JPS59152734U - 多結晶シリコンウエハ用製造皿 - Google Patents
多結晶シリコンウエハ用製造皿Info
- Publication number
- JPS59152734U JPS59152734U JP4793083U JP4793083U JPS59152734U JP S59152734 U JPS59152734 U JP S59152734U JP 4793083 U JP4793083 U JP 4793083U JP 4793083 U JP4793083 U JP 4793083U JP S59152734 U JPS59152734 U JP S59152734U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polycrystalline silicon
- wafer forming
- dish
- production plate
- silicon wafers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 title claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 title claims 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図乃至第3図は、本出願人が先に提案したスピン法
によるウェハの製造方法に係り、第1図は同法の実施装
置を示す断面説明図、第2図は同装置の製造皿を高速回
転させた場合断面説明図、第3′図は同製造皿低速回転
状態の断面説明図、第、4図と第5図は、この考案の第
1実施例に係る製造皿を示し、第4図は回器でウェハを
製造する設備例を示す一部断面説明図、第5図は第4図
V円内拡大説明図、第6図はこの考案の第2実施例に係
る製造皿の縦断面図である。 A・・・・・・皿本体、1・・・・・・製造皿、1a・
・・・・・ウェハ形成面、1b・・・・・・ウェハ形成
平面、IC・・・・・・傾斜面、2・・・・・・融液、
3・・・・・・融液薄層。
によるウェハの製造方法に係り、第1図は同法の実施装
置を示す断面説明図、第2図は同装置の製造皿を高速回
転させた場合断面説明図、第3′図は同製造皿低速回転
状態の断面説明図、第、4図と第5図は、この考案の第
1実施例に係る製造皿を示し、第4図は回器でウェハを
製造する設備例を示す一部断面説明図、第5図は第4図
V円内拡大説明図、第6図はこの考案の第2実施例に係
る製造皿の縦断面図である。 A・・・・・・皿本体、1・・・・・・製造皿、1a・
・・・・・ウェハ形成面、1b・・・・・・ウェハ形成
平面、IC・・・・・・傾斜面、2・・・・・・融液、
3・・・・・・融液薄層。
Claims (1)
- 所望雰囲気内にあって、皿本体を所要速度で回転させ、
この回転する皿本体のウェハ形成面にシリコン母材融液
を当該回転による遠心力によって拡径方向へ流動させる
ことにより所望径の融液薄層を形成し、これを固化する
ことにより多結晶シリコンウェハを製造するための製造
皿であって、上記皿本体のウェハ形成面を、ウェハ形成
平面と、その外周縁部に、外側へ向は下降して連続させ
た傾斜面とにより形成してなる多結晶シリコンウェハ用
製造皿。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4793083U JPS59152734U (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 多結晶シリコンウエハ用製造皿 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4793083U JPS59152734U (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 多結晶シリコンウエハ用製造皿 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59152734U true JPS59152734U (ja) | 1984-10-13 |
| JPH0142339Y2 JPH0142339Y2 (ja) | 1989-12-12 |
Family
ID=30178470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4793083U Granted JPS59152734U (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 多結晶シリコンウエハ用製造皿 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59152734U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004016836A1 (ja) * | 2002-08-12 | 2004-02-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | 板状シリコン、板状シリコンの製造方法、太陽電池および板状シリコン製造用基板 |
| JP2007176765A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Sharp Corp | 薄板製造用基板、薄板製造装置、および薄板製造方法 |
-
1983
- 1983-03-31 JP JP4793083U patent/JPS59152734U/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004016836A1 (ja) * | 2002-08-12 | 2004-02-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | 板状シリコン、板状シリコンの製造方法、太陽電池および板状シリコン製造用基板 |
| JP2007176765A (ja) * | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Sharp Corp | 薄板製造用基板、薄板製造装置、および薄板製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0142339Y2 (ja) | 1989-12-12 |
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