JPS59149627A - 曲面透光マスクの形成方法 - Google Patents

曲面透光マスクの形成方法

Info

Publication number
JPS59149627A
JPS59149627A JP2442983A JP2442983A JPS59149627A JP S59149627 A JPS59149627 A JP S59149627A JP 2442983 A JP2442983 A JP 2442983A JP 2442983 A JP2442983 A JP 2442983A JP S59149627 A JPS59149627 A JP S59149627A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
opaque film
curved
plate
curved transparent
forming
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2442983A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuhiro Hinotani
日野谷 勝弘
Masatake Kawamori
河森 允丈
Koji Miwa
孝司 三輪
Hiroshi Hayama
葉山 啓
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Denki Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Denki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd, Sanyo Denki Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP2442983A priority Critical patent/JPS59149627A/ja
Publication of JPS59149627A publication Critical patent/JPS59149627A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/142Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
(イ) 産業上の利用分野 本発明はカラーブラウン管の曲面状フェースプレート内
面に螢光体を施こ丁のに用いる曲面透光マスクの形成方
法(二関する。 (a)従来技術 現在実用に供されているカラーブラウン管の殆んどはシ
ャドウマスク型ブラウン管であって、それに使用される
シャドウマスクを螢光面露光用のフォトマスクとして用
いているが、ンヤドゥマスク型ブラウン管以外の方式、
例えばビームインテックス型カラーブラウン管ではシャ
ドウマスクを必要としないので別途所定のパターンが形
成されに螢光面露光用のフォトマスクを用意する必要が
ある。 前記フォトマスクパターンは、ブラウン管のフェースプ
レートの内面曲率に光学的に合っπ透光基板上に形成さ
れていることが光学歪を排除する上で必要である。 ところで、従来のフォトマスクは平面透光基板の上に施
しに不透明膜にフェースプレートの内面曲率を考慮して
エツチング等の処理により所定のマスクパターンを描く
ようにしているが、この方法では複雑な図形処理を必要
とするばかりでなく加工精度も低く満足なものが得られ
ないという欠点があった。 し1 発明の目的 本発明は上記欠点に鑑み為されたものであり、高精度の
フォトマスクを容易に得ることができるよう(二するこ
とを目的とする。 に)発明の構成 本発明はブラウン管の曲面状フェースプレート内面に螢
光体を施こすのに用いる曲面透菟マスクの形成方法であ
って、曲面透光板の一方の面(二施された不透明膜をV
−ザ光でトリミングすることにより所定のマスクパター
ンを得るようにしている。 (利実施例 本発明の実施例を第1図乃至第6図を参照しつつ説明す
る。 第1図は螢光体の露光工程を示してBす、(1)は露光
用の光妹、(2)はブラウン管のフェースプレート、空
は支持部材+41に載置されに曲面透孔マスクであって
、該曲面透孔マスク(3)は前記フェースブレー) +
21の内面(2a)の曲率と同一曲率になるように加工
された曲面透孔板(5)の一方の面に施されに不透明膜
(6)にマスクパターンを形成することによって構成さ
れる。 上記曲面透光マスク(3)は次のようにして形成される
。 曲面透光板(5)を構成する材料として硝子板を用いる
場合、まず透明な平面形状の板硝子を熱プレス等の手段
によりブラウン管の球面状のフェースプレート+2)の
内面(2a)の曲率と略同程度(二なるように前記板硝
子を変形させ、しかる後その曲面硝子板の表面及び裏面
を研削材が施された曲面研磨椀により、球面状フェース
プレート内面曲率と同一となるように研磨し、前記球面
状フェースプレート内面と光学的に対応するよう(ニレ
に曲面透光板を形成する。 もし、ブラウン管のフェースプレートの内面が非球面で
あってもそれに対廃した研磨面を創成することにより上
記の如き方法で容易に曲面透光板が得られる。 次に、上記のように形成された曲面透光板(5)の一方
の面、換言すれば露光工程に?いてブラウン管のフェー
スプレート(21の内面(2a)に対向する側の面に不
透明膜(6)を施す。この不透明膜を形成する材料とし
ては金属が適当である、そして前記不透明膜を施こす方
法としては、クローム、アルミニウム、銅、ニッケル等
の金属を真空蒸着法等の手段により行ない曲面透光板の
一方の面全体に榎って均一に
【例えば20 ODA程度
の厚さで】金属性不透明膜を形成する。 次シニ、上記不透明膜が施されに曲面透光板の不透明膜
面をレーザ光で所定のマスクパターンを得るようにトリ
ミングする。前記レーザ光としては、トリミング用YA
Gレーザ光が適当である。 トリミングに当っては曲面透光板を固定してRいて、レ
ーザ光の照射位置の移動を制御する方法が考えられるが
レーザ装置が大型な場合この方法は適当ではない。 従って、本発明では次のような方法でレーザ光によるト
リミングを行っている。 すなゎら、第2図(二示す如く三軸駆動可能な加工用テ
ーブル〔第2図に3いて矢印で示された(X、y、Z)
軸方間に移動0IJ能なテーブル〕に不透明膜を施した
曲面透光板を載置固定する。この三軸駆動デープルはN
C(数値側、@l)で高精度に制御される工作機械が良
く、例えばNGフライス盤を利用するのも奸策である。 また、前記三軸駆動テーブル以外に、二軸同時同転駆・
動可能なカ目工用テーブル〔第2図にどいて矢印X、Y
をそれぞれ軸にして回転可能なテープ!し〕を用いても
よい。 そして、固定位置にあるレーザ光t71に対し、不透明
膜(6)が前記レープ1光(7)に対向するように曲面
透光板(5)を前記三軸駆動テーブル或は二軸回転駆動
テーブルに載置固定し、その加工用テーブルを制御しな
がら、レーザ光(7)を不透明膜(61に照射すること
により、不透明膜(6)をトリミング−rる。これによ
って第6図に示される如く所定のマスクパターンが形成
されに曲面透光マスク13)が完成する尚、第2図及び
第6図で多くのドツトを付しに部分は不透明l換(6)
を示し、(8)はレーザ装置の一部を表わしている。 ト) 発明の効果 本発明の曲面透光マスクの形成方法は曲面透光板の一方
の面に施され1′:、不透明膜をV−ザ光でトリミング
すること(二より所定のマスクパターンを得るようにし
ているので、曲面透光マスクの形成が容易に行えるばか
りでなく、高精度の曲面送先マスクが得られるという効
果がある。
【図面の簡単な説明】
図面は回れも本発明に関するものであって、第゛1図は
螢光体の露光工程を示す要部断面図、第2図はトリミン
グの方法を示す為の曲面透光板の斜視図、第6図は完成
されに曲面透光マスクの斜視図である。 (2)・・・フェースプレート、 (3)・・・曲面透
もマスク′(6)・・・曲面透光板、 (6)・・・不
透明膜、 +71・・・V−ザンVシ。 戯8図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 il+  ブラウン管の曲面状フェースプレート内面に
    螢光体を施こすのに用いる曲面透光マスクの形成方法で
    あって、曲面透光板の一方の面に施された不透明膜をV
    ・−ザ光でトリミングすることにより所定のマスクパタ
    ーンを得るようにした曲面透光マスクの形成方法。 12+  固定位#にあるV−ザ光に対し前記不透明膜
    が施されに曲面透光板を駆動可能な加工用テーブルに載
    置し、該加工用テーブルを駆動させることによって前記
    不透明膜をトリミングすることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載の曲面透光マスクの形成方法。 13)前記加工用テーブルは二軸回転駆動可能な加工用
    テーブルであることを特徴とする特許請求の範囲第2項
    記載の曲面透光マスクの形成方法。 (4)前記加工用テーブルは三軸駆動可能な加工用テー
    ブルであることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載
    の曲面透光マスクの形成方法。
JP2442983A 1983-02-15 1983-02-15 曲面透光マスクの形成方法 Pending JPS59149627A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2442983A JPS59149627A (ja) 1983-02-15 1983-02-15 曲面透光マスクの形成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2442983A JPS59149627A (ja) 1983-02-15 1983-02-15 曲面透光マスクの形成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59149627A true JPS59149627A (ja) 1984-08-27

Family

ID=12137906

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2442983A Pending JPS59149627A (ja) 1983-02-15 1983-02-15 曲面透光マスクの形成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59149627A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0703596B1 (en) Method and apparatus for energy beam machining
JP2755610B2 (ja) 眼鏡レンズに記号及び/又はマークを施す方法及び該方法により製造された眼鏡レンズ
US3518083A (en) Method and apparatus for producing photolithographic structures,particularly on semiconductor crystal surfaces
JPS59149627A (ja) 曲面透光マスクの形成方法
JPS59104287A (ja) レ−ザ加工法
US4849642A (en) Method for repairing a pattern film
JPH05180739A (ja) 電子顕微鏡観察用試料の作成方法
JPH022559Y2 (ja)
US3610125A (en) Apparatus for producing photolithographic structures,particularly on semiconductor crystal surfaces
JPH09314450A (ja) 加工装置、加工方法及びレンズ
JPH0545710U (ja) ペリクル用フレーム
EP0770925B1 (en) Photoprocessing method and apparatus
JPH05217498A (ja) 螢光面パターン形成用補正レンズとその成形方法、およびその金型と金型の加工方法並びに加工装置
JPH05337671A (ja) レーザ加工装置
JPS60240125A (ja) 露光方法
JPS60172128A (ja) ブラツクストライプの形成方法
SU1106798A1 (ru) Способ получени штрихов на стекл нной подложке
DE1772112A1 (de) Verfahren zum Herstellen einer Fotolackmasse fuer Halbleiterzwecke
JPS6037615B2 (ja) 投影露光装置のピント合せ方法
JPH01251689A (ja) 被覆基板の両面へのパターン同時形成法
JPH0966383A (ja) レーザ加工装置
JPS58133A (ja) レ−ザアニ−リング用マスク
JPS5870268A (ja) ホログラムデイスクノ作製方法
JPH02114429A (ja) カラー表示用pdpの螢光体層用凹部形成方法
JPH03258600A (ja) フォト自動製図機