JPS5916992A - 錫・ニツケル被膜を形成する方法及び錫被膜の耐蝕加工方法 - Google Patents

錫・ニツケル被膜を形成する方法及び錫被膜の耐蝕加工方法

Info

Publication number
JPS5916992A
JPS5916992A JP12551982A JP12551982A JPS5916992A JP S5916992 A JPS5916992 A JP S5916992A JP 12551982 A JP12551982 A JP 12551982A JP 12551982 A JP12551982 A JP 12551982A JP S5916992 A JPS5916992 A JP S5916992A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tin
nickel
corrosion resistance
film
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP12551982A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6214640B2 (ja
Inventor
Seiichi Fujita
清一 藤田
Reiichiro Nojima
野島 禮一郎
Reiji Nojima
野島 禮二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KANESHIBA KK
Original Assignee
KANESHIBA KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KANESHIBA KK filed Critical KANESHIBA KK
Priority to JP12551982A priority Critical patent/JPS5916992A/ja
Publication of JPS5916992A publication Critical patent/JPS5916992A/ja
Publication of JPS6214640B2 publication Critical patent/JPS6214640B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属表面に耐蝕性の良い錫・ニッケル被膜を
形成する方法に関する。
銅は厨房用器を作る材料として多ぐ用いられているが、
銅は空気に触れると人体に有害な化合物を形成する。そ
こで、厨房用銅器の内面を錫又は銀で被覆すべきことが
、日本食品衛生法で規定さ嬌 れている。仁れに従って多くの銅器製造業者は、錫の電
気メツキ被覆を行ってbる。
金属錫は次のように変態する。
即ち、常温では錫は正方晶系の結晶構造であるが、これ
を加熱して161℃を越えると斜方晶系に変態する。逆
に温度を13.2℃より下に下げると徐々に立方晶系に
移行するが、これは実際には事実上無定形で一名海綿状
錫とも云われ、粉末になりやすく耐蝕性が劣る。又、弱
アルカリ性・弱酸性・渋・タンニンの含まれる物質に長
時間接触すると、上記温度範囲に関係なく正方晶系錫が
無定形に変わる。
この上うに錫被膜は人体に無−■7である点で優れてい
るが、使用している間に変態を起して、腐蝕しやすくな
るという欠点を持っている。このような欠点のない被膜
として、本発明者は1〜10%のニッケルが含まれる錫
・ニッケル合金メッキ被膜を発明した。少量含まれるニ
ッケルが錫の変態を抑制しているものと考えられる。従
来、錫とニッケルの合金メッキは知られているが、そこ
では錫とニッケルは等原子数つまりニッケルが35重量
%という多い量で含まれる。しかし、この物は耐蝕性に
優れているが、製造工程が複雑でありコストが掛る。
本発明は、金属表面特に銅表面に少含量でニッケルを含
む錫・ニッケル合金被膜を簡単に効率よく製造する方法
に関する。
即ち、硫酸第一錫30〜60り/l・硫酸ニッケル0.
1〜1y/l−硫酸110〜160 y/lを含むメッ
キ浴を用いて金属表面に錫・ニッケル合金電気メッキを
行うことにより、簡単如効率よく耐蝕性の優れた錫・ニ
ッケル合金被膜が得られる。この際、メッキ浴中にニッ
ケルペレットを入れるか又は/及び陽極にニッケル線を
用いてニッケルイオンを補充することもできる。
次に、金属特に銅基材への電気メッキにより得られた錫
被膜又は主として錫より成る被膜の耐蝕性を向上させる
ために、該被膜を斜方晶系錫の安定な温度範囲つまり1
61〜232℃の間に置いて、錫を一旦斜方晶系に少く
とも一部転移させ、然る後に冷却することによ)錫被膜
の耐蝕性が著しく向上することを見い出しだ。上記処理
を行った錫被膜においては正方晶系が安定な温度におい
ても、一部斜方晶系錫が残留しており、そのため立方晶
系錫への転移が妨げられているものと推定される。
約161〜232℃の温度に置く時間は、温度に依存す
るが通常少くなくとも1分間以上、好ましくは10分間
以上があり、特に約170℃の場合には約20〜30分
間が適当である。冷却はあまり急激に行わない方が良い
が、室温に放置するのでも充分である。上記温度は、1
65〜190℃が特に好ましい、200℃近くでは変態
した錫の粒子が粗大化する傾向があるので、あまり好ま
しくない。
斯る処理は、錫のみから成る被膜のみでなく、主として
錫から成る被膜例えば錫・ニッケル合金特にニッケルを
1〜10%含む錫・ニッケル合金に対しても有効である
Kliる簡早な処理により耐蝕性が著しく向上すること
は、全く篤<べきことであり、予期できなかったことで
ある。
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明する。実施
例に於いては、メッキ基材として銅を用いたが他の金属
を用いても同様に実施できる。
実施例1 銅鍋に下記条件で錫・ニッケルメッキを行った。
メッキ浴組成 SnSO440f / LNiSO4・
61−h 0  0.4 f’ / L)1.SO,、
150り/L 光沢剤 ニトロノーβ−ナノトール pH1,0以下、液温 20〜25℃、電圧 5V、電
流密度 2A/dg”%メッキ時間3分電極  ニッケ
ルワイヤ 析出したメッキ被膜の厚さは3.511であり、ニッケ
ル3チ、錫97%より成っていた。
耐蝕性を試験するだめに、4%酢醪水溶液をメッキしだ
銅鍋に満し、常温で放置し観察する、50時間経過後に
、微かに灰黒色の斑点の発生が認められた。
実施例2 実施例1と同様にしてメッキした銅鍋(但し。
この場合メッキ厚は3.8式あった)を常温に7日装置
いた後、電気炉中で常圧下で170℃に30分間熱処理
し1次に徐冷箱中で急激な温度降下を抑制しつつ常温に
戻しだ。
実施例1と同様に耐蝕性試験を行うと、60時間経過後
(てほとんど変化が認められなめ)つた。
比較列 比較例としてニッケルを含まない、純錫メッキを行う。
電極として純錫を用い、 他は実施例1と同様にしてメ
ッキを行う。得られたメッキ厚は3.3式あった。
実施例1と同様圧して耐蝕性試験を行うと% 12時間
経過後より灰黒色の斑点(海綿状錫)が発生し、24時
間後にはそれが顕著となった。
11¥約出願人  株式会社 兼 芝

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)金属表面に錫・ニッケル合金被膜を形成する方法
    に於いて、硫酸第一錫30〜609/l・硫ff= ツ
    ケk O,1−11!/l−硫酸110〜16゜y/l
    を含むメッキ浴を用いて電気メッキすることを特徴とす
    る方法。
  2. (2)  メッキ浴中忙ニッケルペレットを入れ、又は
    /及び陽極にニッケル線を用いる特許請求の範囲第1項
    記載の方法。
  3. (3)電気メッキ忙よシ析出された主として錫から成る
    被膜の耐蝕性を向上させる方法に於いて、該被膜を約1
    61〜232℃の間の温度に置き、次に冷却することを
    特徴とする方法。
  4. (4)  温度が165〜190℃である特許請求の範
    囲第3項記載の方法。
JP12551982A 1982-07-19 1982-07-19 錫・ニツケル被膜を形成する方法及び錫被膜の耐蝕加工方法 Granted JPS5916992A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12551982A JPS5916992A (ja) 1982-07-19 1982-07-19 錫・ニツケル被膜を形成する方法及び錫被膜の耐蝕加工方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12551982A JPS5916992A (ja) 1982-07-19 1982-07-19 錫・ニツケル被膜を形成する方法及び錫被膜の耐蝕加工方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5916992A true JPS5916992A (ja) 1984-01-28
JPS6214640B2 JPS6214640B2 (ja) 1987-04-03

Family

ID=14912155

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12551982A Granted JPS5916992A (ja) 1982-07-19 1982-07-19 錫・ニツケル被膜を形成する方法及び錫被膜の耐蝕加工方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5916992A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6309760B1 (en) 1998-10-27 2001-10-30 Dana Corporation Bearing material

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6309760B1 (en) 1998-10-27 2001-10-30 Dana Corporation Bearing material
US6472086B2 (en) 1998-10-27 2002-10-29 Dana Corporation Bearing material

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6214640B2 (ja) 1987-04-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2644787A (en) Electrodeposition of a magnetic coating
Liu et al. The effect of processing gas on corrosion performance of electroless Ni-WP coatings treated by laser
JPS6013074B2 (ja) 電解用陰極及びその製造法
TW426562B (en) Nickle fine powder and the process for preparation
JP4576001B2 (ja) 電解コンデンサ電極用アルミニウム箔
JPS5916992A (ja) 錫・ニツケル被膜を形成する方法及び錫被膜の耐蝕加工方法
JP3247517B2 (ja) チタン材料のめっき方法
US3871973A (en) Electroplating of iron and coating substrates with an iron-aluminum coating
JP6881735B2 (ja) ニッケルを実質的に含まない表層を有するニッケル/チタン合金及びその製造方法
Backović et al. Study of electroless Ni-P deposition on aluminium
JP4308969B2 (ja) めっき皮膜、それを備えた装飾品及びめっき皮膜の製造方法
JPS61166986A (ja) 金属メツキを施したアモルフアス合金
Sridharan et al. Electrodeposition of amorphous iron-nickel-phosphorus alloy coatings
CN116275057B (zh) 基于粉末烧结制备具有微电偶的电子铝箔的腐蚀预处理方法
JP5079746B2 (ja) 無電解ニッケルめっき方法
JPH05331587A (ja) メッキ性と化成処理性に優れたAl合金
JPS5887296A (ja) ステンレス鋼に直接金メツキを施す方法
JP2005517085A (ja) Ni及び/又はCoからなる表面被覆をもつ冷間圧延板を熱処理する方法、その方法により製造可能な板金とその方法により製造可能な電池金属製容器
JPS6167732A (ja) 溶液電解の電極用表面活性化非晶質合金
JP3962841B2 (ja) めっき部材の製造方法、その方法で製造された装身具用めっき部材
US2390791A (en) Protective transparent coatings
CA1093498A (en) Process for the production of coin blanks
JPH01152294A (ja) 不溶性アノード用材料の製造方法
JPS60243285A (ja) 金属電極より被覆を除去する方法
Ueda et al. Formation of Porous Layer with Low Ni Content on NiTi Substrate by Dealloying in Metallic Melts