JPS59171431A - カラ−受像管の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は画像の色純度が高く５色むらの少ないカラー受
像管の製造法に関し、より詳１−＜は工程の省略ヲ図り
つつ製造することが出来、しかも高度のシールド効果が
得られる内部磁気シールドを備えたカラー受像管の製造
法に関する。

従来一般に尼磁気その他の外部擾乱磁場が電子ビームに
影響するのを避けるため、カラー受像管内あるいは外に
漏斗状の磁気シールドを設ける事が行なわれている。

就中カラー受像管内部に封入される磁気シールドが一般
的であヲ）、この場合素材として用いられる強磁性体で
ある鋼板（鋼帯）には、透磁率が高いこと、成形加工性
が良いこと、機械的強度が大きいことの他、熱放射率が
高く、かつガス放出の少ないことなどが特に要求される
。

従来これらカラー受像管用磁気シールドは次のようにし
て製造されていた。

丁なわち、リムド鋼（キャップド′ＩＡ）ないしアルミ
キルド鋼熱延鋼帯に圧下率５０％以上の一次冷間圧延を
施して中間板厚に仕上げた後、電気清浄装置を通してか
ら所謂オーブンコイル焼鈍を施して脱炭処理をし、つい
で圧下率４０〜９０％の二次冷間圧延を施し、電解清浄
の後、タイトコイル状の箱型焼鈍を施↑。

しかる後調質圧延（圧下率０．３〜３％）７行ない、つ
いでスリッターを経てコイル状のシールド用素材Ｃｍ帯
）を製造し、次にこのシールド用素材よりブランキング
してブランク”ｒ＋ｊＪり出し、ブランクを絞り加工す
るか又は折曲加工後重合部を点溶接するか等してシール
ド構体となし、ついで還元性雰囲気中でシールド構体Ｙ
（６５０〜８０（１℃）×（３０〜６０分）加熱する磁
気特性回復、向上のための所謂磁性焼鈍を行なう。しか
る後頁に防錆及び熱放射率向上のためにシールド構体に
黒化処理を施工。黒化処理は例えば水蒸気添加空気の様
な湿潤雰囲気及び／もしくはＣＯ２等のガス雰囲気中で
（５５０〜６ｎｎ℃）Ｘ（１０〜３０分）加熱する工程
である。

以上が従来の磁気シールド製造法であるが、これには下
記の幾つかの問題点があった。

（１）　　オープンコイル焼鈍５箱型焼鈍、磁性焼鈍及
び黒化処理の４つの加熱工程を必要とするので工程が複
雑であ）ｌかつエネルギー的に、不経済であり、性質的
にも結晶粒粗大化を招くので機械的強度が低下し、取扱
い中の変形を生じ易い。

（２）　　調質圧延工程が不可欠である。

（３）　　上記の様にして結晶粒の粗大化したシールド
構体表面に生成した黒化膜は組織が粗く、緻密−、Ｓ　
− さを欠く傾向があＩ】、従って黒化膜の脱落を生じ易い
。

（４）　　磁気特性（透磁率）が必ずしも充分とは云え
ない。

（５）　　コスト的に不利である。

そして上述のように造られる内部磁気シールドを装着し
たカラー受像管においても、同様な問題が生じる訳であ
る。

そこで本発明者等は、特に磁気シールド構体の成形加工
法がプレスによる絞り加工から折曲、点溶接加工等に移
行した事を考慮するとシールド用素材は必ずしも高度の
プレス成形性を有しなくてもよい事になるから、従って
従来法における箱型焼鈍、調質圧延、磁性焼鈍を省略可
能であることに着目して種々考察及び実験の結果、本発
明に到達した。

本発明の目的は製造工程を省略して省エネルギー及びコ
ストダウンを図りつつ、磁気的性質の優れた内部磁気シ
ールドを備えるカラー受像管を得る製造法を提供するに
ある。

　４一 本発明の他の目的はり一ルド構体としての工程中及び製
品としての機械的強度即ち剛性の高い磁気シールドを備
えるカラー受像管の製造法を提供Ｔるにある。

本発明の更に他の目的は、製品結晶粒度が細密であ１１
、従って緻密な黒化膜を有する磁気シールドを備えるカ
ラー受像管の製造法を提供するにある。

本発明により、 内部磁気シールドを備えるカラー受像管の製造法におい
て、該内部磁気シールドが、低炭素鋼熱延鋼帯に、少な
くとも一次冷間圧延、オーブンコイル脱炭焼鈍、二次冷
間圧延ケ施工シールド用素材製造工程と、前記シールド
用素材よりブランキングしてブランクを切り出し、該ブ
ランクに成形加工、黒化処理を施工シールド製造工程を
経て造られたものであり、かつ結晶粒度がＡＳＴＭ　＆
　７〜９、比透磁率（０，３５０ｅ）が７００以上であ
る事を特徴と下るカラー受像管の製造法が提供される。

以下に本発明を実施例を交えて詳細に説明下る。

第１図は磁気シールドを内装したカラー受像管の断面図
である。

第１図においてガラスバルブ１のパネル部Ｉ人からファ
ンネル部１Ｂの内側にかけて内部磁気シールドが装着さ
れている状態が示されている。３本の電子ビーム４は電
子銃３より発射さね、水平、垂直偏向コイル５によって
駆動されてシャドウマスク６上を走査［１、パネル内壁
の螢光膜７に射突して発光する。この間の電子ビーム行
程が外部擾乱磁場によってズレ（ｍｉ　ｓ　１ａｎｄ　
ｉｎｇ　）を生じない様に機能するのが磁気シールド２
である。

第２図、第３図は夫々従来の絞り加工による磁気シール
ド及び本発明の折曲、点溶接加工による磁気シールドの
斜視図である。なおシールド構体への加工法としては、
弾性限内の曲げ加工をする場合や点溶接以外の接合法を
用いる場合もある。

従来の絞り加工（第２図）では成形加工度が大きいので
、柔かく　（低硬度、低降伏点）、かつ加工度の良い（
高うンクフォードｒ値、ｎ値、少降伏点伸び）ことが必
要であるが、折曲加工（第３図）では補強用のビードを
つける程度しか絞を）−張出加工はなく、専ら折曲のみ
であるから絞り加工の場合（第２図）のように加工性は
余り必要としない。

また磁気的性質について述べると、外部擾乱磁場として
最も普通の地磁気（１ガウス以下）によっても、例えば
、磁気シールド効果備しない２０インチ形カラー受像管
の場合、螢光面における電子ビーム射突点に１００μｍ
以上のずれが生じる。

内部磁気シールドによるシールド効果を向上させるため
には、内部磁気シールドの構造も重要であるが、使用す
る材料の透磁率を高めることがより重要で、実用■得る
鋼帯の比透磁率（０，３５エルステツド）は経験Ｅ６５
０以上必要である。

透磁率を高めろためには、磁壁移動を阻害する炭素Ｃお
よび窒素Ｎ並びにこれらの析出物を極少にするとともに
、結晶粒界Ｙ少なく１２、結晶粒径を犬にする必要があ
る。不発明は、ＣおよびＮを少なくし、結晶粒径を比較
的小に保って高い透磁率を得ようとＴるものである。

従って本発明に用いる素材鋼種はＡ４Ｎ等の析出物の多
いアルミキルド鋼であってはならず、インゴツト材リム
ド鋼（キャップド鋼を含む）である必要がある。なお、
キャップド鋼は蓋打ち時間を加減してリミングアクショ
ンと介在物の分散を図ったリムド鋼であり、リムド鋼の
一種である。

なお、Ｃ，Ｎ成分を減ら丁ために製鋼段階でＤ　Ｈ法、
ＲＨ法などの炉外精錬法を採用し、後のオーブンコイル
焼鈍工程を簡素化もしくは省略下る事も可能である。

以下に本発明に用いるべき鋼成分について述べる。

Ｃは、プレス成形性および透磁率を高め、ガス放出を少
なくするために最終的に０．０１％以下にすることが必
要である。Ｃが０．０１％以下のシールド用素材は、Ｃ
が０．１２％以下の低炭素鋼熱延鋼帯を一次冷間圧延に
よｊｌ、中間厚み０．４〜１．０鵡の鎖帯となし、電気
清浄後オーブンコイル焼鈍法を用いて脱炭処理を行なう
ことにより得らルる。

Ｍｎは０．１０％未満では熱間脆性が起こり、熱間圧延
を行ないに＜＜、０．５０％を超えると鋼帯が硬化し、
プレス成形性が悪くなる。従ってＭｎは０．１０〜０．
５０％の範囲とした。

８ｉ　　は、非金属介在物の主魯な構成因子をなしてお
番）、この介在物の存在は前述のように磁気特性を劣化
させ、かつ黒化膜の密着性を劣化させるので少ない方が
望ましい。但ｔ、耐火物からの混入は不可避であるため
０，０２％以下とした。

Ｐけ、含有量が増加下ると鋼の硬化によ番）プレス成形
性を阻害するので０．０３％以下とした。

Ｓは、硫化物系介在物が、Ｓｉ同様に磁気特性を劣化さ
せる柿向かあ（）、また熱間加工性も悪くするので、０
０３％以下とし、た。

５ｏｉｌ、ＡＲは、含有量が多いと黒化処理時において
結晶粒成長を阻害し、磁気特性に悪影響を与え、かつ黒
化膜密着性を劣化させるので０．０１％以下とした。

Ｎは、プレス成形性並びに磁気特性を悪くするので可能
な限り少ない方が望ましいが、脱窒可能下限が実用上０
．０００１％以上であるので、範囲をＱ、　０００１〜
０．０１％とした。

つぎに製造工程について述べる。

第４図は本発明と従来の製造工程とを対比して示した工
程図である。

第４図によって判る様に本発明では二次冷延後の箱型焼
鈍、調質圧延並びに成形卯工後の磁性焼鈍を省略する事
が出来る。

以下にその技術内容について詳細に説明する。

本発明の特徴は、要するに二次冷延後充分に加工硬化し
た状態（フルハード）で折曲、点溶接加工等によりシー
ルド構体に成形加工し、従来技術程変の黒化処理（例え
ば５７５℃Ｘ１５分加熱）工程において、黒化と同時に
再結晶と結晶粒成長による歪の除去及び磁気特性の向上
を図るところにある。丁なわち二次冷延における加工硬
化歪を再結晶の駆動力として利用する訳である。

本発明実施例では、前述の成分範囲のリムド鋼（キャー
ｌブトｍ）熱延鋼帯を第４図の本発明工程に従ッて板厚
０．１５ｍのシールド用素材を造った。

この場合、二次冷延率（圧下率）は７５％である。

この鋼帯は、降伏点伸びがないのでストレッチャストレ
インは発生せず、かつ、ＣおよびＮが少ないために二次
冷延のままで内部磁気シールド構体に折曲成形加工する
ことが可能であ蚤）１箱型焼鈍及び調質圧延は不要であ
る。次いで該磁気シールド構体を湿潤雰囲気及び／もし
くけガス雰囲気中、５７５℃の温度で１５分間加熱して
表面黒化処理を行なう。その結果、結晶粒径がＡＳＴＭ
　＆　７〜９で比透磁率（０，３５エルステツド）７５
０の内部磁気シールドを得ることができた。

第１表に本発明実施例及び比較例の化学組成を示す。炭
素の欄の上段はし一ドル分析値、下段は脱炭処理後の組
成を示す。このような各種の化学組成からなるｆｊＩＩ
ｙｆｌ−熱間圧延で２．　Ｑ　ｔｔｔｍに圧延し、さら
に−次冷間圧延で０．６鶴まで圧延する。次いでオープ
ンコイル、焼鈍法によを１約７１０℃×１０時間脱炭性
雰囲気（Ｈ２＋　Ｎ２混合ガス、露点＋２０℃）中で均
熱し、ついで約り１０℃×７時間ドライガス（露点−４
０℃）中で乾燥し、Ｃ：０．００１％以下に脱炭した。

ついで二次冷延（圧下率７５％）して板厚０．１５簡の
本発明シールド用素材を造った。

なお比較例として二次冷延後頁に６３０℃Ｘ１４時間の
光輝箱型焼鈍と、約１％の圧下率の乾燥調質圧延を施し
た試料を作製した。

第１表において本発明実施例の試料Ａはリムド１ｌｌ（
キャップド鋼）を強脱炭したものであり、試料Ｂは強脱
窒したものであり、試料Ｃは強脱炭及び強脱窒したもの
である。比較例の試料りはアルミキルド連鋳材を通常脱
炭したものであり、試料Ｅは、リムド＠（キャップド鋼
）を通常脱炭したものである。

第２表は黒化処理条件別の比透磁率、ガス放出量、機械
的性質について本発明実施例の効果を比較例と対比して
示したものである。但し機械的性質のデータは本発明実
施例である試料Ａ、Ｂ、Ｃについては二次冷延のままの
シールド用素材の段階における測定値であ皓）、比較例
である試料り。

Ｅについては光輝箱型焼鈍及び調質圧延後のシールド用
素材段階における測定値である。

第２表において本発明実施例である試料Ａ、Ｂ。

Ｃの場合は、通常黒化処理条件（５７５℃×１５分）に
おいて磁場０．３５エルステツド（Ｏｅ）での比透磁率
が丁べて７００以上あ昏」、特に試料Ｃにおいては強脱
炭、強脱窒を実施している為試料Ａ。

Ｂに比べてさらに比透磁率が良くなっている。

これは、強脱炭、強脱窒を実施下ると、比較的低温での
再結晶が容易となり結晶粒径が他と比べて大きくなるか
らであろう。

またガス放出量については、各試料（約１（’）Ｏｒ）
毎に１０　’〜１０　”Ｔｏｒｒ、に１３真空中で４５
００　×６０分加熱した時のガス放出量（ｍＡ　Ｘ　Ｔ
ｏｒｒ、ａｔ２４℃）を測定した。比較例りはアルミキ
ルド鋼連鋳材であるため元来ガス放出量が少なく４．９
２（ｍｌ　Ｘ　Ｔｏｒｒ、　）であり、比較例Ｅはそれ
よりもやや多く　５．３０　（ｍｌＩ　Ｘ　Ｔｏｒｒ、
）であった。これに対し本発明実施例Ａ、Ｂ、Ｃでは５
．２５〜５．３０（ｄＸＴｏｒｒ、）であり、比較例と
同等もしくは少ないガス放出量であった。

機械的性質については第２表に示すとおり、本発明実施
例Ａ、Ｂ、Ｃの抗張力Ｔ、Ｓは比較例り。

Ｅのそれに比べて２倍以上大きく、伸びＥ２は１／２０
〜１／４０に過ぎない。しかし、この程度の機械的性質
であっても実用上磁気シールド構体を折曲・点溶接加工
等によって造る限りにおいては、その成形加工に充分耐
えられることが確認された。

しかも、−万ではシールド製造工程並びに製品となって
からも剛性（機械的強度）が高く、歩留りが良いという
効果がある。

第５図は黒化処理もしくは磁性焼鈍の際の加熱温度と０
．３５０ｅ直流磁場における磁気シールド比透磁率の関
係を示すグラフである。

第５図により、従来の磁性焼鈍を伴なう比較例（破線）
に対し、本発明実施例（実線）は黒化処理のみで、加熱
温度約４００℃において交差し、それ以上の加熱温度で
は、寧ろ比透磁率が凌駕している事が判る。なお比較例
の場合、磁性焼鈍後に５７５℃程度の黒化処理を行なっ
ても比透磁率は殆んど変らないので磁性焼鈍後で比較し
た。

従って、極くありふれた作業条件である５５０℃乃至６
５０℃の加熱処理（黒化処理）のみによって、比較例（
従来品）よ番）も工程が省略されているにも拘らず優れ
た比透磁率が得られる。

なお、黒化処理温度は、５５０℃よｆ＋低いと、再結晶
をしない事があるので、下限を５５０℃とし、上限は、
６５０℃を超えると緻密な黒化処理皮膜の形成が困難と
なるので、６５０℃とした。

また本発明にかかる磁気シールドを２２１−１１０°　
カラー管に用いた場合、本発明実施例は比透磁率が７０
０以上であるのに対し５、比較例のそれは６４０付近で
あり、それに従って本発明実施例では電子ビームのズレ
も１０〜２０％減少している。

以上詳述した本発明を実施することにより、前、述の目
的が丁べて達成される。すなわち、シールド用素材製造
工程において箱型焼鈍と調質圧延。

シールド製造工程において磁性焼鈍という計３つの工程
ン省略して省エネ並びにコストダウンを図１）つり、緻
密な黒化皮膜を備え、遮蔽効果の優れた内部磁気シール
ド付カラー受像管を歩留りよく１Ｑ− 製造することが出来る。すなわち電子ビームのズレによ
る色純度の低下や色むらの少ないカラー受像管が低コス
トで製造出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は磁気シールドを内装したカラー受像管の断面図
、第２図、第３図は夫々従来及び本発明の製法別磁気シ
ールド構体斜視図、第４図は従来及び本発明の工程図、
第５図は加熱温度と比透磁率の関係を示すグラフである
。 １・・・・・・ガラスバルブ、 ２・・・・・・内部磁気シールド。 特許出願人　　松下電器産業株式会社 １９− 第１図 す２図 才３図 才４　回 才５図

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）　　内部磁気シールドを備えるカラー受像管の製
   造法において、該内部磁気シールドが、低炭素鋼熱延鋼
   帯に、少なくとも一次冷間圧延、オーブンコイル脱炭焼
   鈍、二次冷間圧延を施工シールド用素材製造工程と、前
   記シールド用素材よりブランキングしてブランキングり
   出し、該ブランクに成形加工、黒化処理を施工シールド
   製造工程と！経て造られたものであｉｌ、かつ結晶粒度
   がＡｓ　ＴＭ４７−９．比透磁率（０，３５０６）が７
   ００以上である事を特徴とするカラー受像管の製造法。
2. （２）低炭素鋼熱延鋼帯が、　Ｃ：　０．１２％以下（
   重量％以下同様）　、Ｍｎ：　０．１０〜ｏ、ｓ　ｏ％
   、　Ｓｉ　：０．０２％以下、Ｐ：０．０３％以下、Ｓ
   ：０．０３％以下、　５ｏｉ１．、　ＡＭ　：　０．０
   １．　％以下、Ｎ：ｏ、ｏｏｏ１〜０．０１％、残部Ｆ
   ｅ及び不可避的不純物で成るリムド鋼（キャップド鋼）
   熱延鋼帯である特許請求の範囲第１項記載の製造法。
3. （３）　　オーブンコイル脱炭焼鈍後の鋼帯Ｃ成分が０
   ．０１％以下である特許請求の範囲第１項乃至第２項記
   載の製造法。
4. （４）　　二次冷間圧延が圧下率４０〜９０％の冷間圧
   延である特許請求の範囲第１項乃至第３項の内いづれか
   一項に記載の製造法。
5. （５）　　黒化処理が湿潤雰囲気またはガス雰囲気中で
   （５５０〜６５０°Ｃ）Ｘ（１０〜３０分）加熱する加
   熱処理である特許請求の範囲第１項乃至第４項の内いづ
   れか一項に記載の製造法。