JPS59160564U - 化学気相成長装置 - Google Patents

化学気相成長装置

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JPS59160564U
JPS59160564U JP5600883U JP5600883U JPS59160564U JP S59160564 U JPS59160564 U JP S59160564U JP 5600883 U JP5600883 U JP 5600883U JP 5600883 U JP5600883 U JP 5600883U JP S59160564 U JPS59160564 U JP S59160564U
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JP
Japan
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susceptor
chemical vapor
vapor deposition
movable part
deposition apparatus
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JP5600883U
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JPS6142920Y2 (ja
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後藤 泰山
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東芝機械株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案による化学気相成長装置の一実施例の要
部を示す平面図、第2図は第1図の■−■線による断面
図、第3図は第2図における可動部分を上昇させた状態
を示す断面図、第4図は本考案の他の実施例の要部を示
す平面図、第5図は     −第4図の■−■線によ
る断面図、第6図は第5図における可動部分を下降させ
た状態を示す断面図である。 1.11・・・・・・サセプタ、2・・・・・・試料基
板、3・・・・・・ザグリ、4.14・・・・・・可動
部分、5・・・・・・操作ロッド、15・・・・・・操
作スリーブ、6.16・・・・・・回転軸、7・・・・
・・治具。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 サセプタの上面に試料基板を配列する方式の−化学
    気相最長装置において、前記サセプタの試料基板載置部
    に、試料基板の裏面の一部に対応しサセプタに対して相
    対的に上下動可能な可動部分を設け、該可動部分により
    試料基板をサセプタに対して昇降可能にしたことを特徴
    とする化学気相成長装置。 2 可動部分が、個々の試料基板毎に独立して上、  
    下動可能に設けられ、サセプタの回転方向の所定角度位
    置にあるとき個々に上下動運動を付与されるようト構成
    されている実用新案登録請求の範囲第1項記載の化学気
    相成長装置。 3 可動部分が、サセプタと同一材質で形成され、てい
    る実用新案登録請求の範囲第1または2項記載の化学気
    相成長装置。
JP5600883U 1983-04-14 1983-04-14 化学気相成長装置 Granted JPS59160564U (ja)

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JP5600883U JPS59160564U (ja) 1983-04-14 1983-04-14 化学気相成長装置

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JP5600883U JPS59160564U (ja) 1983-04-14 1983-04-14 化学気相成長装置

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JPS59160564U true JPS59160564U (ja) 1984-10-27
JPS6142920Y2 JPS6142920Y2 (ja) 1986-12-05

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ID=30186333

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61132595A (ja) * 1984-11-28 1986-06-20 Toshiba Corp 有機金属熱分解気相結晶成長装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS61132595A (ja) * 1984-11-28 1986-06-20 Toshiba Corp 有機金属熱分解気相結晶成長装置

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JPS6142920Y2 (ja) 1986-12-05

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