JPS59134509A - 絶縁電線の製法 - Google Patents

絶縁電線の製法

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JPS59134509A
JPS59134509A JP1029083A JP1029083A JPS59134509A JP S59134509 A JPS59134509 A JP S59134509A JP 1029083 A JP1029083 A JP 1029083A JP 1029083 A JP1029083 A JP 1029083A JP S59134509 A JPS59134509 A JP S59134509A
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JP
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wire
ultraviolet
coating
insulated wire
varnish
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Application number
JP1029083A
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English (en)
Inventor
池野 忍
太郎 福井
今津 強
正志 中村
木本 善治
望 今西
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、絶縁電線の製法に関するものである。
〔背景技術〕
従来、絶縁電線は多量の溶媒を含んだ溶媒型ワニスを素
線に塗布し、高温に保たれた加熱炉中で乾燥硬化させる
という工程をくりかえすことにより製造されていた。し
かしながら、このような従来の方法では多量の溶媒が揮
散するため、はげしい臭気を生じ安全衛生上問題となっ
ていた。また、製造速度が遅いということも問題となっ
ていた。
このため紫外線硬化型の無溶剤ワニスを用いて絶縁電線
を製造する方法が開発され、一部で実施されている。す
なわち、この方法は紫外線硬化型ワニスを入れたワニス
槽中に素線を通してその外周に絶縁ワニスを付着させ、
ついで、これに紫外線照射して付着ワニスを硬化させそ
れによって素線を絶縁被膜で被覆するという方法である
。この方法は素線を絶縁ワニス中を通すことにより付着
させることにより絶縁被覆するため素線の通過速度が速
くなると絶縁ワニスの付着むらが生じ、それによって均
一な絶縁被覆ができないという問題が生じていた。
〔発明の目的〕
この発明は、このような事情に鑑みなされたもので絶縁
被膜の膜厚の部分的なむらの発生を防止することをその
目的とする。
〔発明の開示〕
この発明の絶縁電線の製造方法は塗装に適した粘度に加
熱された無浴剤タイプの紫外線硬化型絶縁ワニスを素線
に加圧状態で塗布して塗布被膜を形成する工程と、この
塗布被膜に紫外線を照射して硬化させる工程を備えた絶
縁電線の製法をその要旨とするものである。
すなわち、この発明は素線を単に紫外線硬化型絶縁ワニ
スを通すことにより絶縁ワニスを付着させるというもの
ではなく、紫外線硬化型の絶縁ワニスを素線に加圧状態
で塗布して絶縁被膜を形成するため素材導線の線速をあ
げても絶縁ワニスの付着むらを生じない。したがって、
高速で素材導線をはしらせる時においても均一な絶縁被
覆をすることができるようになる。
つぎに、この発明を実施例にもとづいて説明する。
第1図はこの発明の一実施例の構成図である。
図において1は送出ボビンであり、この送出ボビン1か
ら素線2が矢印A方向に送り出される。3は素線2の洗
浄用の洗浄槽である。4は素線2に絶縁ワニスを塗布す
る塗布槽(第2図参照)である。この塗布槽41d底部
にダイス5を備えており、その上方にそれ自身の案内孔
6をダイス5のダイス孔7に合わせた状態でダイスポイ
ント8が設けられている。第2図にもみるように、この
ダイスポイント8はダイスポイント支持台9に固定され
ており、ダイスポイント支持台9は、バネ1oの作用に
よりダイスポイント8とダイス5との間隔が所定の間隔
になるように設定している。ダイスポイント支持台9と
塗布槽4の底部との間には、無溶剤タイプの紫外線硬化
型絶縁ワニス11が、塗布槽4とパイプ12番こより連
結されている溶融槽13から所定の圧力(最高5kg/
cJ、通常1kg/cIi)で送りこまれており、この
ワニス11がダイスポイント8とダイス5の間において
そこを通過する素線2に付着する。すなわち、溶融槽1
3ではワニスを所定温度に加熱撹拌し、加圧により塗布
槽4に送り込む。溶融槽13の温度は、ワニス11の熱
安定性を考慮して150℃以下に設定される。好ましい
のはioo’c以下である。そして、ワニス11が付着
された素線2は、ダイス5を通過する際にそのダイス孔
7によってワニス11の膜厚を均一に設定され、所定の
膜厚の塗膜を有した状態でダイス5から送り出されるよ
うになっている。この場合、ダイスポイント8は前記の
ようにその案内孔6をダイス5のダイス孔7に合わせて
設けられているため、素線2をダイス孔7の適正位置に
送りこむことができる。したがって、絶縁ワニス11に
よる塗膜厚を均一に設定しうる。
浴融槽13[ば、ワニ711を撹拌し、ワニス温度を均
一にするだめの撹拌モータ14と、溶融されたワニス1
1を所定の圧力で塗布槽4へ送るための圧縮空気送入パ
イプ15を備えている。16は撹拌羽根である。なお、
塗布槽4および溶融槽13の外周面にはヒータ17が設
けられている。
18は、塗布槽4で絶縁ワニス11が塗布された素線2
に紫外線を照射して塗布された絶縁ワニス11を硬化さ
せる紫外線照射装置である。この紫外線照射装置18は
、第3図および第4図に示すように、ランプハウス19
内に平面形状が楕円状の反射板20を形成し、その楕円
の一方の焦点に紫外線ランプ21を配設し、他方の焦点
を、絶縁ワニスが塗布された素線2が通過するように構
成されている。この素線2は紫外線透過性を有する石英
、ガラス等からなるパイプ22中を通過するようになっ
ており、このパイプ22内には、不活性ガスパイプ23
1から不活性ガス(窒素、アルゴン、炭酸ガス)が送り
込まれ密封されるようになっている。上記のパイプ22
の上部および下部は、金属もしくはプラスチレフ性の蓋
23,24で密封されている。25け蓋23.24とパ
イプ22とを気密シールするためのシーラー、26il
−j:ランプ21を空冷するための空気孔である。この
紫外線照射装置18は平面形状が楕円状の反射板2゜の
楕円の一方の焦点に紫外線ランプ21を配設し、他方の
焦点を、絶縁ワニス11が塗布された素線2を通過させ
るようにするため、紫外線ランプ21から投射された紫
外線が素線2にほぼ全周から集光されるようになりワニ
ス11の乾燥効率が大幅に向上するようになる。また、
パイプ22内に不活性ガスを入れることにより、空気中
の酸素によってワニス11が酸化されるのを防ぐことが
できるようになる。しだがって紫外線硬化型ワニス11
としてラジカル反応により重合硬化するものを用いても
何ら支障が生じなくなる。
この構成において送出ボビン1から送出された素線2は
洗浄槽3にはいって洗浄され、ついで塗布槽4にはいる
。この塗布槽4内において素線2に絶縁ワニス11が付
着されその状態でダイス5から送り出される際に、絶縁
ワニス11による塗膜の膜厚が所定の値に詞節される。
そして、絶縁ワニス塗膜が形成された素線2は紫外線照
射装置18内に送り込まれて紫外線照射され、それによ
って塗膜が硬化して絶縁被膜化するため絶縁電線となる
。このようにして得られた絶縁電線は、巻取ボビン27
に巻き取られる。
この実施例によれば、絶縁ワニス11を加熱してその粘
度をできるだけ下げ、かつワニス11を加圧した状態で
素線2に付着させるため、素線2を高速走行させた場合
でも絶縁ワニス11が均一に付着する。したがって、絶
縁被膜の膜厚のばらつきが生じ々い。
また、使用するワニスが無溶剤タイプの紫外線硬化型絶
縁ワニスであるため溶剤型ワニスのような溶剤の揮散に
よる悪臭が生じない。しだがって、安全衛生上の問題も
生じないのである。そのうえ、この実施例は、ダイスポ
イント8とダイス5を用い、ダイスポイント8によって
素線2を、ダイス5のダイス孔7の中心を通過させるよ
うにするため絶縁ワニス塗膜の膜厚のバラツキが生じな
い。
したがって、均一な絶縁被膜が得られるようになる。そ
のうえ、紫外線照射装置として平面形状が楕円状の反射
板20を有するものを用い、その楕円の焦点の一方に紫
外線ランプ21を設け、他方を、絶縁ワニス塗布素線2
が通過するようにしているため、紫外線ランプ21によ
るワニスの乾燥効率が大幅に向上し、紫外線照射時間の
短縮化も実現しうるようになる。
なお、紫外線照射装置(第3図参照)18のノ・ウス1
9および反射板20は二つ割りしうるようになっており
、その二つ割りの割り目18aに紫外線をしやへいする
ためのしやへい板を配挿するようにしてもよい。また、
この実施例で用いる無溶剤タイプの紫外線硬化型絶縁ワ
ニス11は無溶剤タイプであるため、浴剤タイプのワニ
スニくうべると粘度が高く、室温下での粘度が5000
センナボイズ以上であったり、または半固体状であった
りする。このような場合、ワニスを適度に加温してその
粘度を下け、かつ、加圧塗布することが素線2の高速走
行時にピンホールなくワニスを塗布しうるため特に重要
になる。
また、この実施例では、素線2を塗布N4の上部から下
部に向って走行させているが、第5図に示すように素線
2を塗布槽4の下部から上部に向って走行させるように
してもよい。すなわち、塗布槽4の底部にダイスポイン
ト8を設けその真上にダイス5を設は素線2を塗布槽4
の下部から上部に向って走行させ、ついで塗布槽4の上
方に設けられた紫外線照射装置18内に入れて絶縁ワニ
スを硬化させるようにしてもよい。このようにすると塗
布槽4内において、絶縁ワニス11中に含捷れた気泡が
ワニス11の上方に移行するため、ピンホールレスで絶
縁ワニス11を素線2に塗布しうるという効果が得られ
るようになる。
以上のようにして得られた絶縁電線はそのまま製品とし
て巻取ってもよいし、また、その絶縁電線の絶縁被膜の
上に他の特性を示すようなワニスをダブルコートして複
数層の絶縁被膜を形成するようにしてもよい。
なお、前記の装置では紫外線照射装置18のパイプ22
内を、素線2を直線的に通過させているが、第6図に示
すようにパイプ22内にリターン滑車28を2個設け、
素線2をそのリターン滑車28で反転させて蛇行状に通
すようにしてもよい。
さらに第7図に示すように、リターン滑車28をパイプ
22外に出してパイプ22外で素線2を反転させ、ふた
たびパイプ22内を通過させるようにしてもよい。この
ように、素線2を、パイプ22内を蛇行状に通すことに
より塗膜が紫外線によってアフターキュアされ、絶縁ワ
ニス塗膜の強度の向上効果が得られるようになる。しか
しながら、この場合、最初のリターン滑車28に到達す
るまでに塗膜がある程度以上硬化していないとそのリタ
ーン滑車28によって塗膜が部分的に削られてしまう。
したがって、最初のリターン滑車28に到達するまでに
紫外線によって塗膜をある程度以上の硬度に硬化させる
ことが行われる。そのため、最初のリターン滑車28以
降の紫外線による塗膜の硬化は、アフターキュアとなる
。また、このようにリターン滑車28により素線2 を
蛇行状に通過させる場合の他の効果は、塗膜の密着性の
向上効果である。一般に、紫外線硬化塗膜は、硬化反応
が瞬間的に進行するため硬化歪が飯膜中に残留しそれに
よって密着性が熱硬化塗膜に比べて悪くなるという難点
を有している。しかしながら、このようにリターン滑車
28により蛇行状に通すことにより塗膜の残留歪が緩和
され、密着性の向上効果が得られるようになる。すなわ
ち、一般に紫外線ランプ21からは紫外線のみならず熱
として利用できる多量の赤外線および可視光線が放射さ
れている。このような熱線によりパイプ22中の温度は
かなり高くなっている。紫外線ランプ210種類等によ
りパイプ22内の温度は異なるが容易に200℃以上の
温度にすることができる。たとえば、高圧水銀ランプ(
入力エネルギー密度80 W/cm )の水冷タイプで
も300℃以上の温度を容易につくり得る。このような
高温雰囲気中を、素線2を蛇行状に通過させることによ
り特別な加熱装置を設けることなく紫外線硬化塗膜の硬
化歪を緩和させて密□着性の向上効果を得ることができ
る。また、塗膜のアフターキュア効果モ得ることができ
るようになる。なお、第6図および第7図では1本の素
線2をリターン滑車28により反転させているがパイプ
22内を通す素線2の数は1本に限るものではなく数本
の素線2を通すようにしてもよい。
まだ、前記の装置(第1図)では、素線2をそのまま塗
布槽4内に導いて塗布するようにしているが、第8図に
示すように塗布槽4の上部に予熱ヒーター29を設け、
塗布槽4にはいる前の素線2をワニス11の温度と同温
まで予熱してから塗布槽4内に送りこむようにしてもよ
い。すなわち、この予熱ヒーター29は、ダイスポイン
ト8から出た素線2にできるだけ近づけて配設された液
温測定センサー30.偏差指示計31.自動調節装置3
2および予熱ヒーター電源33に接続されており、液温
温度測定センサー30で素線2近傍のワニス温度を検出
し、この値と予め設定したワニス温度との差を偏差指示
計31で検出してその差に応じた変位量を出力し、それ
によって自動調節装置32により予熱ヒーター電源33
の出力電圧を自動調節するようになっている。このよう
にすることにより素線2の過熱および温度低下をなくし
、塗布槽4突入時の素線2の温度をワニス温度近傍に制
御しうるのである。このように素線2の温度をワニス温
度近傍に設定することにより、素線2に対するワニス1
1のぬれ性が向上し、塗膜の素線2に対する密着性が向
上するようになる。
さらに、前記の装置(第1図)は、塗布槽4と紫外線照
射装置18とを離して設けているが、第9図に示すよう
に、紫外線照射装置18のパイプ22の上蓋23の天井
部分をくりぬいて、その上蓋23を塗布槽4の底部のダ
イス5近傍部分に密着させ、塗布槽4を経てワニス塗布
された素線2を、空気に接触させることなく直接紫外線
照射装置18のパイプ22内に送りこむようにしてもよ
い。このようにすることによりパイプ22の上部が塗布
槽4の底部で密封された構造となるため、パイプ22内
の開口部はパイプ22の下蓋24の開口部24aだけと
なる。したがって、パイプ22内に不活性ガスを満す場
合に不活性ガスの洩れ量が少なくな抄、不活性ガス量が
少なくてすむようになる。また、ワニス塗布槽4と紫外
線照射装置18のパイプ22とが離れている前記の装置
では、塗布槽4でワニス塗布された素線2が第4図のよ
うにパイプ22の上蓋23の開口部23aからパイプ2
2内に送りこまれるのであるが、この場合に素線2がそ
の開口部23aの縁部に当ってワニス塗膜が削り取られ
ることがある。しかしながら@9図に示すように塗布槽
4とパイプ22とを直結することによりそのような弊害
が生じなくなる。
なお、素線2を下方から上方に送る場合には第10図に
示すような構造にすればよい。
つぎに、具体例について説明する。
まず、下記のようにして2種類のワニスを合成した。
(合成例1) 滴下ロート、温度計、冷却管、撹拌装置を備えた11の
四つフラスコに2,4トリレンジイソシアネート(以下
rTDIJと略す)200.9を入れ、これに希釈剤と
して共栄社油脂製うイトエヌテルPo−A 16.2 
、li+ 、ライトエステルEc−A79.319.ラ
イトエステル4 EG−A 23.9 Fおよび熱重合
禁止剤としてハイドロキノン0.5g加えた。他方、ポ
リオールとして、テトラエチレングリコール76.8f
j、1.4−ブタンジオール4.0.P、l−リメテロ
ールプロパン34.6.9の3種を混合溶解したのち滴
下ロートに入れ、撹拌しながら上記の四つロフラスコに
約30分かけて滴下した。滴下後ポリウレタン合成用触
媒としてジブチルスズジラウレー) 500ppmを添
加した。この触媒の添加により反応系の温度が上昇した
ため60℃以上の温度にならないように水冷を行った。
こののち、60℃で約1時間撹拌を続けた。このように
して得られた反応生成物に、2−ヒドロキシエチルアク
リレート(以下[HEAJと略す)49.9g、ブチル
セロソルブ25.4.9  の混合物をゆっくり滴下し
た。滴下後70℃で約1時間撹拌を続は光重合開始剤と
してのイルガキュア651(チバガイギー社製)15.
1を添加し、粘度が150ボイズ(80’Cにおける)
のワニスを得た(軟化温度224℃)。
(合成例2) インシアネート成分としてTDI 200.9とHEA
52.9gを用い、希釈剤としてライトエステルPO−
A99.7g、エチルカルピトール43.0gとライト
エステル4EG−A 24.9gを用い、九つポリオー
ルとしてテトラエチレングリコール56.8g、1 、
4−ブタンジオール9.7IIトトリメテロールプロパ
ン32.2Nを用いた。それ以外は合成例1と同様にし
て80℃での粘度が100ボイズのワニスを得た(軟化
温度200℃)。
つぎに、上記のワニスを用い、っぎのようにして絶縁電
線を得た。
〔実施例1〕 合成例1で得られたワニスを用い、第1図に示す装置を
利用し下記の条件で絶縁電線を製造した。
素線:0.120mの裸軟銅線、線速: 300 m4
 。
ワニス槽温度90℃、紫外線照射装置:出力5、6 K
W (80W/cm)の高圧水銀ランプ、照射雰囲気:
窒素ガス、空気圧: 1 kg/dこのようにして得ら
れた絶縁電線のピンホールをJIS C3003に規定
された方法で検査したところ、ピンホールが全く認めら
れず、まだ、偏肉も認められなかった。そして、絶縁被
膜の膜厚は8μmであり、軟化温度は224℃であった
〔比較例1〕 塗布槽内におけるワニスの加圧をOkg/’;−とした
。それ以外は実施例1と同様にして絶縁電線を製造した
。この場合、ワニスが無加圧状態で素線に塗布されるた
め得られた絶縁電線に、ピンホールは20以上認められ
た。したがって、ワニスの加圧が行われない状態では塗
膜を均一にピンホールなく塗布できないことがわかる。
〔実施例2〕 紫外線照射装置の反射板の形状を、第3図に示すように
平面形状が楕円状から平板状にし、300m/分の線速
で紫外線照射した。それ以外は実施例1と同様にして絶
縁電線を製造した。その結果、紫外線照射しても塗膜が
表面乾燥せず、巻取られた絶縁電線が融着する傾向がみ
られた。
〔実施例3〕 紫外線照射装置のバイブ内を窒素雰囲気にせず空気にし
たままで紫外線照射した。それ以外は実施例1と同様に
して絶縁電線を製造した。その結果、実施例2と同様、
塗膜が表面乾燥せず巻取った絶縁電線が融着するという
傾向がみられた。
〔実施例4〕 合成例2で得られたワニスを用いるとともに素線として
0.160罪の裸軟鋼線を用いた。それ以外は実施例1
と同様にして絶縁電線を製造した。得られた絶縁電線に
はピンホールはまったくみられず、また、絶縁被膜の膜
厚は10μmであり、偏肉はなかった。また、軟化温度
は200℃であった。
〔比較例2〕 塗布槽内におけるワニスの加圧をOkg/cI11トし
た。それ以外は実施例4と同様にして絶縁電線を製造し
た。この場合、ワニスが無加圧状態で素線に塗布される
ため、得られた絶縁電線にピンホールが20以上認めら
れた。
〔実施例5,6〕 紫外線照射装置の反射板を平板状にした(実施例5)、
また、紫外線照射装置のパイプ内を窒素雰囲気にせず空
気にした(実施例6)。それ以外は実施例4と同様にし
て絶縁電線を製造した。これらの場合、塗1漢が表面乾
燥せず巻取られた絶縁電線が融着するという傾向がみら
れた。
〔実施例7〕 紫外線照射装置として第6図に示すようなリターン滑車
を設けたものを用いた。そして、素線の線速を500m
/分に速めた。それ以外は実施例1と同様にして絶縁電
線を製造した。このようにして得られた絶縁電線には、
ピンホールがまったく認められず、まだ偏肉も認められ
なかった。そして絶縁被膜の膜厚は8μmであわ、軟化
温度は250℃であった。そのうえ、塗膜の密着性が良
好であり、つめでひつかいでもはがれなかった。
〔実施例8〕 リターン滑車をなくした他は実施例7と同様にして絶縁
電線を製造した。この場合、塗膜の偏肉はみられなかっ
たが、ピンホールが僅かみられ、絶縁被膜の軟化温度は
220℃に低下した。また、塗膜の密着性がやや悪く、
つめで強くひつかくとはがれるという傾向がみられた。
〔実施例9〕 合成例2で得られたワニスを用い、素線として0.16
0mの裸軟鋼線を用いた。それ以外は実施例7と同様に
して絶縁電線を製造した。得られた絶縁電線には、ピン
ホールが全くみられず、また、偏肉もみられなかった。
そして絶縁被膜の膜厚は10μmであり、軟化温度は2
20℃であった。
また、塗膜の密着性は良好でつめでひつかいてもはがれ
なかった。
〔実施例10) リターン滑車をなくした他は実施例9と同様にして絶縁
電線を製造した。この場合、塗膜の偏肉けみられなかっ
たがピンホールは僅かみられ絶縁被膜の軟化温度Vi1
95℃に低下した。また、塗膜の密着性が悪く、つめで
強くひつかくとはがれるという傾向がみられた。
〔実施例11) 塗布槽に第8図に示すように予熱ヒーターを設けて素線
を90℃に予熱するようにするとともに、線速を700
m/分に速めた。それ以外は実施例1と同様にして絶縁
電線を製造した。得られた絶縁電線には、ピンホールが
全くみられず、また、偏肉もみられなかった。そして絶
縁被膜の膜厚は10μmであり、軟化温度は220℃で
あった。また、塗膜の密着性は良好でつめでひつかいて
もはがれなかった。
〔実施例12] ワイヤーの予熱を行わなかった。それ以外は実施例11
と同様にして絶縁電線を製造した。その結果、塗膜の偏
肉はみられなかったが、絶縁電線のピンホールは多少み
られ、塗膜はつめでひっかくとはがれるという傾向がみ
られた。
〔実施例13〕 塗布槽に第8図に示すように予熱ヒーターを設けて素線
を90℃に予熱するようにするとともに、線速を700
m/分に速めた。それ以外は実施例4と同様にして絶縁
電線を製造した。得られた絶縁電線には、ピンホールが
全くみられず、また、偏肉もみられなかった。そして絶
縁被膜の膜厚は10μmであり、軟化温度は220℃で
あった。また、塗膜の密着性は良好でつめでひつかいて
もはがれなかった。
〔実施例14〕 ワイヤーの予熱を行わなかった。それ以外は実施例13
と同様にして絶縁電線を製造した。その結果、塗膜の偏
肉けみられなかったが、絶縁電線のピンホールは多少み
られ、塗膜はつめでひつかくとはがれるという傾向がみ
られた。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例の構成図、第2図はそれに
用いる塗布槽の拡大縦断面図、第3図は同じく紫外線照
射装置の水平断面図、第4図はA−A’断面図、第5図
は第1図の変形例の構成図、第6図および第7図は紫外
線照射装置の変形例の構成図、箔8図/li塗布槽の変
形例の構成図、第9図および第1θ図は塗布槽と紫外線
照射装置を連結した例の構成図である。 2・・・素線 3・・・洗浄槽 4・・・塗布槽5・・
・ダイス 8・・・ダイスポイント 11・・・絶縁ワ
ニス 13・・・溶融槽 18・・・紫外線照射装置 代理人 弁理士 松 本 武 彦 28 第6図     第7図 第9図 第10図 城陽市大字寺田小字中大小37の

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)塗装に適した粘度に加熱された無溶剤タイプの紫
    外線硬化型絶縁フェノを素線に加圧状態で塗布して塗布
    被膜を形成する工程と、この塗布被膜に紫外線を照射し
    て硬化させる工程を備えた絶縁電線の製法。
  2. (2)素線に対する塗布被膜の形成が、浴融槽によって
    所定の温度に昇温されたフェノが加圧状態で送り込まれ
    てくる塗布槽内を、素線を通すことにより行われる特許
    請求の範囲第1項記載の絶縁電線の製法。
  3. (3)塗布槽内に、ダイスとダイスポイントがそれぞれ
    ダイス孔と案内孔を合わした状態で上下に所定の距離を
    保って設けられていて、ダイスとダイスポイント間に紫
    外線硬化型絶縁フェノが満たされており、ダイスポイン
    トにより素線がダイス孔の中心を通過するように位置決
    めされる特許請求の範囲第2項記載の絶縁電線の製法。
  4. (4)塗布槽内に入る素線が、塗布槽内のフェノ温度と
    同程度の温度に加熱されるようになっている特許請求の
    範囲第2項または第3項記載の絶縁電線の製法。
  5. (5)紫外線照射が、平面形状が楕円状の反射板を備え
    その楕円の一方の焦点に紫外線ランプを有している紫外
    線照射装置の、反射板の他方の焦点を、素線を通過させ
    ることにより行う特許請求の範囲第1項ないし第4項の
    いずれかに記載の絶縁電線の製法。
  6. (6)素線が、反射板の他方の焦点に設けられた紫外線
    透過性のパイプ内を通過するようになっている特許請求
    の範囲第゛5項記載の絶縁電線の製法。
  7. (7)紫外線透過性パイプ内に不活性ガスが密封されて
    いる特許請求の範囲第6項記載の絶縁電線の製法。
  8. (8)素線が、紫外線透過性パイプの一力の開口から入
    って他方の開口近傍で反転して一方の開口に戻り、この
    一方の開口近傍でさらに反転して他方の開口から出てゆ
    くようになっている特許請求の範囲第6項または第7項
    記載の絶縁電線の製法。
  9. (9)塗布槽と紫外線照射装置が連結されていて、塗布
    槽内で紫外線硬化型絶縁ワニスを塗布された素線が外気
    に接触せずに直接紫外線照射装置の紫外線透過性パイプ
    内に入るようになっている特許請求の範囲第7項記載の
    絶縁電線の製法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016081654A (ja) * 2014-10-14 2016-05-16 住友電工ウインテック株式会社 塗布ヘッド及び絶縁電線の製造装置

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