JPS59167053A - カラ−固体撮像素子の製造方法 - Google Patents
カラ−固体撮像素子の製造方法Info
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- JPS59167053A JPS59167053A JP58040074A JP4007483A JPS59167053A JP S59167053 A JPS59167053 A JP S59167053A JP 58040074 A JP58040074 A JP 58040074A JP 4007483 A JP4007483 A JP 4007483A JP S59167053 A JPS59167053 A JP S59167053A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02162—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はカラー固体撮像素子の製造方法に関する。
カラー固体撮像素子は、小型軽量、低消費電力、高信頼
性、長寿命などのすぐれた特徴を有し、多くの用途が期
待されている。そして、VTRカメラ用として大きな需
要が存在しているため、開発が精力的になされている。
性、長寿命などのすぐれた特徴を有し、多くの用途が期
待されている。そして、VTRカメラ用として大きな需
要が存在しているため、開発が精力的になされている。
カラー固体撮像素子は、カメラの光学系を介して入射さ
れた光を、赤、青、緑あるいはこれらの補色等に色分離
し、カラー信号(を気信号として)を取り出すものであ
る。
れた光を、赤、青、緑あるいはこれらの補色等に色分離
し、カラー信号(を気信号として)を取り出すものであ
る。
第1図を参照して従来のカラー固体撮像素子の製造方法
を説明する。第1図は固体撮像素子の受光面にカラーフ
ィルタを形成する工程を説明する図である。半導体基板
lには入射された光信号を電気信号に変換する光ダイオ
−r2を配置し、それらを図示しない走査回路によって
つなぐ。その上には、絶縁膜(例えばSin、2膜)3
を介して素子を保護するためのノクツシベーショ/膜(
例えばPEG膜)lIを設け、その上には受光面を平滑
化するための平滑層(例えば透明高分子樹脂)5を設け
る。そして、平滑層Sの上にはフォトレジスト6を塗布
する。ここで、フォトレジスト材料としては、ゼラチン
やカゼイン等の蛋白質または?リビニルアルコール(以
下EpvAJという)に、感光剤として重クロム酸アン
モニウム(以下[ADOJという)を添加したものがあ
る。(第1図(a)) 次いで、フォトレジスト6を所定の形状にパターニング
し、染色するための領域を残したのちシアンで染色し、
第1の染色層7とする。(第1図(b)) 次いで、透明高分子樹脂からなる混色防止膜(中間層)
ざを設ける。(第1図(C))以下、同様にして第2の
染色層?およびオーツ々−コート(保護層)10を形成
し、多色用のカラー固体撮像素子とする。(第1図(=
1) )〔背景技術の問題点〕 上述の如〈従来方法によって固体撮像素子の受光面にカ
ラーフィルタを形成すると、混色を防止するために透明
高分子樹脂からなる中間層が必要になる。そのため、そ
れぞれの画素部の間で大きな段差が生じ、画素部周辺か
らの光の入射を考慮しなければならなくなり、露光条件
の設定が難しくなる。
を説明する。第1図は固体撮像素子の受光面にカラーフ
ィルタを形成する工程を説明する図である。半導体基板
lには入射された光信号を電気信号に変換する光ダイオ
−r2を配置し、それらを図示しない走査回路によって
つなぐ。その上には、絶縁膜(例えばSin、2膜)3
を介して素子を保護するためのノクツシベーショ/膜(
例えばPEG膜)lIを設け、その上には受光面を平滑
化するための平滑層(例えば透明高分子樹脂)5を設け
る。そして、平滑層Sの上にはフォトレジスト6を塗布
する。ここで、フォトレジスト材料としては、ゼラチン
やカゼイン等の蛋白質または?リビニルアルコール(以
下EpvAJという)に、感光剤として重クロム酸アン
モニウム(以下[ADOJという)を添加したものがあ
る。(第1図(a)) 次いで、フォトレジスト6を所定の形状にパターニング
し、染色するための領域を残したのちシアンで染色し、
第1の染色層7とする。(第1図(b)) 次いで、透明高分子樹脂からなる混色防止膜(中間層)
ざを設ける。(第1図(C))以下、同様にして第2の
染色層?およびオーツ々−コート(保護層)10を形成
し、多色用のカラー固体撮像素子とする。(第1図(=
1) )〔背景技術の問題点〕 上述の如〈従来方法によって固体撮像素子の受光面にカ
ラーフィルタを形成すると、混色を防止するために透明
高分子樹脂からなる中間層が必要になる。そのため、そ
れぞれの画素部の間で大きな段差が生じ、画素部周辺か
らの光の入射を考慮しなければならなくなり、露光条件
の設定が難しくなる。
特に、lチップにJ万個以上の画素を有する撮像素子で
はフォトダイオードの間隔が狭いので、パターンの切れ
が悪いと・ぞターンが隣接画素部に流れ、混色の原因に
なる。従って、カラー固体撮像素子の歩留りが悪くなる
。
はフォトダイオードの間隔が狭いので、パターンの切れ
が悪いと・ぞターンが隣接画素部に流れ、混色の原因に
なる。従って、カラー固体撮像素子の歩留りが悪くなる
。
本発明は上記の従来技術の欠点に鑑みてなされたもので
、画素部に生じる段差を少なく抑え、素子の歩留りを向
上させることのできるカラー固体撮像素子の製造方法を
提供することを目的とする。
、画素部に生じる段差を少なく抑え、素子の歩留りを向
上させることのできるカラー固体撮像素子の製造方法を
提供することを目的とする。
上記の目的を実現するため本発明は、固体撮像素子の受
光面の平滑層上に所定の・ぞターンで形成された水溶性
レジストを水溶性染料で染色して第1の染色層とし、次
いでその上に所定の/ぞターンで油溶性レジストを形成
し、次いでその上に所定の・ぞターンで水溶性レジスト
を設け、これをマスクとして油溶性レジストを油溶性染
料によりて染色して第一の染色層とし、第1の染色層と
第2の染色層の間に中間層が介在しなくてもよいように
したカラー固体撮像素子の製造方法を提供するものであ
る。
光面の平滑層上に所定の・ぞターンで形成された水溶性
レジストを水溶性染料で染色して第1の染色層とし、次
いでその上に所定の/ぞターンで油溶性レジストを形成
し、次いでその上に所定の・ぞターンで水溶性レジスト
を設け、これをマスクとして油溶性レジストを油溶性染
料によりて染色して第一の染色層とし、第1の染色層と
第2の染色層の間に中間層が介在しなくてもよいように
したカラー固体撮像素子の製造方法を提供するものであ
る。
第2図を参照して本発明の一実施例を説明する。
第2図は一実施例によってカラー固体撮像素子を製造す
る工程を説明する図で、第1図と同一の要素は同一の符
号で示す。第1図(a)に示すよ5K、固体撮像素子の
受光面を平滑化する目的で膜厚θ、5〜2.0μmの平
滑層jを設け、その上に水溶性のレジスト材料(例えば
ゼラチンやカゼイン等の蛋白質またはPTAに感光剤と
してADOを添加したもの)を、o、s−,2,(7μ
mの膜厚で塗付し、所定の)eターンを有するマスクを
介して露光、現像する。そして、得られたパターンをシ
アンまたは黄色の第1の染色層10/とする。(第2図
(a))次いで透明ネガ型の油溶性レジスト/θλをo
、r〜λ、θμり膜厚で塗付し、その上に前記工程と同
様の水溶性レジスト材料をO,S〜2.0μmの膜厚で
塗付し、水溶性レジス) 103とする。ここで、油溶
性のレジスト材料102としてはFSF+(富士薬品工
業(株)製)、JSRO工n−7oi(日本合成ザム(
株)M)などがある。(第2図(b))次いで、水溶性
レジストlO3を/ぞターニングしたのち(第一図(C
))、この水溶性レジストiosをマスクにして油溶性
レジスト102を油溶性染料で染色し、第一の染色層1
044とする。ここで、第1の染色層ioiがシアンな
らば第2の染色層1o4tは黄色になり、第1の染色層
10/が黄色ならば第2の染色層IO’lはシアンにな
る。なお、油溶性染料としては、アイゼンノ々ターイエ
ロー、オーガノブルGエクストラ(保谷化学(株)製)
などがある。
る工程を説明する図で、第1図と同一の要素は同一の符
号で示す。第1図(a)に示すよ5K、固体撮像素子の
受光面を平滑化する目的で膜厚θ、5〜2.0μmの平
滑層jを設け、その上に水溶性のレジスト材料(例えば
ゼラチンやカゼイン等の蛋白質またはPTAに感光剤と
してADOを添加したもの)を、o、s−,2,(7μ
mの膜厚で塗付し、所定の)eターンを有するマスクを
介して露光、現像する。そして、得られたパターンをシ
アンまたは黄色の第1の染色層10/とする。(第2図
(a))次いで透明ネガ型の油溶性レジスト/θλをo
、r〜λ、θμり膜厚で塗付し、その上に前記工程と同
様の水溶性レジスト材料をO,S〜2.0μmの膜厚で
塗付し、水溶性レジス) 103とする。ここで、油溶
性のレジスト材料102としてはFSF+(富士薬品工
業(株)製)、JSRO工n−7oi(日本合成ザム(
株)M)などがある。(第2図(b))次いで、水溶性
レジストlO3を/ぞターニングしたのち(第一図(C
))、この水溶性レジストiosをマスクにして油溶性
レジスト102を油溶性染料で染色し、第一の染色層1
044とする。ここで、第1の染色層ioiがシアンな
らば第2の染色層1o4tは黄色になり、第1の染色層
10/が黄色ならば第2の染色層IO’lはシアンにな
る。なお、油溶性染料としては、アイゼンノ々ターイエ
ロー、オーガノブルGエクストラ(保谷化学(株)製)
などがある。
次いで、透明高分子樹脂を0.!−/、01fnの膜厚
で塗付し、これをオー/モーコートlOとする(第2図
(d))。
で塗付し、これをオー/モーコートlOとする(第2図
(d))。
なお、赤、青、緑の3色の染色層からなるフィルタも同
様にして得ることができる。
様にして得ることができる。
上記の如く本発明によれば、同体撮像素子の受光面の平
滑層上に所定のノミターンで形成された水溶性レジスト
を水溶性染料で染色して第1の染色層とし、次いでその
上に所定のパターンで油溶性レジストを形成し、次いで
その上に所定のパターンで水溶性レジストを設け、これ
をマスクにして油溶性レジストを油溶性染料によって染
色して第2の染色層とするので、第1の染色層と第2の
染色層との間に中間層を介在させる必要がなくなり、画
素部に生じる段差を少なく抑え、素子の歩留りを向上さ
せることのできるカラー固体撮像素子の製造方法を提供
することができる。本発明に係る方法によって製造した
カラー固体撮像素子は、パターンの切れが良いため、ノ
リーンが隣接画素に流れることがない。従って、良好な
画像特性を有しα)る。
滑層上に所定のノミターンで形成された水溶性レジスト
を水溶性染料で染色して第1の染色層とし、次いでその
上に所定のパターンで油溶性レジストを形成し、次いで
その上に所定のパターンで水溶性レジストを設け、これ
をマスクにして油溶性レジストを油溶性染料によって染
色して第2の染色層とするので、第1の染色層と第2の
染色層との間に中間層を介在させる必要がなくなり、画
素部に生じる段差を少なく抑え、素子の歩留りを向上さ
せることのできるカラー固体撮像素子の製造方法を提供
することができる。本発明に係る方法によって製造した
カラー固体撮像素子は、パターンの切れが良いため、ノ
リーンが隣接画素に流れることがない。従って、良好な
画像特性を有しα)る。
第1図は従来方法によるカラー固体撮像素子の製造工程
を説明する図、第2図は本発明の一実施例に係る方法に
よってカラー固体撮像素子を製造する工程を説明する図
である。 l・・・半導体基板、λ・・・光ダイオード、3・・・
絶縁膜、ダ・・・パツシペーシプン膜、S・・・平iu
、、g・・・レジスト、7・・・第1の染色層、r・・
・混色防止膜(中間層)、り・・・第2の染色層、ゾQ
・・・オーツモーコート、101・・・第1の染色層(
水溶性)、/θン・・レジスト(油溶性)、703・・
レジスト(水溶性)、lO亭・・・第一の染色層(油溶
性)。
を説明する図、第2図は本発明の一実施例に係る方法に
よってカラー固体撮像素子を製造する工程を説明する図
である。 l・・・半導体基板、λ・・・光ダイオード、3・・・
絶縁膜、ダ・・・パツシペーシプン膜、S・・・平iu
、、g・・・レジスト、7・・・第1の染色層、r・・
・混色防止膜(中間層)、り・・・第2の染色層、ゾQ
・・・オーツモーコート、101・・・第1の染色層(
水溶性)、/θン・・レジスト(油溶性)、703・・
レジスト(水溶性)、lO亭・・・第一の染色層(油溶
性)。
Claims (1)
- 固体撮像素子の受光面を平滑化するための平滑層上に第
1の水溶性レジストを塗布し、次いで前記第1の水溶性
レジストを所定の形状に、eターニングしたのち水溶性
染料で染色し、次いでその上に油溶性レジストを塗布し
たのち所定の形状にパターニングし、次いでその上に第
2の水溶性レジストを塗布したのち所定の形状にノぞタ
ーニングし、次いで前記第2の水溶性レジストをマスク
にして前記油溶性レジストを油溶性染料によって染色す
る力2−固体撮像素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58040074A JPS59167053A (ja) | 1983-03-11 | 1983-03-11 | カラ−固体撮像素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58040074A JPS59167053A (ja) | 1983-03-11 | 1983-03-11 | カラ−固体撮像素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59167053A true JPS59167053A (ja) | 1984-09-20 |
Family
ID=12570772
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58040074A Pending JPS59167053A (ja) | 1983-03-11 | 1983-03-11 | カラ−固体撮像素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59167053A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6420505A (en) * | 1987-07-15 | 1989-01-24 | Nec Corp | Production of semiconductor device |
JPH03255404A (ja) * | 1990-03-05 | 1991-11-14 | Matsushita Electron Corp | カラー固体撮像装置の製造方法 |
KR970067920A (ko) * | 1996-03-07 | 1997-10-13 | 문정환 | 고체촬상소자의 제조방법 |
-
1983
- 1983-03-11 JP JP58040074A patent/JPS59167053A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6420505A (en) * | 1987-07-15 | 1989-01-24 | Nec Corp | Production of semiconductor device |
JPH03255404A (ja) * | 1990-03-05 | 1991-11-14 | Matsushita Electron Corp | カラー固体撮像装置の製造方法 |
KR970067920A (ko) * | 1996-03-07 | 1997-10-13 | 문정환 | 고체촬상소자의 제조방법 |
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