JPS59142874A - 超音波処理装置 - Google Patents
超音波処理装置Info
- Publication number
- JPS59142874A JPS59142874A JP1735083A JP1735083A JPS59142874A JP S59142874 A JPS59142874 A JP S59142874A JP 1735083 A JP1735083 A JP 1735083A JP 1735083 A JP1735083 A JP 1735083A JP S59142874 A JPS59142874 A JP S59142874A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultrasonic
- processing
- cleaning
- liquid
- cleaning liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Apparatuses For Generation Of Mechanical Vibrations (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は超音波処理装置、たとえば、被処理物を現像、
エツチング、洗浄等する処理液中に浸漬させかつ処理液
を超音波振動させて処理効果を高める構造の超音波処理
装置に関する。
エツチング、洗浄等する処理液中に浸漬させかつ処理液
を超音波振動させて処理効果を高める構造の超音波処理
装置に関する。
周知のように、超音波洗浄方法は機械加工部品。
ガラス加工部品等種々の分野で、被処理物を洗浄する装
置として使用されている。
置として使用されている。
しかし、従来の超音波洗浄装置では、処理液である洗浄
液にチタン、フェライトからなる超音波振動子（振動子
）で発生させられた超音波を伝播する超音波伝播部分は
ステンレス鋼板等の金属で構成されている（場合によっ
ては、直接振動子力を洗浄液中に入っている。）。
液にチタン、フェライトからなる超音波振動子（振動子
）で発生させられた超音波を伝播する超音波伝播部分は
ステンレス鋼板等の金属で構成されている（場合によっ
ては、直接振動子力を洗浄液中に入っている。）。
この為処理液に接触する超音波伝播部分表面レマ超音波
キャビテイーショｙ現象等により浸食シ、洗浄液中に脱
落し、不純物として溶は込み、被処理物に強く衝突して
被処理物に物理的ダメージを与えたり、あるいは再付着
して汚染する。
キャビテイーショｙ現象等により浸食シ、洗浄液中に脱
落し、不純物として溶は込み、被処理物に強く衝突して
被処理物に物理的ダメージを与えたり、あるいは再付着
して汚染する。
特に、高清浄度を要求し、かつ、不純物の混入を問題と
する半導体素子製造工程では前記問題点が重要となる。
する半導体素子製造工程では前記問題点が重要となる。
すなわち、摩耗物が洗浄液中に混入すると、摩耗物は超
音波振動によって激しく被処理物である半導体薄板（ウ
エノ・）に衝突することから、ウエノ・表面に物理的ダ
メージを与える。
音波振動によって激しく被処理物である半導体薄板（ウ
エノ・）に衝突することから、ウエノ・表面に物理的ダ
メージを与える。
たとえば、ホトレジストによるマスクツζターンを部分
的に損傷させると特性が高く、かつ信頼度の高い素子形
成が不可能となる。また、摩耗物によるウエノ・の再付
着は素子製造歩留の低下を招く、特に摩耗物が金属微粒
子であることから導電性の異物となり、ショート不良の
原因物質と１−て作用（、好ましくないっ したがって、本発明の目的は超音波キャビテーションに
よる摩耗が極めて少）【＜、耐食性に優れ、絶縁性であ
る物質で処理液に接触する超音波伝播部分を構成イろこ
とによって、清浄度の高い処理液中での処理を可能とし
、被処理物の損傷や破損を防止、することのできる超音
波処理装置を提供することにある。
的に損傷させると特性が高く、かつ信頼度の高い素子形
成が不可能となる。また、摩耗物によるウエノ・の再付
着は素子製造歩留の低下を招く、特に摩耗物が金属微粒
子であることから導電性の異物となり、ショート不良の
原因物質と１−て作用（、好ましくないっ したがって、本発明の目的は超音波キャビテーションに
よる摩耗が極めて少）【＜、耐食性に優れ、絶縁性であ
る物質で処理液に接触する超音波伝播部分を構成イろこ
とによって、清浄度の高い処理液中での処理を可能とし
、被処理物の損傷や破損を防止、することのできる超音
波処理装置を提供することにある。
以下実施例により本発明を説明する。
図面は本発明による投込み形超音波振動子方式による超
音波洗浄装置の要部断面図を示す。
音波洗浄装置の要部断面図を示す。
構成について説明すると、超音波キャビテ−ションに対
し、耐食性のある石英で構成された洗浄槽１に被処理液
である洗浄液２が収容されており、洗浄液２中に試料台
３上に被処理物である被洗浄物４がセットされている。
し、耐食性のある石英で構成された洗浄槽１に被処理液
である洗浄液２が収容されており、洗浄液２中に試料台
３上に被処理物である被洗浄物４がセットされている。
一方、超音波振動発生源である超音波発生機の超音波振
動子（撮動子）５は洗浄液２中にその先端を浸漬させて
いる。また、洗浄液２に超音波エネルギーを伝播する振
動子５０表層部である超音波伝播部６はセラミックスの
薄い層で構成されている。また、振動子５が超音波振動
する為の電力供給は超音波電源７より供給される。
動子（撮動子）５は洗浄液２中にその先端を浸漬させて
いる。また、洗浄液２に超音波エネルギーを伝播する振
動子５０表層部である超音波伝播部６はセラミックスの
薄い層で構成されている。また、振動子５が超音波振動
する為の電力供給は超音波電源７より供給される。
超音波洗浄方法について説明すると、超音波電源７から
振動子５へ電力を供給すると、振動子５が超音波撮動し
、その超音波振動エネルギーが、超音波伝播部６から、
洗浄液２に伝播され、洗浄液２が超音波振動する。洗浄
液２中にある被洗浄物４はどの洗浄液２の超音波エネル
ギーにより洗浄される。
振動子５へ電力を供給すると、振動子５が超音波撮動し
、その超音波振動エネルギーが、超音波伝播部６から、
洗浄液２に伝播され、洗浄液２が超音波振動する。洗浄
液２中にある被洗浄物４はどの洗浄液２の超音波エネル
ギーにより洗浄される。
本発明では、洗浄液２に超音波を伝播する超音波伝播部
６が耐食、耐摩耗性のセラミックスで構成されているた
め、この’ｆ’ｉｌｓ分が超音波キャビティージョン現
象により浸食されることが従来のチタン、フェライト、
ステンレスに比較して極めて少なくなる。この結果、洗
浄液２中に異物としてセラミックス微粒子が溶は込まな
いため、清浄な超音波洗浄が可能となった。（−たがっ
て、被洗浄物４に従来のような超音波伝播部の脱落物質
が激しく衝突することもなくなるため、被洗浄物が物理
的ダメージを受けることがなくなム。また、洗浄液中に
超音波伝播部の脱落物質がほとんどないことから、洗浄
液中から被洗浄物を引き上げる際に再付着することもな
く、被洗浄物の汚染も防［ヒできる。また、仮り忙わず
かの脱落物質が生じ、これが被洗浄物に付着しても絶縁
性異物であるところから電気的ショートが発生する介在
物とはならない。
６が耐食、耐摩耗性のセラミックスで構成されているた
め、この’ｆ’ｉｌｓ分が超音波キャビティージョン現
象により浸食されることが従来のチタン、フェライト、
ステンレスに比較して極めて少なくなる。この結果、洗
浄液２中に異物としてセラミックス微粒子が溶は込まな
いため、清浄な超音波洗浄が可能となった。（−たがっ
て、被洗浄物４に従来のような超音波伝播部の脱落物質
が激しく衝突することもなくなるため、被洗浄物が物理
的ダメージを受けることがなくなム。また、洗浄液中に
超音波伝播部の脱落物質がほとんどないことから、洗浄
液中から被洗浄物を引き上げる際に再付着することもな
く、被洗浄物の汚染も防［ヒできる。また、仮り忙わず
かの脱落物質が生じ、これが被洗浄物に付着しても絶縁
性異物であるところから電気的ショートが発生する介在
物とはならない。
なお、本発明は前記実施例に限定されない。たとえば、
超音波伝播部６は耐摩耗性、耐薬品性に優れかつ絶縁体
である四ふつ化エチレン、塩化ビニル等の樹脂であって
もよい。この場合、これらの物質が超音波振動を吸収し
て振動を減衰させることのないように、超音波伝播部６
の厚さを薄くする必要がある。
超音波伝播部６は耐摩耗性、耐薬品性に優れかつ絶縁体
である四ふつ化エチレン、塩化ビニル等の樹脂であって
もよい。この場合、これらの物質が超音波振動を吸収し
て振動を減衰させることのないように、超音波伝播部６
の厚さを薄くする必要がある。
また、本発明は洗浄以外の分野、たとえばエツチング、
現像等のウェット処理全搬に対しても適用することがで
きる。
現像等のウェット処理全搬に対しても適用することがで
きる。
以上のよつＶＣ１本発明によれば、超音波振動子の超音
波伝播部分の劣化が極めて少ない超音波処理装置である
ことから、超音波伝播部分のキャビティージョン脱落に
よる処理液の汚染が少ないため、被処理物の破損および
汚染は起きず、効果的で信頼度が高い超音波処理を行な
うことができる。
波伝播部分の劣化が極めて少ない超音波処理装置である
ことから、超音波伝播部分のキャビティージョン脱落に
よる処理液の汚染が少ないため、被処理物の破損および
汚染は起きず、効果的で信頼度が高い超音波処理を行な
うことができる。
したがって、本発明は半導体素子製造工種において用い
れば半導体素子製造の歩留の向上を図ることができる。
れば半導体素子製造の歩留の向上を図ることができる。
図面は本発明の一実施例による超音波洗浄装置の要部を
示す断面図である。 １・・・洗浄槽、２・・・洗浄液、３・・・試料台、４
・・・被洗浄物、訃・・超音波振動子、６・・・超音波
伝播部、７・・・超音波電源。
示す断面図である。 １・・・洗浄槽、２・・・洗浄液、３・・・試料台、４
・・・被洗浄物、訃・・超音波振動子、６・・・超音波
伝播部、７・・・超音波電源。
Claims (1)
- １、被処理物を処理する処理液を収容する処理槽と、前
記処理液中に超音波振動子を浸漬させてなる超音波発生
機と、を有する超音波処理装置において、前記超音波振
動子の少なくとも処理液に接触する超音波振動子部分は
耐食性、耐摩耗性に優れかつ絶縁性の樹脂またはセラミ
ックスがらなっていることを特徴とする超音波処理装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1735083A JPS59142874A (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 超音波処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1735083A JPS59142874A (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 超音波処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59142874A true JPS59142874A (ja) | 1984-08-16 |
Family
ID=11941593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1735083A Pending JPS59142874A (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 超音波処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59142874A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6146368A (ja) * | 1984-08-09 | 1986-03-06 | Nippon Steel Corp | 溶融金属の超音波振動装置 |
-
1983
- 1983-02-07 JP JP1735083A patent/JPS59142874A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6146368A (ja) * | 1984-08-09 | 1986-03-06 | Nippon Steel Corp | 溶融金属の超音波振動装置 |
| JPH0478394B2 (ja) * | 1984-08-09 | 1992-12-11 | Nippon Steel Corp |
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