JPS617578U - 液相エピタキシヤル成長装置 - Google Patents

液相エピタキシヤル成長装置

Info

Publication number
JPS617578U
JPS617578U JP8971184U JP8971184U JPS617578U JP S617578 U JPS617578 U JP S617578U JP 8971184 U JP8971184 U JP 8971184U JP 8971184 U JP8971184 U JP 8971184U JP S617578 U JPS617578 U JP S617578U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
epitaxial growth
liquid phase
holder
phase epitaxial
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8971184U
Other languages
English (en)
Inventor
幸司 米田
Original Assignee
三洋電機株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 三洋電機株式会社 filed Critical 三洋電機株式会社
Priority to JP8971184U priority Critical patent/JPS617578U/ja
Publication of JPS617578U publication Critical patent/JPS617578U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
図は本考案の一実施例を説明するためのもので、第1図
は斜視図、第2図及び第3図A, Bは断面図である。 1・・・基板ホルダ、2〜7・・・基板保持部、8・・
・メルト保持具、9〜12・・・メルト溜。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 一生面に複数の基板保持部が形成された基板ホルタと該
    基板ホルダの一主面上に位置すると共に複数のメルト溜
    が形成されたメルト保持具とを備え、上記基板ホルダと
    上記メルト保持具とを相対的に摺動せしめることにより
    上記基板保持部の一つに載置された基板上に複数のエビ
    タキシャル層を形成せしめる装置であって、上記基板保
    持部のうち少なくとも上記メルト溜の数と同数のものは
    一方向に配列されていることを特徴とする液相エピタキ
    シャル成長装置。
JP8971184U 1984-06-15 1984-06-15 液相エピタキシヤル成長装置 Pending JPS617578U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8971184U JPS617578U (ja) 1984-06-15 1984-06-15 液相エピタキシヤル成長装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8971184U JPS617578U (ja) 1984-06-15 1984-06-15 液相エピタキシヤル成長装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS617578U true JPS617578U (ja) 1986-01-17

Family

ID=30644044

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8971184U Pending JPS617578U (ja) 1984-06-15 1984-06-15 液相エピタキシヤル成長装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS617578U (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS617578U (ja) 液相エピタキシヤル成長装置
JPS5848739U (ja) 剥離材の構造
JPS58124444U (ja) 導電性粘着テ−プ
JPS5918488U (ja) 電子機器の基板保持構造
JPS58168571U (ja) 液相エピタキシヤル成長用装置
JPS6088537U (ja) 液相エピタキシヤル成長装置
JPS5818388U (ja) 配線基板保持装置
JPS5837138U (ja) 半導体素子用キヤリアラツク
JPS59128730U (ja) 液相成長装置
JPS58138332U (ja) 液相成長装置
JPS59129882U (ja) 液相エピタキシヤル成長装置
JPS5995700U (ja) 電子部品装着装置
JPS59119549U (ja) 予備ヒユ−ズのホルダ−
JPS59171781U (ja) 水面転写装置
JPS58166962U (ja) はんだ槽の酸化物除去装置
JPS6031964U (ja) ウエハ−ポリッシング装置用重り構造
JPS6088550U (ja) キヤリアテ−プ
JPS58146570U (ja) 接着剤塗布装置
JPS6076033U (ja) 液相エピタキシヤル成長装置
JPS6092822U (ja) 半導体素子の液相結晶装置
JPS6011448U (ja) 半導体装置
JPS58175680U (ja) 配線支持具
JPS58134743U (ja) 検出器保持装置
JPS5968754U (ja) 線材束解き用保持台
JPS6046955U (ja) 自動はんだ付け装置の予備加熱器