JPS5917879B2 - 電気装置用基板 - Google Patents

電気装置用基板

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Publication number
JPS5917879B2
JPS5917879B2 JP10630176A JP10630176A JPS5917879B2 JP S5917879 B2 JPS5917879 B2 JP S5917879B2 JP 10630176 A JP10630176 A JP 10630176A JP 10630176 A JP10630176 A JP 10630176A JP S5917879 B2 JPS5917879 B2 JP S5917879B2
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JP
Japan
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substrate
oxide layer
weight
electrical device
alloy
Prior art date
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Expired
Application number
JP10630176A
Other languages
English (en)
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JPS5332375A (en
Inventor
文雄 長谷
照司 関場
孝 久世
晋三 菅井
昭二 幕内
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、たとえば集積回路装置などの半導体装置や基
板上に抵抗要素を形成した感熱基板など種々の電気要素
、回路要素を形成載置するための0 電気装置用基板の
改良に関する。
従来、この種の基板にはセラミックが主として使用され
てきた。
その最大の理由は絶縁性にすぐれている点である。しか
し、セラミック基板は機械的強度、特に抗・5 折力が
弱く、また平坦度を必要とするこの種基板においては焼
成後研磨加工を施すのが通常である。
このため、金属基板の使用が考えられる。本発明はたと
えば第1図に示されるように金属基体1として、クロム
10〜26重量%、ニツケj0 ル3.5〜25重量%
、アルミニウム0.05〜7重量%、チタン0.1〜5
重量%、残部実質的に鉄よりなる合金を使用し、絶縁性
付与のため該合金基体表面に前記合金の酸化層2を形成
してなるものである。
■5 本発明基板の基体を形成する合金はオーステナイ
ト組織であるので、非磁性であり、そのインダクタンス
は小さく残留磁化がないことから電気装置用として好適
である。
また加工性にすぐれているので様々な形状に対応できる
。さらに熱伝導性ゞ0 にすぐれているので大規模な集
積回路などの熱放散性を要求される分野での使用に好適
する。この熱伝導性の良好な点は基体合金層、酸化層の
それぞれの厚さを選択することによつて熱放散性を調節
することができることを意味し、したがつて容35易に
任意の熱的特性をもつた基板を製造できる。本発明基板
の基体合金は耐食性及び耐熱性にすぐれているので電気
装置の製造、使用等における各種の環境に耐えることが
できる。4たとえば使用温度は400℃以上にても可能
であり、酸洗等の処理もできる。
また、本発明基板の基体合金はろう付性、溶接性にもす
ぐれているので電気装置の組立てに都合がよい。
さらに機械的強度も良いので、基板基体として好適であ
る。本発明基板に使用する基体合金のクロム及びニツケ
ルの含有量は上述の本発明の各種特徴を保つための必要
量から決定される。
本発明基板の基体表面酸化層は合金をたとえば大気中、
湿潤水素雰囲気中などの含酸素雰囲気で高温酸化するこ
とにより形成するのが好ましい。
この具体的条件は次の第1表に示す。酸化層はCr2O
3及びAt2O3を主体とするもので、その比抵抗は大
きく、ち密である。
したがつてすぐれた絶縁性を示す。たとえば酸化層の比
抵抗は108〜1010Ω儂に調整することができ、密
度は真比重の70%以上さらには80%以上にまで調整
できる。
この酸化層の厚さは0.005mm以上好ましくは0.
01〜0.5mmにするとよい。
この程度の厚さであれば電気装置用の基板として十分な
絶縁性が得られるとともに、金属基板としての特異性、
例えば熱伝導性を有利に利用できる。この酸化層の表面
粗度は平坦である程望ましいが、表面粗さ3μ以下程度
であれば使用可能であろう。
1μ以下ならば最も好ましい。
本発明基板のさらに特異な点はアルミニウムの一部及び
チタンの多くは基体内部酸化され、酸化層と基体との付
着強度を強固にする点にある。
このため、本発明基板は酸化層と基体との間での剥離の
可能性が無く、取扱いが容易である。本発明基板の応用
として多層化ができる。
たとえば、第2図において、3は金属層、4が酸化層で
ある。基体合金の組成限定理由は次のとおりである。
クロム及びニツケルはオーステナイト組織を形成するた
めに必要なものであり、クロムは10〜26重量%、ニ
ツケルは3.5〜25重量%とする。アルミニウムはA
t2O3なる良好な酸化物を得るために必要であり、ま
た一部が内部酸化されて基体と酸化層の付着を強固にす
る。この効果を得るにはアルミニウム量を0.05〜7
重量%にする。
チタンは内部酸化されて基体と酸化層の付着をより強固
にするために必要である。
この効果を得るには0.1〜5重量%とする。また、上
記の各成分元素のさらに好ましい範囲を次の第2表に示
す。
たとえば16Cr−14Ni−Fe系合金、18Cr−
8Ni−Fe系合金及びこれらにAt,Tiを含有する
ものは最良である。
実施例 クロム16重量%、ニツケル14重量%、アルミニウム
1.5重量%、チタン0.8重量%、残部鉄よりなる合
金を基体とし、この基体を湿潤水素雰囲気中で1250
℃にて3時間処理して基体表面に酸化層を形成した。
得られた酸化層はCr2O3及びA4O3を主体とする
絶縁性にすぐれた密度高いものであつた。また、アルミ
ニウムとチタンが内部酸化されていて、基体と酸化層と
の間は強固に付着していた。
このようにして得た基板は熱伝導性も適当で、電気装置
用として好適であつた。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明電気装置用基板の断面図であ
る。 1・・・・・・基体、2,4・・・・・・酸化層、3・
・・・・・金属層。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 クロム10〜26重量%、ニッケル3.5〜25重
    量%、アルミニウム0.05〜7重量%、チタン0.1
    〜5重量%、残部実質的に鉄からなる合金で形成された
    基体及び該基体表面に形成された前記合金酸化層とを具
    備してなる電気装置用基板。 2 酸化層はクロムの酸化物及びアルミニウムの酸化物
    が主体である特許請求の範囲第1項に記載の電気装置用
    基板。 3 酸化層の厚さは、0.005mm以上である特許請
    求の範囲第1項乃至第2項に記載の電気装置用基板。 4 酸化層の表明粗度は3μ以下である特許請求の範囲
    第1項乃至第3項に記載の電気装置用基板。 5 酸化層は高温酸化によつて形成された特許請求の範
    囲第1項乃至第4項に記載の電気装置用基板。
JP10630176A 1976-09-07 1976-09-07 電気装置用基板 Expired JPS5917879B2 (ja)

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JP10630176A JPS5917879B2 (ja) 1976-09-07 1976-09-07 電気装置用基板

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JPS5332375A JPS5332375A (en) 1978-03-27
JPS5917879B2 true JPS5917879B2 (ja) 1984-04-24

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58153752A (ja) * 1982-03-08 1983-09-12 Takeshi Masumoto Ni−Cr系合金材料
US5152337A (en) * 1989-08-30 1992-10-06 Honda Giken Kogyo Stack type evaporator

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JPS5332375A (en) 1978-03-27

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