JPS59178341A - 赤外線ガス分析装置 - Google Patents

赤外線ガス分析装置

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JPS59178341A
JPS59178341A JP5450383A JP5450383A JPS59178341A JP S59178341 A JPS59178341 A JP S59178341A JP 5450383 A JP5450383 A JP 5450383A JP 5450383 A JP5450383 A JP 5450383A JP S59178341 A JPS59178341 A JP S59178341A
Authority
JP
Japan
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measured
output
component
interference
gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP5450383A
Other languages
English (en)
Inventor
Masashi Endo
遠藤 昌司
Ryuzo Kano
龍三 加納
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Shimazu Seisakusho KK
Original Assignee
Shimadzu Corp
Shimazu Seisakusho KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp, Shimazu Seisakusho KK filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP5450383A priority Critical patent/JPS59178341A/ja
Publication of JPS59178341A publication Critical patent/JPS59178341A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/27Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
    • G01N21/274Calibration, base line adjustment, drift correction

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 この発明は、非分散赤外線ガス分析装置に関し、特に試
料ガス中に含まれる複数の測定対策ガスが互いに干渉し
合うものである場合でも、その干渉を補償して多成分を
同時に測定することができる干渉補償能付の赤外線ガス
分析装置に関する。
(ロ)従来技術 従来のこの種の装置としては、特公昭52−3597+
jに開示されたものが知られている。
しかし、この装置は上記公報にも開示されている如く、
干渉分の補償を手動で行うものであ−たので、その補償
操作が非常に煩わしくしかも時間を要するという問題が
あった。
(ハ)  目    的 この発明は、どのような問題に鑑みてなしたもので、上
記干渉分の補償を自動的に行うことができ、しかもその
処理も極めて短時間で行うことができる自動化された赤
外線ガス分析装置を提供することを目的とする。
に)杼゛を成 この発明は、前記目的を達成するため、次のような技術
的手段を構じたことを特徴とするものである。即ちこの
発明は、光学的直列関係に配置されて、それぞれ単一の
flil定対象成分出力を検出するようにされた複数個
の検出器と、測定ガスを測定セルに流しtコ時の各検出
器の出力信号を、それぞれの測定対象成分出力として記
憶する記憶手段と、単一の測定″A東酸成分ガステスト
ガスとして測定セルに流した時に検出される干渉分出力
並びに当該測定対象成分出力から、当該測定71象成分
が他の測定対象成分に及ぼす干渉割合(K値)を各測定
対象成分について算出する算出手段と、算出した上記に
値から、記憶した各測定対象成分出力に重複する他の測
定対象成分の干渉分を求め、これに基づいて、干?Ji
分が補償されtコ測定%1東成分出力を算出する補償手
段とをΦ11jえたことを特徴とするものである。
(ホ)実施例 第1図は、この発明の一実施例の概略構成図である。こ
の図において、(1)は2束の赤外線を出力する光源、
(2)は比較セル、(3)は測定セル、(31)は試料
導入口、(32)は試料排出口、(4)は周知構成のチ
ョッパー、(Dl)〜(Dn)はそ第1ぞれ異なる単一
の測定対象成分を検出するコンデンサマイクロフォンW
すm 小器、(61)〜(6n)は当該検出器出力を増
幅する増幅器、(7)は各州幅器出力を順に出力させる
マルチプレクサ、(8)は該マルチプレクサの出力をデ
ジタルカイに変換するA/D変換器、(9)はインター
フニー7、(10iハマイクロプロセ・ソサ(以下CP
Uと称す)、(11,1は不装置が測定モードにあるか
テストモードにあるかを判別させる指令キー等を含む入
力装置、(121は最終的な測定結果を表示する表示装
置、 (131はプログラムメモリ、(14)は各検出
器出力や演算結果等を記憶するメモリ(記憶手段)であ
る。
このような構成において、光隙(1)より発せられた2
東の赤外線は、比較セ/l/ (2j、試料セルL13
1.J二す4Cるセル部をrh]、l荀し、チョ ツバ
−(4)で断続的に遮光される。比較セ/L’ +2)
には、零ガス例えば窒素ガス、アルゴンガス等の不活性
ガスが別人され、測定セ/I/(3)には試料導入口(
31)からカ11定ガスが連続的にセル内に導入され、
試別排出口1 t32iより排出される。セル部を透過
した赤外線は、測定対象成分ガスの自己吸収によってエ
ネルギー減少を起こし、このエネルギー減少が各測定対
象成分用検出器(DI )〜(Dn)によりそれぞれ検
出される。各検出器(Dl)〜(Dn )の出力はそれ
ぞれ増幅器(6])〜(6n)を介してマ/レチグレク
ザ(7)に入力され、ここでC,P U uLiiから
のザンプリングパルスO))に応じて順次シリアルにA
、/、1)変換器(8)に出力される。またA/D変換
器(8)は、上記ザンブリンクパルヌ[F]に基づいて
、マルチプレクサ(7)からの出力を順次デジタル量に
変換し、これをインターフェース(9)を介してCPU
GOjに入力する。CP U tlQ)は、これらの各
検出器出力に対応するデジタ/I/量をメモIJ 、0
.41に記憶させ、これな・後述するフローチャートに
示すような所定のプログラムの実行によって実現できる
前述の算出手段と補償手段とによ−て干渉分が補償され
た測定対象成分出力に補正する。
第2図は、各測定対象成分ガスか他の測定対象成分ガス
に及ぼす干渉割合(K値)を算出するための動作フロー
を示す。まず、一定既知濃度の単一成分ガスをテストガ
スとして11111定セ/l’ +31に流し、続いて
入力装置01)を操作して当該テストガスの種類を指定
するとともに、本実施例装置をテストモードに設定する
そして、この場合のテストガスが検出器(Dl)用のも
のである時、即ち当該検出器(Dl)が検出し得る測定
対象成分ガスである時は、CPUuO)はステップ−1
のチェック結果がYESであると半旧新して、続くサブ
ル−チン(subl )で当該テストガスが他の測定対
象成分ガスに及ぼす干渉割合(K値)を算出する。また
、テストガスか検出器(D2)用のものである時は次の
ステップ−2のチェック結果かYESとな−で、今度は
次のサブル−チン(sub2’) ヲ笑行して、当該テ
ストカスが他の測定対象成分ガスに及ぼす干渉割合を算
出する。こうしてテストガスの種ツJ″」に応じて、そ
れぞれに74応するサブルーチンを実行して、各干渉ν
(1j合を算出して行く。
第3図は、かかるサブルーチン(subi)(sub 
2)  の拝礼な内容の一例を示しlコもので、ここで
はます、各検出器(D+)〜(Dn)の出力(El)〜
(En)を記憶する。この時、例えばテストガスが検出
器(Dl)P+−3のものである時は、検出器U)+)
の出力E1は、尚核ガスの成分出力となり、他の検出器
(D2)〜(Dn)の出力E2〜Elは、当該ガスがこ
れらの検出4号(D2)〜(J)n)の出力に及ぼす干
渉分出力となる。そこで、各出力(El)〜CEO)を
記憶する処理が済むと、El/E2の演算を実行して、
そのに古来を検出器(Dl)月コの テストガスが検出
器(D2)の出力に及ぼす干渉割合(K12)として記
憶する。同様にして、El/E3 、・・・・・・・・
・・・El汗nの演算を実行して、それぞれの結果を検
出器(1)1)用のテストガスが各検出器(D3)〜(
Dn)の出力に及ぼす干渉割合(K13・・・・・(ぐ
Hl)として記憶する。以下同様にして、他のサブル−
チン(s、ub 2 ) −(sub n )において
も、かかる干渉割合を算出し、これを記憶する。
以上の処理が終了すると、今度は、複数の測定対象成分
ガスが含まれる測定ガスを測定セ/I/(3)に゛流し
、続いて入力装置tillを操作して本実施例装置五を
測定モードに設定する。
第4図は、本実施例装置が測定モードに設定された時の
動作フローの一例を示す。
このモードにおいては、まず、各検出器(D+ ) 〜
(f)n)の出力(T8)1′)〜(En′)を記憶し
、続いて各出力(E+’)〜(En’)に含まれる干渉
分出力を補償するザブル−チン(subl’)・−・・
・・−・(subd)処理を実行して、干渉分のないそ
れぞれの測定対策成分出力(EMl)〜(EMn)を算
出する。
第s :i’lは、この第4図に示した上記サブル−チ
ン(sob 1′)(sob 2”) CD詳細す内容
ノー例を示したもので、ここではテストモードの時に記
憶した前述の各干渉割合を基に、各出力(El、”j〜
(Eイ)に含まれろ干渉分出力を、第5Ig1のステッ
プ−01、ステップ−02に示すような各演、算を実行
することによって求める。
続いて、各出力(E1’)〜(、Bn’)から先に求め
た干渉分出力(E2’/KlへE3’/Kl 3.−、
−、−小〕イ/に+n )′(E+′/Krr+ 、 
Ez’/に+t2.−−E (n−t5/に、+(n−
0)を減算して、干渉分のない測定対策成分出力(EM
I)〜(EMn )を算出するのである。そして、必要
に応じて求めた各測定対象成分出力をデジタル表示或は
アナログ表示させるのである。
尚、前記算出手段は、第2図、或は第3図に示す各サブ
ルーチン(sub + )・・・・・・(5ub n 
’)を実行することによって実現できるものであり、ま
た補償手段は、第4図、或は第5図に示す各−’l−フ
/l/ −f ン(sub 1”+=−(sub n”
)を実行することによって実現できるものがあるがその
手順はこれらの図に示したフローチャートに限定される
ものではなく、種々の態様のものが考慮され得る。
(へ)効果 以上説明したように、この発明は、測定対象成分出力に
含まれる干渉分出力の補償を、マイクロコンピュータで
行わせるようにしたので、上記干渉分の補償を自動的に
かつ短時間で行うことができる有用な赤外線ガス分析装
置攪を提供し得たものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例の概略構成図、第2図は
、当該実施例装置をテストモードにした時の動作の一例
を示すフローチャート、第3図は、第2図に示したサブ
ルーチン(sub+)、(sub 2 ) (7)詳f
ilTlな内容を示したフローチャート、第4図は、当
該実施例装置を測定モードにした時の動作の一例を示す
フローチャート、第5図は第4図に示したサブルーチン
(subP)。 (sub2’)の詳細な内容を示したフローチャートで
ある。 (Dl)〜(Dn)・・・・・・検出器(14)・−・
・−・・・・・・・記憶手段代理人  弁ゆ士 間 宮
 $:、藉゛′、”゛(−・ 第1図 第2図 ubn 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 3を学的直列関係に配置されて、それぞれ単一の測定対
    象成分を検出するようにされた複数個の検出器と、測定
    ガスを測定セルに流した時の各検出器の出力信号を、そ
    れぞれの測定対象成分出力として記憶する記憶手段と単
    一の測定対象成分ガスをテストガスとして1illl定
    セルに流した時に検出される干渉分出力並びに当該測定
    対象成分出力から当該測定対象成分が他の測定え1京成
    分に及ぼす干渉割合(K値)を各6111定対象成分に
    ついて算出する算出手段と、算出した上記に値から、記
    憶した各測定対象成分出力に重複する他の測定対象成分
    の干渉分を求め、これに基づいて干渉分が補償された1
    lll定対象成分京成を算出する補償手段とを備えたこ
    とを特徴とする赤外線ガス分析装置。
JP5450383A 1983-03-29 1983-03-29 赤外線ガス分析装置 Pending JPS59178341A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63234365A (ja) * 1987-03-23 1988-09-29 Asahi Optical Co Ltd フイルタリング装置
US4914720A (en) * 1986-12-04 1990-04-03 Cascadia Technology Corporation Gas analyzers
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