JPH06281607A - ガス濃度連続分析装置 - Google Patents
ガス濃度連続分析装置Info
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- JPH06281607A JPH06281607A JP5072499A JP7249993A JPH06281607A JP H06281607 A JPH06281607 A JP H06281607A JP 5072499 A JP5072499 A JP 5072499A JP 7249993 A JP7249993 A JP 7249993A JP H06281607 A JPH06281607 A JP H06281607A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 複数のガス濃度測定装置の分析装置により、
試料ガス中の複数の成分の濃度を測定しても、簡単に応
答時間を一致させることができ、補正演算値や比較デー
タ等の信頼性を高められるようにする。 【構成】 ガス濃度連続分析装置１０は、検出部１、Ｃ
ＰＵ２、記憶部３、出力部４、入力部５等で構成され、
外部分析装置６にスパンガスが導入されてからスパンガ
ス濃度の所定値（通常はフルスケールの９０％）に達す
るまでの応答時間を計測し、検出部１においてもスパン
ガスが導入されてからスパンガス濃度の所定値（通常は
フルスケールの９０％）に達するまでの応答時間を計測
し、この２つの応答時間を測定データの移動平均計算に
よって一致させる。
試料ガス中の複数の成分の濃度を測定しても、簡単に応
答時間を一致させることができ、補正演算値や比較デー
タ等の信頼性を高められるようにする。 【構成】 ガス濃度連続分析装置１０は、検出部１、Ｃ
ＰＵ２、記憶部３、出力部４、入力部５等で構成され、
外部分析装置６にスパンガスが導入されてからスパンガ
ス濃度の所定値（通常はフルスケールの９０％）に達す
るまでの応答時間を計測し、検出部１においてもスパン
ガスが導入されてからスパンガス濃度の所定値（通常は
フルスケールの９０％）に達するまでの応答時間を計測
し、この２つの応答時間を測定データの移動平均計算に
よって一致させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、試料ガス中の目的成分
の濃度を連続的に測定するガス濃度測定装置に関する。
の濃度を連続的に測定するガス濃度測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば大気中のＮＯｘ、ＣＯ、ＣＯ2 、
Ｏ2 等を連続して測定するのにガス濃度測定装置が使用
される。このガス濃度測定装置の一般的な構成の概略を
図５に示す。
Ｏ2 等を連続して測定するのにガス濃度測定装置が使用
される。このガス濃度測定装置の一般的な構成の概略を
図５に示す。
【０００３】４１は大気中の試料ガスを採取するサンプ
リングプローブ、４２はサンプリングプローブ４１で採
取された試料ガスからほこりや水分を除去する前処理部
であり、前処理部４２を経た試料ガスは切換え電磁弁で
ある三方電磁弁４５、流量計４６及び流量制御用ノズル
４７を経て分析装置４９へ導かれ、分析装置４９の検出
部でガス分析が行われる。
リングプローブ、４２はサンプリングプローブ４１で採
取された試料ガスからほこりや水分を除去する前処理部
であり、前処理部４２を経た試料ガスは切換え電磁弁で
ある三方電磁弁４５、流量計４６及び流量制御用ノズル
４７を経て分析装置４９へ導かれ、分析装置４９の検出
部でガス分析が行われる。
【０００４】三方電磁弁４５にはまた、校正用に校正ガ
スライン４４が接続されている。４８は校正ガス用ボン
ベであり、ゼロガス用またはスパンガス用のボンベを必
要に応じてつけかえられるようになっている。三方電磁
弁４５は分析装置４９の制御信号により切り換え制御が
行われ、試料ガスライン４３と校正ガスライン４４のい
ずれかが分析装置４９に接続される。
スライン４４が接続されている。４８は校正ガス用ボン
ベであり、ゼロガス用またはスパンガス用のボンベを必
要に応じてつけかえられるようになっている。三方電磁
弁４５は分析装置４９の制御信号により切り換え制御が
行われ、試料ガスライン４３と校正ガスライン４４のい
ずれかが分析装置４９に接続される。
【０００５】ガス分析を行う場合には、ゼロガスとスパ
ンガスの２種類の校正ガスにより校正を行った後、サン
プリングプローブ４１から目的のガスをサンプリング
し、濃度測定を行う。濃度測定信号は、分析装置４９の
検出部のセンサや、電気回路により何等かの応答時間が
生ずる。したがって、分析装置４９の検出部に試料ガス
が導入されてから、所定の濃度信号値に達するまでにタ
イムラグが生ずる。
ンガスの２種類の校正ガスにより校正を行った後、サン
プリングプローブ４１から目的のガスをサンプリング
し、濃度測定を行う。濃度測定信号は、分析装置４９の
検出部のセンサや、電気回路により何等かの応答時間が
生ずる。したがって、分析装置４９の検出部に試料ガス
が導入されてから、所定の濃度信号値に達するまでにタ
イムラグが生ずる。
【０００６】ところで、試料ガス中の複数の成分を別個
に測定し、濃度を検査するだけであれば問題はないが、
例えば、大気汚染防止法で定められた窒素酸化物排出基
準値等は、酸化窒素濃度や酸素濃度を用いて補正演算を
行い基準値を算出するものであるので、酸化窒素濃度検
出と酸素濃度検出の応答時間に違いがあると、対応する
同じ時間での検出値同士の演算にならず補正演算値に信
頼性がなくなってしまう。
に測定し、濃度を検査するだけであれば問題はないが、
例えば、大気汚染防止法で定められた窒素酸化物排出基
準値等は、酸化窒素濃度や酸素濃度を用いて補正演算を
行い基準値を算出するものであるので、酸化窒素濃度検
出と酸素濃度検出の応答時間に違いがあると、対応する
同じ時間での検出値同士の演算にならず補正演算値に信
頼性がなくなってしまう。
【０００７】また、複数の成分の経時変化を比較するよ
うな場合においても、個々に測定した濃度変化を単に比
較しても、応答時間に違いがあると正確に比較検討する
ことができない。
うな場合においても、個々に測定した濃度変化を単に比
較しても、応答時間に違いがあると正確に比較検討する
ことができない。
【０００８】そこで、従来試料ガス中の複数の成分の濃
度を測定し、複数成分の測定値による補正演算を行う場
合や、これら測定値の経時変化を比較する場合には、濃
度検出の応答時間の等しい上記構成の装置を２台以上揃
えて個々の成分を別個に測定し、補正演算等を行ってい
る。
度を測定し、複数成分の測定値による補正演算を行う場
合や、これら測定値の経時変化を比較する場合には、濃
度検出の応答時間の等しい上記構成の装置を２台以上揃
えて個々の成分を別個に測定し、補正演算等を行ってい
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし、応答時間の等
しい分析装置を揃えることは非常に困難なことであり、
また、製造上も応答時間が等しくなるように製造精度を
厳しく揃えることは実際上不可能なことである。本発明
は、上記課題を解決するために創案されたものであり、
複数のガス濃度測定装置により、試料ガス中の複数の成
分の濃度を測定しても、簡単に応答時間を一致させるこ
とができ、補正演算値や比較データ等の信頼性を高める
ことを目的としている。
しい分析装置を揃えることは非常に困難なことであり、
また、製造上も応答時間が等しくなるように製造精度を
厳しく揃えることは実際上不可能なことである。本発明
は、上記課題を解決するために創案されたものであり、
複数のガス濃度測定装置により、試料ガス中の複数の成
分の濃度を測定しても、簡単に応答時間を一致させるこ
とができ、補正演算値や比較データ等の信頼性を高める
ことを目的としている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のガス濃度連続分析装置は、試料ガス中の目
的成分を連続的に測定するガス濃度連続分析装置におい
て、外部のガス濃度分析装置の校正ガス導入時からの測
定信号を取り込む入力部と、測定信号を記憶する記憶部
とを備え、外部のガス濃度分析装置の校正ガス導入時か
ら所定の指示値に達するまでの応答時間と、内部のガス
濃度分析装置の校正ガス導入時から所定の指示値に達す
るまでの応答時間との差を基準として測定データの移動
平均を行うことにより、前記２つの応答時間が一致する
ようにしたことを特徴としている。
に、本発明のガス濃度連続分析装置は、試料ガス中の目
的成分を連続的に測定するガス濃度連続分析装置におい
て、外部のガス濃度分析装置の校正ガス導入時からの測
定信号を取り込む入力部と、測定信号を記憶する記憶部
とを備え、外部のガス濃度分析装置の校正ガス導入時か
ら所定の指示値に達するまでの応答時間と、内部のガス
濃度分析装置の校正ガス導入時から所定の指示値に達す
るまでの応答時間との差を基準として測定データの移動
平均を行うことにより、前記２つの応答時間が一致する
ようにしたことを特徴としている。
【００１１】
【作用】本発明のガス濃度連続分析装置に校正ガスが取
り込まれると、校正ガスが導入された時点から所定の濃
度指示値に達するまでの応答時間が計測される。
り込まれると、校正ガスが導入された時点から所定の濃
度指示値に達するまでの応答時間が計測される。
【００１２】一方、外部のガス濃度連続分析装置に校正
ガスが導入されると、この測定信号が本発明の分析装置
に伝達され、外部の分析装置に校正ガスが導入された時
点から所定の濃度指示値に達するまでの応答時間が計測
される。
ガスが導入されると、この測定信号が本発明の分析装置
に伝達され、外部の分析装置に校正ガスが導入された時
点から所定の濃度指示値に達するまでの応答時間が計測
される。
【００１３】そしてこれらの応答時間の差を基準として
移動平均を行うデータの個数が決定され、この決定され
たデータの個数でデータの移動平均を順次行うことによ
り、異なる分析装置で測定した濃度値であっても時間軸
をほぼ一致させることができる。
移動平均を行うデータの個数が決定され、この決定され
たデータの個数でデータの移動平均を順次行うことによ
り、異なる分析装置で測定した濃度値であっても時間軸
をほぼ一致させることができる。
【００１４】
【実施例】本発明の一実施例を、以下、図１に基づいて
説明する。図１に示すように、本発明のガス濃度連続分
析装置１０は、サンプリングされた測定ガスの目的成分
を連続的に測定する検出部１と、各種の制御、演算等を
行うＣＰＵ２と、外部分析装置６から測定データ等を取
り込むための入力部５と、検出部１で測定されたデータ
や、入力部５から取り込まれた外部データ等を記憶する
記憶部３と、測定データやＣＰＵ２で演算が行われたデ
ータ等を表示出力するための出力部４とにより構成され
る。
説明する。図１に示すように、本発明のガス濃度連続分
析装置１０は、サンプリングされた測定ガスの目的成分
を連続的に測定する検出部１と、各種の制御、演算等を
行うＣＰＵ２と、外部分析装置６から測定データ等を取
り込むための入力部５と、検出部１で測定されたデータ
や、入力部５から取り込まれた外部データ等を記憶する
記憶部３と、測定データやＣＰＵ２で演算が行われたデ
ータ等を表示出力するための出力部４とにより構成され
る。
【００１５】また、検出部１で検出された信号は検出部
１内のＡ／Ｄ変換器等でディジタル信号に変換されＣＰ
Ｕ２に伝達される。
１内のＡ／Ｄ変換器等でディジタル信号に変換されＣＰ
Ｕ２に伝達される。
【００１６】なお、簡略化のためにサンプリングプロー
ブや前処理部、流量制御用ノズル、試料ガスライン等は
省略してある。
ブや前処理部、流量制御用ノズル、試料ガスライン等は
省略してある。
【００１７】ガス濃度連続分析装置１０にはゼロガスと
スパンガスがガスラインを通じて接続されており、ＣＰ
Ｕ２の制御信号により電磁弁７を駆動し、これらの校正
ガスを切り換えて検出部１に導入できるようになってい
る。
スパンガスがガスラインを通じて接続されており、ＣＰ
Ｕ２の制御信号により電磁弁７を駆動し、これらの校正
ガスを切り換えて検出部１に導入できるようになってい
る。
【００１８】そこで、最初に検出部１にゼロガスを導入
し、次にスパンガスを導入するようにＣＰＵ２で電磁弁
７を切り換えたときの時点から、検出部１の出力がスパ
ンガス濃度の所定値（通常はフルスケールの９０％）に
達するまでの応答時間ｔb とスパンガス導入開始時から
指示が安定するまでに順次測定された測定値を記憶部３
に記憶させておく。
し、次にスパンガスを導入するようにＣＰＵ２で電磁弁
７を切り換えたときの時点から、検出部１の出力がスパ
ンガス濃度の所定値（通常はフルスケールの９０％）に
達するまでの応答時間ｔb とスパンガス導入開始時から
指示が安定するまでに順次測定された測定値を記憶部３
に記憶させておく。
【００１９】なお、スパンガス濃度の所定値（通常はフ
ルスケールの９０％）に達したかどうかは、測定値がス
パンガス濃度の所定値に達し、かつ測定値が安定した場
合にスパンガス濃度の所定値に達したと判断する。これ
は外部分析装置の測定においても同様である。
ルスケールの９０％）に達したかどうかは、測定値がス
パンガス濃度の所定値に達し、かつ測定値が安定した場
合にスパンガス濃度の所定値に達したと判断する。これ
は外部分析装置の測定においても同様である。
【００２０】次に、外部分析装置６からの測定信号を処
理する動作について図２のフローチャートを参照しつつ
説明する。まず、外部分析装置６の応答時間計測を行う
必要がある場合には、操作者がガス濃度連続分析装置１
０のコンソールのキー入力または、スイッチ等により応
答時間計測を行うことを設定しておく。また外部分析装
置には、校正ガスとしてゼロガスとスパンガスとが接続
されており、いつでも外部分析装置６の検出部に導入で
きるようになっている。そして、０点あるいは基準点を
定めるために外部分析装置６の検出部にゼロガスを導入
してゼロ校正した後、スパンガスを導入することにより
スパン校正して所定濃度における指示値を測定する。
理する動作について図２のフローチャートを参照しつつ
説明する。まず、外部分析装置６の応答時間計測を行う
必要がある場合には、操作者がガス濃度連続分析装置１
０のコンソールのキー入力または、スイッチ等により応
答時間計測を行うことを設定しておく。また外部分析装
置には、校正ガスとしてゼロガスとスパンガスとが接続
されており、いつでも外部分析装置６の検出部に導入で
きるようになっている。そして、０点あるいは基準点を
定めるために外部分析装置６の検出部にゼロガスを導入
してゼロ校正した後、スパンガスを導入することにより
スパン校正して所定濃度における指示値を測定する。
【００２１】さて、ＳＴ１では、外部分析装置６の応答
時間計測を行うか否かを判別し、先の指示に従って行う
と判断した場合には、次のＳＴ２に進み外部分析装置６
の導入ガスがゼロガスからスパンガスに切り換えられた
かどうかを判断する。
時間計測を行うか否かを判別し、先の指示に従って行う
と判断した場合には、次のＳＴ２に進み外部分析装置６
の導入ガスがゼロガスからスパンガスに切り換えられた
かどうかを判断する。
【００２２】そして、外部分析装置６の導入ガスが制御
部の制御信号により電磁弁が操作され、ゼロガスからス
パンガスに切り換えられた場合には、その切り換え信号
が入力部５を介してＣＰＵ２に伝えられるので、ＳＴ２
ではゼロガスからスパンガスに切り換えられたと判断
し、ＳＴ３に進み外部分析装置６の検出部の応答時間を
計測する。
部の制御信号により電磁弁が操作され、ゼロガスからス
パンガスに切り換えられた場合には、その切り換え信号
が入力部５を介してＣＰＵ２に伝えられるので、ＳＴ２
ではゼロガスからスパンガスに切り換えられたと判断
し、ＳＴ３に進み外部分析装置６の検出部の応答時間を
計測する。
【００２３】外部分析装置６の検出部の応答時間は、前
述したガス濃度連続分析装置１０において行ったと同様
に、制御部により電磁弁がゼロガスからスパンガスに切
り換えられたときの時点から検出部の出力がスパンガス
濃度の所定値（通常はフルスケールの９０％）に達する
までの応答時間ｔa とスパンガス導入開始時から指示が
安定するまでに順次測定された測定値を記憶部３に記憶
する。
述したガス濃度連続分析装置１０において行ったと同様
に、制御部により電磁弁がゼロガスからスパンガスに切
り換えられたときの時点から検出部の出力がスパンガス
濃度の所定値（通常はフルスケールの９０％）に達する
までの応答時間ｔa とスパンガス導入開始時から指示が
安定するまでに順次測定された測定値を記憶部３に記憶
する。
【００２４】ＳＴ４では、ガス濃度連続分析装置１０の
検出部１における応答時間ｔb と、外部分析装置６の検
出部の応答時間ｔa との差ｔd を求め、記憶部３に記憶
させておく。
検出部１における応答時間ｔb と、外部分析装置６の検
出部の応答時間ｔa との差ｔd を求め、記憶部３に記憶
させておく。
【００２５】次に、試料ガスの目的の成分濃度を求める
とともに、ガス濃度連続分析装置１０の検出部１と外部
分析装置６の検出部との応答時間を一致させたい場合に
は、操作者は、スイッチまたはキー入力で外部分析装置
６の応答時間計測を行わないように設定し、応答時間を
一致させる処理を行うように設定しておけば、図２
（ｂ）のルーチンが開始され（ＳＴ５）、ＳＴ１〜ＳＴ
４で求めたガス濃度連続分析装置１０の検出部１におけ
る応答時間ｔb と、外部分析装置６の検出部の応答時間
ｔa との差ｔd の時間分の移動平均計算を入力部５から
取り込まれる外部分析装置６の検出部の検出値より求め
ていく（ＳＴ６）。
とともに、ガス濃度連続分析装置１０の検出部１と外部
分析装置６の検出部との応答時間を一致させたい場合に
は、操作者は、スイッチまたはキー入力で外部分析装置
６の応答時間計測を行わないように設定し、応答時間を
一致させる処理を行うように設定しておけば、図２
（ｂ）のルーチンが開始され（ＳＴ５）、ＳＴ１〜ＳＴ
４で求めたガス濃度連続分析装置１０の検出部１におけ
る応答時間ｔb と、外部分析装置６の検出部の応答時間
ｔa との差ｔd の時間分の移動平均計算を入力部５から
取り込まれる外部分析装置６の検出部の検出値より求め
ていく（ＳＴ６）。
【００２６】すべての外部分析装置６の測定データに対
して移動平均処理が終われば、これらの処理を終了す
る。
して移動平均処理が終われば、これらの処理を終了す
る。
【００２７】上述の外部分析装置６の検出部の応答時間
との差ｔd の時間分の移動平均計算について説明する。
例えば、外部分析装置６の検出部のスパンガス導入開始
時刻ｔ1 からスパンガス濃度の所定値（通常はフルスケ
ールの９０％）に達するまでの応答時間データが図３
（ａ）のような特性を示し、内部検出部１のスパンガス
導入開始時刻ｔ0 からスパンガス濃度の所定値（通常は
フルスケールの９０％）に達するまでの応答時間データ
が図３（ｂ）のような特性を示しているとする。この場
合、内部検出部１の応答時間が、外部分析装置６の検出
部の応答時間よりｔd の時間分大きく、この時間間隔ｔ
d に含まれる外部分析装置６のサンプリングデータ個数
Ｎを求める。
との差ｔd の時間分の移動平均計算について説明する。
例えば、外部分析装置６の検出部のスパンガス導入開始
時刻ｔ1 からスパンガス濃度の所定値（通常はフルスケ
ールの９０％）に達するまでの応答時間データが図３
（ａ）のような特性を示し、内部検出部１のスパンガス
導入開始時刻ｔ0 からスパンガス濃度の所定値（通常は
フルスケールの９０％）に達するまでの応答時間データ
が図３（ｂ）のような特性を示しているとする。この場
合、内部検出部１の応答時間が、外部分析装置６の検出
部の応答時間よりｔd の時間分大きく、この時間間隔ｔ
d に含まれる外部分析装置６のサンプリングデータ個数
Ｎを求める。
【００２８】そして、外部分析装置６の検出部の試料ガ
スの検出データに対して試料ガス導入時点からＮ個のデ
ータの平均値を求めて１つの測定値とし、この平均値を
前記Ｎ個のデータの最後のデータ位置に置き換える。次
に時間的にデータを１個ずらせてふたたびＮ個のデータ
の平均値を求めこれを次の測定値とし、ずらせたＮ個の
データの最後のデータ位置に置き換える。すべての測定
データにこの過程を繰り返していく。
スの検出データに対して試料ガス導入時点からＮ個のデ
ータの平均値を求めて１つの測定値とし、この平均値を
前記Ｎ個のデータの最後のデータ位置に置き換える。次
に時間的にデータを１個ずらせてふたたびＮ個のデータ
の平均値を求めこれを次の測定値とし、ずらせたＮ個の
データの最後のデータ位置に置き換える。すべての測定
データにこの過程を繰り返していく。
【００２９】例えば図３（ａ）の応答時間データを通常
の測定値データとみなして上述の移動平均処理を行う
と、最初にｔ1 の時点から応答時間差ｔd に含まれるＮ
個の検出データの平均値を求め、次に時間的にデータを
１個ずらせてＮ個のデータの平均値を求め、この過程を
繰り返すと、図３（ｂ）のように内部検出部１の時間軸
と一致するようになる。したがって移動平均を行うデー
タの個数すなわち時間を調整することにより、応答時間
を変えることができる。
の測定値データとみなして上述の移動平均処理を行う
と、最初にｔ1 の時点から応答時間差ｔd に含まれるＮ
個の検出データの平均値を求め、次に時間的にデータを
１個ずらせてＮ個のデータの平均値を求め、この過程を
繰り返すと、図３（ｂ）のように内部検出部１の時間軸
と一致するようになる。したがって移動平均を行うデー
タの個数すなわち時間を調整することにより、応答時間
を変えることができる。
【００３０】次に、移動平均計算の他の実施例について
述べる。
述べる。
【００３１】この実施例は、内部検出器１と外部分析装
置６の検出部の応答時間が一回の移動平均処理では一致
しない場合に、自動的にサンプリングデータ個数Ｎを増
減させて両検出部の応答時間が一致するまでこの操作を
続けるもので、図４のフローチャートにしたがって説明
する。
置６の検出部の応答時間が一回の移動平均処理では一致
しない場合に、自動的にサンプリングデータ個数Ｎを増
減させて両検出部の応答時間が一致するまでこの操作を
続けるもので、図４のフローチャートにしたがって説明
する。
【００３２】まず、図３（ａ）、（ｂ）に示すように内
部検出部１の応答時間が、外部分析装置６の検出部の応
答時間よりｔd の時間分大きい場合には、応答時間差ｔ
d に含まれる外部分析装置６のサンプリングデータ個数
Ｎを求める（ＳＴ７）。
部検出部１の応答時間が、外部分析装置６の検出部の応
答時間よりｔd の時間分大きい場合には、応答時間差ｔ
d に含まれる外部分析装置６のサンプリングデータ個数
Ｎを求める（ＳＴ７）。
【００３３】次に、外部分析装置６の測定されたすべて
のデータについて移動平均処理を行う。この移動平均に
ついては上述した通りである。ここで、移動平均処理に
より作成された外部分析装置６の検出部の新たなデータ
においてスパンガス導入開始時刻からスパンガス濃度の
所定値（通常はフルスケールの９０％）に達するまでの
応答時間を再度算出する（ＳＴ８）。そして、このとき
の応答時間がＴa とすればｔb と比較して一致したかど
うかを判定する（ＳＴ９）。
のデータについて移動平均処理を行う。この移動平均に
ついては上述した通りである。ここで、移動平均処理に
より作成された外部分析装置６の検出部の新たなデータ
においてスパンガス導入開始時刻からスパンガス濃度の
所定値（通常はフルスケールの９０％）に達するまでの
応答時間を再度算出する（ＳＴ８）。そして、このとき
の応答時間がＴa とすればｔb と比較して一致したかど
うかを判定する（ＳＴ９）。
【００３４】このとき、Ｔa とｔb が完全に一致しなく
ても、Ｔa とｔb の差が測定データのサンプリングタイ
ム間隔ε内であれば、誤差範囲であり応答時間が一致し
たとみなし処理を終了する。
ても、Ｔa とｔb の差が測定データのサンプリングタイ
ム間隔ε内であれば、誤差範囲であり応答時間が一致し
たとみなし処理を終了する。
【００３５】一方、Ｔa とｔb の差が測定データのサン
プリングタイム間隔εよりはずれていればＳＴ７で求め
たデータ個数Ｎを増減させる（ＳＴ１０）。データ個数
Ｎを増減させた後に再び移動平均処理（ＳＴ８）を行
い、外部分析装置６の応答時間を上記同様に算出し、両
検出部の応答時間差がεの範囲内でなければ、さらにデ
ータ個数を増減させて応答時間がほぼ一致するまで続け
る。
プリングタイム間隔εよりはずれていればＳＴ７で求め
たデータ個数Ｎを増減させる（ＳＴ１０）。データ個数
Ｎを増減させた後に再び移動平均処理（ＳＴ８）を行
い、外部分析装置６の応答時間を上記同様に算出し、両
検出部の応答時間差がεの範囲内でなければ、さらにデ
ータ個数を増減させて応答時間がほぼ一致するまで続け
る。
【００３６】データ個数の増減については内部検出部１
の応答時間が、移動平均処理により補正された外部分析
装置６の検出部の応答時間よりまだ大きければ、そのデ
ータ個数は増加させればよく、逆に内部検出部１の応答
時間が、移動平均処理により補正された外部分析装置６
の検出部の応答時間より小さくなっていればそのデータ
個数は減少させればよい。
の応答時間が、移動平均処理により補正された外部分析
装置６の検出部の応答時間よりまだ大きければ、そのデ
ータ個数は増加させればよく、逆に内部検出部１の応答
時間が、移動平均処理により補正された外部分析装置６
の検出部の応答時間より小さくなっていればそのデータ
個数は減少させればよい。
【００３７】また、データ個数の増加、減少の割合につ
いては、１個ずつとしても良いし、複数個としても良
い。
いては、１個ずつとしても良いし、複数個としても良
い。
【００３８】このように最初の実施例では、内部検出器
１と外部分析装置６の検出部の応答時間特性に大きな違
いがある場合には応答時間をほぼ一致させることができ
ず、応答時間特性に大差がない分析装置に適用しても応
答時間に数秒ではあるがずれが発生することがあって
も、この実施例によれば両検出部の応答時間を非常に精
度よくほぼ一致させることができる。
１と外部分析装置６の検出部の応答時間特性に大きな違
いがある場合には応答時間をほぼ一致させることができ
ず、応答時間特性に大差がない分析装置に適用しても応
答時間に数秒ではあるがずれが発生することがあって
も、この実施例によれば両検出部の応答時間を非常に精
度よくほぼ一致させることができる。
【００３９】上述の２つの実施例では、内部検出器１の
応答時間が外部分析装置６の検出部の応答時間より大き
い場合であるが、逆に外部分析装置６の検出部の応答時
間が内部検出器１の応答時間よりも大きい場合には内部
検出器１の測定値に対して移動平均計算を行うことによ
り、両検出部の応答時間をほぼ一致させることができ
る。
応答時間が外部分析装置６の検出部の応答時間より大き
い場合であるが、逆に外部分析装置６の検出部の応答時
間が内部検出器１の応答時間よりも大きい場合には内部
検出器１の測定値に対して移動平均計算を行うことによ
り、両検出部の応答時間をほぼ一致させることができ
る。
【００４０】また、サンプルガスを収集する地点から分
析装置の検出部までの流路長が異なる２台の分析装置を
使用する場合に、その流路をサンプルガスが移動する時
間を含めた検出部の応答時間を求め、この応答時間差に
基づいて短い応答時間の測定値に対して移動平均処理を
行えば、検出部のみの応答時間差だけでなく流路長によ
る遅延時間をも補正し、応答時間をほぼ一致させること
ができる。
析装置の検出部までの流路長が異なる２台の分析装置を
使用する場合に、その流路をサンプルガスが移動する時
間を含めた検出部の応答時間を求め、この応答時間差に
基づいて短い応答時間の測定値に対して移動平均処理を
行えば、検出部のみの応答時間差だけでなく流路長によ
る遅延時間をも補正し、応答時間をほぼ一致させること
ができる。
【００４１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のガス濃度
連続分析装置によれば複数のガス濃度測定装置の分析装
置により、試料ガス中の複数の成分の濃度を測定して
も、簡単に応答時間を一ほぼ致させることができ、補正
演算値や比較データ等の信頼性を高めることができる。
連続分析装置によれば複数のガス濃度測定装置の分析装
置により、試料ガス中の複数の成分の濃度を測定して
も、簡単に応答時間を一ほぼ致させることができ、補正
演算値や比較データ等の信頼性を高めることができる。
【図１】本発明の一実施例のガス濃度連続分析装置を示
す図である。
す図である。
【図２】本発明のガス濃度連続分析装置の動作フローチ
ャート図である。
ャート図である。
【図３】本発明のガス濃度連続分析装置により応答時間
を変化させた図である。
を変化させた図である。
【図４】移動平均計算の他の実施例の動作フローチャー
ト図である。
ト図である。
【図５】ガス濃度測定装置の構成図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 角 心吾 京都市中京区西ノ京桑原町１番地 株式会 社島津製作所三条工場内 (72)発明者 荒谷 克彦 京都市中京区西ノ京桑原町１番地 株式会 社島津製作所三条工場内
Claims (1)
- 【請求項１】 試料ガス中の目的成分を連続的に測定す
るガス濃度連続分析装置において、外部のガス濃度分析
装置の校正ガス導入時からの測定信号を取り込む入力部
と、入力された測定値を記憶する記憶部とを備え、外部
のガス濃度分析装置の校正ガス導入時から所定の指示値
に達するまでの応答時間と、内部のガス濃度分析装置の
校正ガス導入時から所定の指示値に達するまでの応答時
間との差を基準として測定データの移動平均を行うこと
により、前記２つの応答時間が一致するようにしたこと
を特徴とするガス濃度連続分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5072499A JPH06281607A (ja) | 1993-01-29 | 1993-03-30 | ガス濃度連続分析装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5-13768 | 1993-01-29 | ||
| JP1376893 | 1993-01-29 | ||
| JP5072499A JPH06281607A (ja) | 1993-01-29 | 1993-03-30 | ガス濃度連続分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06281607A true JPH06281607A (ja) | 1994-10-07 |
Family
ID=26349611
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5072499A Pending JPH06281607A (ja) | 1993-01-29 | 1993-03-30 | ガス濃度連続分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06281607A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002350304A (ja) * | 2001-05-23 | 2002-12-04 | Horiba Ltd | ガス分析装置 |
| JP2007255917A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 濃度測定装置 |
| JP2008002272A (ja) * | 2006-06-20 | 2008-01-10 | Tokyo Gas Co Ltd | 内燃機関及び制御方法 |
| JP2009042184A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Kimoto Denshi Kogyo Kk | ガス計測器 |
| WO2015029460A1 (ja) * | 2013-08-27 | 2015-03-05 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | ガスセンサ装置 |
| JP2015079006A (ja) * | 2014-12-18 | 2015-04-23 | 株式会社堀場製作所 | 排ガス分析システム及び排ガス分析方法 |
-
1993
- 1993-03-30 JP JP5072499A patent/JPH06281607A/ja active Pending
Cited By (10)
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| JP4572043B2 (ja) * | 2001-05-23 | 2010-10-27 | 株式会社堀場製作所 | ガス分析装置 |
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| CN105492898A (zh) * | 2013-08-27 | 2016-04-13 | 日立汽车系统株式会社 | 气体传感器装置 |
| US9958305B2 (en) | 2013-08-27 | 2018-05-01 | Hitachi Automotive Systems, Ltd. | Gas sensor device |
| JP2015079006A (ja) * | 2014-12-18 | 2015-04-23 | 株式会社堀場製作所 | 排ガス分析システム及び排ガス分析方法 |
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