように実施する。
ラム原子のPd) 安息香酸:0.361V(2.96ミリモル)B( 0
H)3 :4V ジメチルホルムアミド:28.5yH2 0:7 F7 ブタジエン:11y を用いて例64におけるように実施する。
かきまぜながら95℃に30分間加熱する。
ブタジエンの転化率は44.1%である。
次の生成物が得られた。
I:1.807y
:0.413y
: 1.179f7
:0.413V
例72
例71におけるように実施するが、ただし0.152y
( 0.68ミリグラム原子のPd)の酢酸パラジウム
、0.334V( 2.73ミリモル)の安息香酸及び
14Vのブタジエンを用いる。
( 0.68ミリグラム原子のPd)の酢酸パラジウム
、0.334V( 2.73ミリモル)の安息香酸及び
14Vのブタジエンを用いる。
80℃に1時間加熱する。
ブタジエンの転化率は29.1%である。
次の生成物が得られた。
I:2.06V
:0.242V
:0.643y
:0.428y
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでnは2又は4である) の不飽和脂肪族アルコール。 2 1・6・10・15−ヘキサデカテトラエン−3−
オールである特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3 1・6・10・14・18・23−テトラコサヘキ
サエン−3−オールである特許請求の範囲第1項記載の
化合物。 4 ブタジエンと水を極性の中性溶媒中でパラジウム塩
とほう酸B(OH)_3の存在下で反応させることを特
徴とする次式▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでnは2又は4である) の不飽和脂肪族アルコールの製造方法。 5 ブタジエンと水をさらにカルボン酸の存在??に反
応させることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の
方法。 6 パラジウム塩が式(R_1COO)_2Pdのカル
??ン酸パラジウム、式(R_2PdR_1COO)_
2のカルボキシレート基を含むパラジウムのアリル錯体
及び式R_2PdOR_1のパラジウムのアリル錯体〔
上記の各式において、R_1は1〜6個の炭素原子を有
するアルキル基及びアリール基よりなる群から選ばれる
基を表わし、そしてこれらの基は場合によつては置換さ
れていてもよく、R_2は次式▲数式、化学式、表等が
あります▼(ここでR_3は水素原子又は基R_1を表
わす)の基を表わす〕よりなる群から選ばれることを特
徴とする特許請求の範囲第4項記載の方法。 7 パラジウム塩が酢酸パラジウム又は安息香酸パラジ
ウムであることを特徴とする特許請求の範囲第6項記載
の方法。 8 パラジウム塩が ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼ 及び ▲数式、化学式、表等があります▼ よりなる群から選ばれることを特徴とする特許請求の範
囲第6項記載の方法。 9 溶媒がジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスホ
ロトリアミド、ジメチルアセトアミド及びN−メチルピ
ロリドンよりなる群から選ばれることを特徴とする特許
請求の範囲第4項記載の方法。 10 カルボン酸が次の一般式 R_4COOH (ここでR_4は場合によつては置換されていてよいア
ルキル及びアリール基よりなる群から選ばれる基を表わ
す)を有することを特徴とする特許請求の範囲第5項記
載の方法。 11 R_4が1〜12個の炭素原子を有する非環式及
び環式基よりなる群から選ばれることを特徴とする特許
請求の範囲第10項記載の方法。 12 R_4が▲数式、化学式、表等があります▼又は
(CH_3)_3C−を表わすことを特徴とする特許請
求の範囲第11項記載の方法。 13 R_4が ▲数式、化学式、表等があります▼ 及び ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここでR_5は水素原子、OH及び1〜12個の炭素
原子を有するアルキル基よりなる群から選ばれる少なく
とも1個の基を表わす)よりなる群から選ばれる基を表
わすことを特徴とする特許請求の範囲第9項記載の方法
。 14 R_5が水素を表わすことを特徴とする特許請求
の範囲第13項記載の方法。15 −5℃〜150℃の
間の温度で実施することを特徴とする上記の特許請求の
範囲第4〜13項のいずれかに記載の方法。 16 ブタジエン対水のモル比が約0.1〜10の間で
あることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の方法
。 17 モル比が約1に等しいことを特徴とする特許請求
の範囲第16項記載の方法。 18 ブタジエンのモル数対パラジウムのグラム原子数
の比が約100〜約1000の間であることを特徴とす
る特許請求の範囲第4項記載の方法。 19 比が約300であることを特徴とする特許請求の
範囲第18項記載の方法。 20 水対ほう酸のモル比が約0.1〜約20の間であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の方法。 21 比が約2〜約10の間であることを特徴とする特
許請求の範囲第20項記載の方法。 22 カルボン酸のモル数対パラジウムのグラム原子数
の比が約0.5〜約20の間であることを特徴とする特
許請求の範囲第5項記載の方法。 23 比が約2〜約6の間であることを特徴とする特許
請求の範囲第22項記載の方法。 24 反応媒体中にホスフィンを導入することを特徴と
する特許請求の範囲第4〜23項のいずれかに記載の方
法。25 ホスフィンがP^3^+/Pdの原子比が約
0.1〜約0.5の間であるような量で存在することを
特徴とする特許請求の範囲第24項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7922976A FR2464934A1 (fr) | 1979-09-14 | 1979-09-14 | Nouveaux alcools gras insatures et leur procede de preparation |
FR7922976 | 1979-09-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5646827A JPS5646827A (en) | 1981-04-28 |
JPS5919928B2 true JPS5919928B2 (ja) | 1984-05-09 |
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Family Applications (1)
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---|---|
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JP (1) | JPS5919928B2 (ja) |
DE (1) | DE3060142D1 (ja) |
FR (1) | FR2464934A1 (ja) |
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JPH0322524Y2 (ja) * | 1985-08-12 | 1991-05-16 | ||
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-
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- 1980-09-01 EP EP80401245A patent/EP0025740B1/fr not_active Expired
- 1980-09-09 US US06/185,593 patent/US4424399A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-09-12 JP JP55126172A patent/JPS5919928B2/ja not_active Expired
-
1983
- 1983-06-28 US US06/508,677 patent/US4460801A/en not_active Expired - Fee Related
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