JPS5912676B2 - チアジアゾ−ル誘導体の製法 - Google Patents
チアジアゾ−ル誘導体の製法Info
- Publication number
- JPS5912676B2 JPS5912676B2 JP6021375A JP6021375A JPS5912676B2 JP S5912676 B2 JPS5912676 B2 JP S5912676B2 JP 6021375 A JP6021375 A JP 6021375A JP 6021375 A JP6021375 A JP 6021375A JP S5912676 B2 JPS5912676 B2 JP S5912676B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- formula
- thionyl chloride
- compound
- yield
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は医薬品の中間体として用いられる次の構造式・
〜 □一↓剛Ｈｏ、、 １５で示されるチアジアゾール誘導体の改良された製法
に関するものである。
〜 □一↓剛Ｈｏ、、 １５で示されるチアジアゾール誘導体の改良された製法
に関するものである。
従来式（Ｉ）で示される目的化合物は一般式２０□ＣＨ
２ＣＨ■ＮＮＨＣＯ２Ｒ（１１）２５（式中Ｒは低級ア
ルキル基を表わす）で示されるヒドラゾン誘導体に塩化
チオニルを反応させることによつて製造されている。
２ＣＨ■ＮＮＨＣＯ２Ｒ（１１）２５（式中Ｒは低級ア
ルキル基を表わす）で示されるヒドラゾン誘導体に塩化
チオニルを反応させることによつて製造されている。
たとえばＤ、Ｌ。Ｐａｉｎ等がＪ、Ｃ、Ｓ、１９６５、
５１６６誌上に発表した方法によれば式（■）の化合物
中Ｒが工３０チルで示される物質に室温で直接塩化チオ
ニルを作用させると烈しいガスの発生を伴つて反応が起
こり、反応後過剰の塩化チオニルを沢去し、沢取物を有
機溶媒から再結晶して目的の式（Ｉ）の化合物を得てお
り、この化学反応は下記の反応式に３５よつて説明され
る。しかしながらＰａｉｎ等の製法には実際上式（１）
の化合物を製造するにあたり種々の欠点を有している。
５１６６誌上に発表した方法によれば式（■）の化合物
中Ｒが工３０チルで示される物質に室温で直接塩化チオ
ニルを作用させると烈しいガスの発生を伴つて反応が起
こり、反応後過剰の塩化チオニルを沢去し、沢取物を有
機溶媒から再結晶して目的の式（Ｉ）の化合物を得てお
り、この化学反応は下記の反応式に３５よつて説明され
る。しかしながらＰａｉｎ等の製法には実際上式（１）
の化合物を製造するにあたり種々の欠点を有している。
すなわち前記反応式によつて説明される通り目的の式（
１）の化合物の生成とともに塩酸、亜硫酸、炭酸、塩化
エチルなどのガスが副生するが、Ｐａｉｎ等の製法に従
えば式（）の化合物と塩化チオニルの反応は急速に進行
するためこれらのガスは一度に多量に発生しこれを吸収
処理するのは容易ではない。また反応式で示されるよう
に原料化合物１モルに対し塩化チオニルは２モルを必要
とするがＰａｉｎ等は４モル以上使用しているため反応
後目的の式（１）の化合物を得るために、これらの過剰
の塩化チオニルを沢去しているが塩化チオニルの有害性
を考慮すればこの操作は容易でなく、とくに工業的生産
には適さない。本発明者等はこのような欠点のないしか
も工業的に有利な改良法を種々検討した結果、テトラヒ
ドロフラン（ＴＨＦ）の存在下に式（）の化合物に塩化
チオニルを作用させれば反応はおだやかに進行するため
発生するこれら廃ガスの処理も容易となり、また使用す
る塩化チオニルもＰａｉｎ等のように大過剰を必要とせ
ず前記反応式で示される理論量よりやや過剰量を用いる
のみで良好な収率で目的物が得られるため反応後これら
の小過剰の塩化チオニルを水およびアルカリで分解中和
すれば、極めて容易な操作で目的の式（１）の化合物が
得られることを見出し本発明を完成した。
１）の化合物の生成とともに塩酸、亜硫酸、炭酸、塩化
エチルなどのガスが副生するが、Ｐａｉｎ等の製法に従
えば式（）の化合物と塩化チオニルの反応は急速に進行
するためこれらのガスは一度に多量に発生しこれを吸収
処理するのは容易ではない。また反応式で示されるよう
に原料化合物１モルに対し塩化チオニルは２モルを必要
とするがＰａｉｎ等は４モル以上使用しているため反応
後目的の式（１）の化合物を得るために、これらの過剰
の塩化チオニルを沢去しているが塩化チオニルの有害性
を考慮すればこの操作は容易でなく、とくに工業的生産
には適さない。本発明者等はこのような欠点のないしか
も工業的に有利な改良法を種々検討した結果、テトラヒ
ドロフラン（ＴＨＦ）の存在下に式（）の化合物に塩化
チオニルを作用させれば反応はおだやかに進行するため
発生するこれら廃ガスの処理も容易となり、また使用す
る塩化チオニルもＰａｉｎ等のように大過剰を必要とせ
ず前記反応式で示される理論量よりやや過剰量を用いる
のみで良好な収率で目的物が得られるため反応後これら
の小過剰の塩化チオニルを水およびアルカリで分解中和
すれば、極めて容易な操作で目的の式（１）の化合物が
得られることを見出し本発明を完成した。
本発明の製法をさらに説明すれば式（）の化合物をＴＨ
Ｆに懸濁させ塩化チオニルを加えて攪拌する。この際式
（）の化合物中Ｒがエチル以上のアルキル基で示される
原料を使用するときは、かなり発熱するため氷冷下に塩
化チオニルを加える。反応はさらに発熱を伴い始め不溶
の式（）の化合物は次第に溶消し、反応の進行とともに
式（１）４の化合物が析出し始めそのとき多少のガス発
生も認められる。反応温度があまり高いときは目的化合
物は着色し、また収率も低下するため適宜反応温度を調
節し１０〜２０℃を保つようにする。発熱は３０分〜１
時間で終了しさらに室温で２時間撹拌し反応を完結させ
る。また式（）の化合物中Ｒがメチルで示される原料を
使用するときは室温では塩化チオニルとの反応が進行し
ないため加温しなければならない。反応は４０℃附近よ
りガスの発生とともに進行し、このとき発熱を伴うため
反応温度を調節する。この場合の反応温度は４０〜５０
℃が最適であり、それ以上の温度では目的物は着色し収
率は低下する。発熱は３０分〜１時間で終了し、後同温
でさらに２時間加温撹拌し反応を完結させる。このよう
に反応は徐々に進行し、しかも副生する塩酸ガスはＴＨ
Ｆに包含されるためＰａｉｎ等の報告のような激しいガ
ス発生は起こらない。
Ｆに懸濁させ塩化チオニルを加えて攪拌する。この際式
（）の化合物中Ｒがエチル以上のアルキル基で示される
原料を使用するときは、かなり発熱するため氷冷下に塩
化チオニルを加える。反応はさらに発熱を伴い始め不溶
の式（）の化合物は次第に溶消し、反応の進行とともに
式（１）４の化合物が析出し始めそのとき多少のガス発
生も認められる。反応温度があまり高いときは目的化合
物は着色し、また収率も低下するため適宜反応温度を調
節し１０〜２０℃を保つようにする。発熱は３０分〜１
時間で終了しさらに室温で２時間撹拌し反応を完結させ
る。また式（）の化合物中Ｒがメチルで示される原料を
使用するときは室温では塩化チオニルとの反応が進行し
ないため加温しなければならない。反応は４０℃附近よ
りガスの発生とともに進行し、このとき発熱を伴うため
反応温度を調節する。この場合の反応温度は４０〜５０
℃が最適であり、それ以上の温度では目的物は着色し収
率は低下する。発熱は３０分〜１時間で終了し、後同温
でさらに２時間加温撹拌し反応を完結させる。このよう
に反応は徐々に進行し、しかも副生する塩酸ガスはＴＨ
Ｆに包含されるためＰａｉｎ等の報告のような激しいガ
ス発生は起こらない。
また反応終了後冷却下に水を加えて過剰の塩化チオニル
を分解しさらに水酸化アルカリ水溶液で反応液中の酸性
ガスを中和することによりこれらの有害な廃ガスは除去
されその後の処理は容易となる。目的の式（１）の化合
物は室温でほとんどＴＨＦに溶解しないため、中和後こ
れを沢過し、水洗するのみで良好な収率で得ることがで
きる。また▲溶中のＴＨＦは水から分離するためたやす
く回収される。（回収率約７０％）この反応においてＴ
ＨＦは他の有機溶媒、たとえばベンゼン、トルエン、ジ
オキサンなどの塩化チオニルに不活性な溶媒で稀釈して
用いてもよい。
を分解しさらに水酸化アルカリ水溶液で反応液中の酸性
ガスを中和することによりこれらの有害な廃ガスは除去
されその後の処理は容易となる。目的の式（１）の化合
物は室温でほとんどＴＨＦに溶解しないため、中和後こ
れを沢過し、水洗するのみで良好な収率で得ることがで
きる。また▲溶中のＴＨＦは水から分離するためたやす
く回収される。（回収率約７０％）この反応においてＴ
ＨＦは他の有機溶媒、たとえばベンゼン、トルエン、ジ
オキサンなどの塩化チオニルに不活性な溶媒で稀釈して
用いてもよい。
またＴＨＦを使用せず他の有機溶媒、たとえばトルエン
のみを用いて反応させるときは目的化合物は得られず単
に原料化合物が回収されるのみであり、この場合さらに
長い反応時間をかければ目的化合物が得られるがその純
度もまた収率も低い。式（１）の化合物は有機溶媒によ
つて再結晶されるが本発明によつて得られる目的物は高
い純度を有するためとくに再結晶する必要はない。次に
実施例によつて本発明を説明する。
のみを用いて反応させるときは目的化合物は得られず単
に原料化合物が回収されるのみであり、この場合さらに
長い反応時間をかければ目的化合物が得られるがその純
度もまた収率も低い。式（１）の化合物は有機溶媒によ
つて再結晶されるが本発明によつて得られる目的物は高
い純度を有するためとくに再結晶する必要はない。次に
実施例によつて本発明を説明する。
実施例 １
フタルイミドアセトアルデヒド メトキシカルボニルヒ
ドラゾン１３１ｆ７（０．５モル）をＴＨＦ２５０ｍ１
に懸濁し、塩化チオニル８０ｍ１（１．１モル）を加え
て攪拌し４０℃に加温する。
ドラゾン１３１ｆ７（０．５モル）をＴＨＦ２５０ｍ１
に懸濁し、塩化チオニル８０ｍ１（１．１モル）を加え
て攪拌し４０℃に加温する。
２０〜３０分後に発熱を伴つてガスの発生が起こり反応
温度は５０℃に達するも後次第に下がり始める。
温度は５０℃に達するも後次第に下がり始める。
さらに４５〜５０℃に加温して２時間反応させ、ついで
冷却し水３００ｍ１を滴下して過剰の塩化チオニルを分
解する。さらに３０％水酸化ナトリウム水溶液を滴下し
て反応液をＰＨ７．Ｏ前後に中和後沢過し、沢取物を水
およびメタノールで洗浄し乾燥すれば５−フタルイミド
−１・２・３−チアジアゾールが得られる。Ｍ．ｐ．２
２６℃（Ｄｅｃ．）収量９９７（収率８５．５％）との
反応をさらに増量して行つても製品の純度および収率は
、ほぼ同様の結果が得られた。
冷却し水３００ｍ１を滴下して過剰の塩化チオニルを分
解する。さらに３０％水酸化ナトリウム水溶液を滴下し
て反応液をＰＨ７．Ｏ前後に中和後沢過し、沢取物を水
およびメタノールで洗浄し乾燥すれば５−フタルイミド
−１・２・３−チアジアゾールが得られる。Ｍ．ｐ．２
２６℃（Ｄｅｃ．）収量９９７（収率８５．５％）との
反応をさらに増量して行つても製品の純度および収率は
、ほぼ同様の結果が得られた。
たとえばフタルイミドアセトアルデヒド メトキシカル
ボニルヒドラゾン１３．１ｋ９（５０モル）、ＴＨＦ２
３ｌｌ塩化チオニル８ｆ（１１０モル）を使用し同様に
反応させれば収量９．７ｋｇ（収率８３．７％）で同様
化合物が得られる。実施例 ２ フタルイミドアセトアルデヒド メトキシカルボニルヒ
ドラゾン１３１７をトルエン１２５ｍ１１ＴＨＦ１２５
ｍ１の混液に懸濁し塩化チオニル８０ｍ１を加えて実施
例１と同様方法で反応させれば同様化合物が得られる。
ボニルヒドラゾン１３．１ｋ９（５０モル）、ＴＨＦ２
３ｌｌ塩化チオニル８ｆ（１１０モル）を使用し同様に
反応させれば収量９．７ｋｇ（収率８３．７％）で同様
化合物が得られる。実施例 ２ フタルイミドアセトアルデヒド メトキシカルボニルヒ
ドラゾン１３１７をトルエン１２５ｍ１１ＴＨＦ１２５
ｍ１の混液に懸濁し塩化チオニル８０ｍ１を加えて実施
例１と同様方法で反応させれば同様化合物が得られる。
収量 ９３ｔ（収率８０．３％）
実施例 ３
フタルイミドアセトアルデヒド エトキシカルボニルヒ
ドラゾン５５７（０．２モル）をＴＨＦｌＯＯｍｌに懸
濁し、１０〜１５℃に冷却し塩化チオニル３２ｍ１（０
．４４モル）を加え攪拌する。
ドラゾン５５７（０．２モル）をＴＨＦｌＯＯｍｌに懸
濁し、１０〜１５℃に冷却し塩化チオニル３２ｍ１（０
．４４モル）を加え攪拌する。
発熱を伴つて反応は進行し原料はほとんどＴＨＦに溶解
する。１０〜１５゜Ｃで３０分攪拌すれば新たに結晶が
析出し始め２０分〜３０分後に発熱は終了する。
する。１０〜１５゜Ｃで３０分攪拌すれば新たに結晶が
析出し始め２０分〜３０分後に発熱は終了する。
さらに室温で２時間攪拌し冷却下に水８０ｍ１を滴下し
て過剰の塩化チオニルを分解しついで３０％水酸化ナト
リウム水溶液でＰＨ７．Ｏ前後に中和後沢過し、沢取物
を水およびメタノールで洗浄後乾燥すれば実施例１と同
様化合物が得られる。収量 ３８．５ｙ（収率８３．５
） 比較例 フタルイミドアセトアルデヒド メトキシカルボニルヒ
ドラゾン１３１７をトルエン２５０ｍ１に懸濁し塩化チ
オニル８０ｍ１を加え実施例１と同様方法で４０〜４５
℃で１時間、４５〜５０℃で８時間反応させ処理すれば
同様化合物６６７（収率５７％）が得られるも、著るし
く着色しているため溶媒で再結晶しなければならない。
て過剰の塩化チオニルを分解しついで３０％水酸化ナト
リウム水溶液でＰＨ７．Ｏ前後に中和後沢過し、沢取物
を水およびメタノールで洗浄後乾燥すれば実施例１と同
様化合物が得られる。収量 ３８．５ｙ（収率８３．５
） 比較例 フタルイミドアセトアルデヒド メトキシカルボニルヒ
ドラゾン１３１７をトルエン２５０ｍ１に懸濁し塩化チ
オニル８０ｍ１を加え実施例１と同様方法で４０〜４５
℃で１時間、４５〜５０℃で８時間反応させ処理すれば
同様化合物６６７（収率５７％）が得られるも、著るし
く着色しているため溶媒で再結晶しなければならない。
またこの場合実施例１と同様条件で反応させると原料化
合物８５ｙが回収され（回収率６５％）、目的化合物は
ほとんど得られない。
合物８５ｙが回収され（回収率６５％）、目的化合物は
ほとんど得られない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒは低級アルキル基を表わす）で示されるヒドラ
ゾン誘導体に塩化チオニルを作用させて次の構造式▲数
式、化学式、表等があります▼ で示されるチアジアゾール誘導体を製造するに当り、該
反応をテトラヒドロフランの存在下に実施することを特
徴とするチアジアゾール誘導体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6021375A JPS5912676B2 (ja) | 1975-05-22 | 1975-05-22 | チアジアゾ−ル誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6021375A JPS5912676B2 (ja) | 1975-05-22 | 1975-05-22 | チアジアゾ−ル誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51136670A JPS51136670A (en) | 1976-11-26 |
| JPS5912676B2 true JPS5912676B2 (ja) | 1984-03-24 |
Family
ID=13135638
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6021375A Expired JPS5912676B2 (ja) | 1975-05-22 | 1975-05-22 | チアジアゾ−ル誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5912676B2 (ja) |
-
1975
- 1975-05-22 JP JP6021375A patent/JPS5912676B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS51136670A (en) | 1976-11-26 |
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