JPS59152638A - 化合物半導体の切断方法 - Google Patents
化合物半導体の切断方法Info
- Publication number
- JPS59152638A JPS59152638A JP58028027A JP2802783A JPS59152638A JP S59152638 A JPS59152638 A JP S59152638A JP 58028027 A JP58028027 A JP 58028027A JP 2802783 A JP2802783 A JP 2802783A JP S59152638 A JPS59152638 A JP S59152638A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound semiconductor
- sheet
- grooves
- cutting
- junction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H10P54/00—
Landscapes
- Dicing (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58028027A JPS59152638A (ja) | 1983-02-21 | 1983-02-21 | 化合物半導体の切断方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58028027A JPS59152638A (ja) | 1983-02-21 | 1983-02-21 | 化合物半導体の切断方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59152638A true JPS59152638A (ja) | 1984-08-31 |
| JPH0342508B2 JPH0342508B2 (enExample) | 1991-06-27 |
Family
ID=12237256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58028027A Granted JPS59152638A (ja) | 1983-02-21 | 1983-02-21 | 化合物半導体の切断方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59152638A (enExample) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62105446A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-15 | Sharp Corp | 半導体装置の製造方法 |
| US4914815A (en) * | 1988-02-23 | 1990-04-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing hybrid integrated circuits |
| US6829418B2 (en) | 2000-09-20 | 2004-12-07 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Optical waveguide circuit device |
| JP2005033196A (ja) * | 2003-06-19 | 2005-02-03 | Showa Denko Kk | 半導体ウエーハのダイシング方法および発光ダイオードチップ |
| JP2005167190A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd | 半導体ウェハのダイシング方法 |
| JP2008028139A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Ricoh Co Ltd | 半導体チップの製造方法、面発光型半導体レーザ、面発光型半導体レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2008235521A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体基板の割断方法及び太陽電池の割断方法並びに太陽電池 |
| JP2014238327A (ja) * | 2013-06-07 | 2014-12-18 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフトSiemens Aktiengesellschaft | 半導体ウェハをダイシングしてなる放射線検出器及びそのダイシング方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4940671A (enExample) * | 1972-08-24 | 1974-04-16 |
-
1983
- 1983-02-21 JP JP58028027A patent/JPS59152638A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4940671A (enExample) * | 1972-08-24 | 1974-04-16 |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62105446A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-15 | Sharp Corp | 半導体装置の製造方法 |
| US4914815A (en) * | 1988-02-23 | 1990-04-10 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing hybrid integrated circuits |
| US6829418B2 (en) | 2000-09-20 | 2004-12-07 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Optical waveguide circuit device |
| JP2005033196A (ja) * | 2003-06-19 | 2005-02-03 | Showa Denko Kk | 半導体ウエーハのダイシング方法および発光ダイオードチップ |
| JP2005167190A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co Ltd | 半導体ウェハのダイシング方法 |
| JP2008028139A (ja) * | 2006-07-21 | 2008-02-07 | Ricoh Co Ltd | 半導体チップの製造方法、面発光型半導体レーザ、面発光型半導体レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置 |
| JP2008235521A (ja) * | 2007-03-20 | 2008-10-02 | Sanyo Electric Co Ltd | 半導体基板の割断方法及び太陽電池の割断方法並びに太陽電池 |
| US8389320B2 (en) | 2007-03-20 | 2013-03-05 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method for fracturing semiconductor substrate, method for fracturing solar cell, and the solar cell |
| US8513047B2 (en) | 2007-03-20 | 2013-08-20 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method for fracturing semiconductor substrate, method for fracturing solar cell, and the solar cell |
| JP2014238327A (ja) * | 2013-06-07 | 2014-12-18 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフトSiemens Aktiengesellschaft | 半導体ウェハをダイシングしてなる放射線検出器及びそのダイシング方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0342508B2 (enExample) | 1991-06-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6413839B1 (en) | Semiconductor device separation using a patterned laser projection | |
| JP2780618B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体チップの製造方法 | |
| US12394765B2 (en) | Discontinuous patterned bonds for semiconductor devices and associated systems and methods | |
| CN101015070B (zh) | 制造半导体发光器件的方法以及采用该方法制造的器件 | |
| JP2914014B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体チップの製造方法 | |
| JP2748355B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体チップの製造方法 | |
| JP2861991B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体チップの製造方法 | |
| US20050263854A1 (en) | Thick laser-scribed GaN-on-sapphire optoelectronic devices | |
| JPS59152638A (ja) | 化合物半導体の切断方法 | |
| US20080305570A1 (en) | Led chip production method | |
| JP2765644B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体ウエハーの切断方法 | |
| JP3227287B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体チップの製造方法と窒化ガリウム系化合物半導体素子 | |
| JP3723347B2 (ja) | 半導体発光素子の製法 | |
| JP2748354B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体チップの製造方法 | |
| JPH1027769A (ja) | 半導体チップとその製造方法 | |
| JP3421523B2 (ja) | ウエハーの分割方法 | |
| JPH06283758A (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体ウエハーの切断方法 | |
| JP2859478B2 (ja) | 発光デバイス用の窒化ガリウム系化合物半導体ウエハーの切断方法 | |
| JP2005191551A (ja) | 半導体チップ製造方法および半導体チップ | |
| CN109427565B (zh) | 一种晶圆切割方法 | |
| JP2004363213A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JP3938101B2 (ja) | 発光素子の製造方法 | |
| JP3679626B2 (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体チップ | |
| CN104428115A (zh) | 单晶体切割方法 | |
| JP2004158872A (ja) | 発光素子 |