JPS59123774A - 画像形成用材料の処理方法及び金属系画像の処理方法 - Google Patents

画像形成用材料の処理方法及び金属系画像の処理方法

Info

Publication number
JPS59123774A
JPS59123774A JP23479582A JP23479582A JPS59123774A JP S59123774 A JPS59123774 A JP S59123774A JP 23479582 A JP23479582 A JP 23479582A JP 23479582 A JP23479582 A JP 23479582A JP S59123774 A JPS59123774 A JP S59123774A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aluminum
image
etching
metal
photosensitive resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP23479582A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6017030B2 (ja
Inventor
Takao Taguchi
貴雄 田口
Koji Kumagai
熊谷 廣次
Yoshiyasu Ito
嘉泰 井藤
Takeo Kodaira
小平 武雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP23479582A priority Critical patent/JPS6017030B2/ja
Publication of JPS59123774A publication Critical patent/JPS59123774A/ja
Publication of JPS6017030B2 publication Critical patent/JPS6017030B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、導電パターンあるいは光学画像を形成ずろた
めの両百形成用材料の処理方法及び金属系1屯像の処理
方法に閣ずろものであり、シャープで、高lθ71!像
力を有し、フリンジのない両1象を迅速((、安Tしで
得る処理方法に関するものである。
本発明は装飾、情報伝達;て有効〕、【パター ンの形
成、および電気部品の作製に利用できる。利用されろ対
象としては、装飾品として有効;1もの(では美術工芸
品、建装伺伺などがある。また′lf報伝達媒体として
有効なものとしては、標、織、表示板、広告板、投影5
1月原版、光学マスク、印、刷版などがある。特に、1
照像形成後修正を要するEFI (+用製版用フィルム
の処理には有効である。電気部品の分野においては、プ
リンI・基板、プリントコイル、電極などの微細加工部
品の作製(て使用て゛ごる。
感光・准樹脂とエツチング技術を用いてパターン形成す
る技術は広く知られておつ、たとえば、被エツチング物
としてクロムを用いた光学マスク、銅を用いたブリメト
基板、ステンレスを用いた/ヤドウマスクのような精密
機械部品などは一般に工業的に作製されている。その他
チタン、鉄、ニッケル、亜鉛、銀、テルル、セレン、ビ
スマス、アルミニウム、ITO1酸化インジウムなどを
被エツチング物として使った製品が数多(生産され一〇
いる。この中で、アルミニウムは、遮光性が高く、蒸着
が容易であること、はくの形成が可能であるなど加工性
が良好であり、また無色金属光沢を有し装飾的効果も高
いことがら、特に有効である。
またアルミニウムは毒性がな(、コストが低いという利
点があり工業的にも有用又あろ、支持体上の金属系薄層
上に感光性樹脂を積層した画像形成用材料を用いて画像
を作製する方1宍には、感光性樹脂の現像と金属系薄層
のエツチングを同一系の液で行うものと、異った系で行
うものて大別される。後者では特開昭5O−I5972
0−@に報告されているように、ポリビニルシンナメー
トのような感光性樹脂を用い、パターン露光後まずキシ
レンのような溶剤で感光性樹脂を現像し、露出した金属
系薄層をアルカリなどで溶出する方法が報告されている
。しかし溶剤を使用することにより作業環境が悪化し廃
液処理が困難になり、また現像後の残液の除去を充分に
行わないと、画I象むらになる、などの欠点を有する。
したがって同一系の液すなわち水系で処理するものが好
ましい。すなわち感光性樹脂としてアルカリ現像あるい
は酸現像タイプのものを用い、アルカリある℃z 14
 J肢て゛アルミニウム系全厚をエツチングする方法が
好ましい3、しかし、アルミニウムのアルカリあるいは
酢の単数でのエツチング速度はあまり速くなく、また充
分なエツチング速度を得るため(・て液・惰度を高くす
ると、水系現像タイプの・へ光閤慎f指は強アノーカリ
や強酸にしま一般(τ劇1生がないために、膨・閏、剥
離などがおこるという欠点かあった。またアルミニウム
表面にはt”J化物による不動態1−が形成されており
、酸単数で(ま溶解せず、ピンホールか広がるようにエ
ツチングが行なわれ、上述した構成の画像形成材料用の
処叩液として・、ま好ましくない。一般的なアルミニウ
ムエツチング剤は大別すると、りん酸系、アルカリ系、
フッ素系の三系からなる。
りん酸系は、処理益度が高く、エツチング速度か遅い。
アルカリ系はエツチング速度は速(しうるが、感光性樹
脂の剥膜効果が高(、好ましくない。
フッ素系(′!エツチング速度が太き(剥1・雛効果も
アルカリ系よりも小さいが、従来の組成では、気?包の
発生が激しく、気泡付着によるエツチングの不均一ある
いは気泡による感光性樹脂の剥離を呈づ−ろようになる
。特開昭52−99i01号ではアルカリ溶液に、ハロ
ゲン系酸化剤を添加し、気泡の発生を防止し、エツチン
グ速度を向上させているが、エツチング速度が不充分で
あった。また特開昭5O−i39720号ではアルミニ
ウムにアルミニウムよりイオン化傾向の小さい金属を混
入させ、エツチング速度を向上させているか、その効果
ばあ用フィルムに応用する場合には、形成された金属系
何重をサイドエツチングによる修正すなわち減力を行う
ことができなければならない。減力では特に感光性樹脂
の剥離なしに速いエツチング速度を要するため・、特開
昭53−14002号、特開昭53 49508号では
リン酸あるいはjlI IJン酸にビスマスやアンチモ
ンを添加1−ることにより、速いエツチング速度が得ら
れるようにすることが報告されているが、添加効果は大
きくないだけてなく、ピンホールから横方向に進む夕〈
プのエツチングのため画像形状が悪く、1而像むらが生
じていた。
本発明者等はこれらの欠点に鑑み、迅速で均一に、しか
も感光団樹脂を脆化しないエツチングを行う処理方法・
;てついて検討を行い、上言己の目的(・て対応できる
処理法を見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明lま、支持体上(で、アルミニウム系金
属薄層を設げ、ざらに感蓋性:v11旨、層を設け、次
に、l感光性樹脂;※j[llよつ画′象露光を施し、
感光性樹脂層の可溶部分を現慣液によr)溶)(jイ除
去し、しかる後に露出したアルミニウム系’a> 属傅
層をエノチンク処即1−ろ際、(3)フン化水素酸、フ
ッ化アンモニウム、7ノ化水素アンモニウムの少すくト
も一撞の化合物を、あわせて05〜30・、・It%(
/l)酸比第二鋼02〜5irt%(つ)硝酸0.01
〜ろO〜・、・t%の三成分を少なくとも含有するアル
ミニウム系@属用エツチング液によりエツチングするこ
とを特徴とする画像形成用材料の処理方法、および支持
体上に画像状のアルミニウムを金7が薄層が存在し、さ
らにその上に同−両像状の樹脂層が存在′1−ろアルミ
ニウム系金寓ハターンに上記(3)、(イ)、(つ)、
の三成分を少なくとも含有するアルミニウム系金属相エ
ノチンダ液を接触させ、アルミニウム系金属薄層を横方
向にエツチングし、金属画像のサイズを減少させること
を特徴とする金属系画像の処理方法である。以下本発明
の詳細な説明する。
本発明の適用されうる画像形成用材料は(1)支持体、
ニー(2)アルミニウム系金属薄層(3)感光性樹脂層
の少なくとも三層から反る。それぞれ1(ついて述べろ
支持体としてはカラス、ポリエチレンテレフタレート、
ポリプロピレン、ポリエチVン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリチン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、
ポリメチルメタクリレートなどのフィルムまたは板が目
的にあわせて使用できる。
アルミニウム系金属薄層としては、アルミニウムを主体
とし、I■鉛、鉛、すす、テルル、ビスマス、鉄、ニッ
ケル、チタン、銅、クロムなどを合金として含有したも
の、あるいは窒化物、ホウ化物、炭化物、硫化物二およ
び塩類などが例示される。、このようなアルミニウム系
金属からなる薄+−の支持体上への設置には、真空蒸着
、スパッタリング、イオンブレーティ7ダ、無電解メッ
キ、ラミネートなどが適用され5ろ。層厚は薄すぎると
、光学a度が低下し、金T光沢がなくなり、電気伝導度
か低下しパターンの質が劣下する。ま1こ厚〕−ぎると
、エツチングIで時間がががっ処叩時[■jが長くなる
。適1−14され5る膜厚は5C〜3000久て好まし
くは6Oロ〜2oooXである。また支持体との接着性
を向上させるため、アルミニウム系金、属薄層を設けろ
削に、支持体に対し、プラズマ処理、火炎処J、甲を施
したつ、接着1−を設しすることもできろ。
次に、感光性樹脂層を横取する感光性樹脂について述べ
る。感光性樹脂は溶剤現f隊のものも水系現世のものも
使用できる。溶剤現像には1ことえばTPP、 (東京
応化社製)のようなポリケイヒ酸ビニル系、KTFP、
(コダソク社製)のようなアジドゴム系が例示されろ。
しかし現像排液の・処理の問題、作業環境の悪化、現像
後の現像液の除去が不充分であると画1象むらの原因に
なるなどの問題のため、水系現像の感光性樹脂が好まし
い。水系現像の感光性樹脂のうちアルカリ現像タイプの
ものとしてはジアゾ系、ジアジド系、シンナモイル系、
アクリロイル系の感光性樹脂層が用いらiする。ジアゾ
系としてはキノン−/アジド類とノボラック樹脂を組み
合わせた系が、ジアジド系としては、部分けん化ポリ酢
−斤ビニルを無水アジドフタル酸て・エステル化させた
ポリマーや、ポリビニルアルコールヲなどが例示される
。またシンナモイル系としては、ポリビニルアルコール
のケ1皮峨二塩基轍混合エステルや、スチレン−無水マ
レイン酸共重合体のケづ皮酸エステルなどが例示される
。またアクリロイル系としては、+1)ペンタエリスリ
トールトリアクリレートのようなフリーラジカルで連鎖
重合するエチレン系不飽和化合物と121スチレン−マ
レイン酸共重合体のような、アルカリ可溶の高分子結合
剤と+31ペンゾフエノンーミヒラーズケトンや、ジメ
チルアミノアセトフェノンのよ5なフリーラジカル発生
★ljを混合した系が例示さ2tろ。酸現像タイプのも
のとしては7クリロイル系であろ11)酸可俗の高分子
結合剤たとえば2−メチル−2−(N−N−ジメチルア
ミン)メチル−1,6−ブロパンジオ〜ル・テレフタル
渭共重合体のよ5な4級fヒてきろ塩基性窒素を自治す
る高分子物質と、(2)ペンタエリスリトールトリアク
リレートのようなフリーラジカルで連鎖重合するエチレ
ン系不飽和化合物と、(,31ベンゾフェノン−ミヒラ
ースケトンや、ジメチルアミノアセトフェノンのよ5な
フリーラジアル発生蒼1]を混合した系が例示される。
またアルカリ現イ&クイフ゛、酸現)象タイプともアク
リロイル系は!廠素阻害があるため酸素遮断住のある水
溶性樹脂、たとえばポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドンなど、あるいは剥離可能のフィルムたとえば
ポリエチレン、ポリエステルなどを感光性樹脂上に積層
することが好ましい。積層の方法としては、通常の塗布
方法でよい。たとエバロール−コート、バーコード、ク
ラヒアコート、カーテンコート、回転コートラミネーシ
ョンなどが適用されろ。感光性樹脂層の膜厚は01〜2
0μが好ましい。
次に上記構成の画像形成用材料の処理方法についてのべ
る。処理方法は(1)画1象露光(21感光性樹脂の現
像(3)エツチング(4)修正エツチングからなる。
以下それぞれについて述べる。
画像露光には密着、投影、スキャンニング、光ファ1バ
ー、フライングスポット、CP、Tへノ密着などが利用
で微る。しかし光により不溶化あるい;ま、可溶化する
感光性樹脂は一般には1 mJ/m以上の高工坏ルギー
密度の露光を要丁φため、密着およびスキャンニングが
最も好ましい。露光電源は、低圧水銀灯、高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ
、タングステンランフ、ハロゲンランフ、アルゴンレー
ザー、ヘリウム−ネオンレーザ−など各種レーザー、C
RT、フライングスポット管などが、感光性樹1活の分
光感度、感度と用途を考慮して使用できろ。
一般の感光性樹脂を用いる場合、高圧水銀灯、超高圧水
f+Ii’灯、メタルハライドランプ、アルゴンレーザ
ー、ヘリウムネオンレーザ−が適する。上記各光源を使
用して感光性樹脂層イillよつ両像露光を施したら感
光性樹脂層の可溶部分を現1家液により溶、@除去(現
像処理)する。感光性樹脂上は、各感光性樹脂上に適し
た現像液を使t、13−3−ろ。アルカリ現像夕4ブの
現1象液:ま、カリウム、ア1リウム、セシウム、ルビ
ジウムの水酸′工物あるいは。
ホウ酸塩、リン酸塩、炭酸塩などの7j(溶液が適し、
酸性現1象タイプは、塩酸、硝酸、硫酸、1)ン峨、有
機酸などの水浴・夜が適し、また価数と弱塩基の塩も好
ましい。また現像液中には界面活性爺1jケ添加−1″
ることか好ましい。溶剤現像タイプの現港、トルエン、
キ7レンのような芳香族炭化水素、2−ブタノンのよ5
なケトン類、メトキンエタノ−k ノJ: 57,4エ
チレングリコールのモノアルキルエーテル、インプロピ
ルアルコールのよウナアルコール類が適用され、感光性
樹脂の種類により選びつる。このような現像液を使用し
た感光性樹脂層の現像処理は、例えばパターン露光後の
パターン形成材料を現像液に浸漬し、必要があればこす
り、可溶部の感光性樹脂を除去して行なう。現像液が水
系の場合は水洗し、溶剤系の場合は新しい溶剤で残留現
像液を除去する。特に溶剤現像の場合リンスか不充分で
あると次の工、チングが阻害されるので注意しなければ
ならない。
次ニ(支)フッ(U水素酸、7ノイヒアンモニウム、フ
ッ化水素アンモニウムの少1よくとも一種の化合物を合
計05〜30wt%(イ)酸化第二銅を02へ5wt%
(つ)硝酸をo、oi〜3 D vt%の三成分を、少
な(とも含有するエツチング液に感光性樹脂現像後の画
像形成用材料を浸漬あるいは何らかの方法で接触させ、
露出部のアルミニウム系金属薄層をエツチングする。フ
ッ化水素酸、フッ化アンモニウム、7)化水素アンモニ
ウムは、アルミニウム系金属薄層表面に形成されている
酸化物の不動態層を浴解する作用を有し、しかもアルミ
ニウム系金属をも溶解し5ろ。そのため該化合物の添加
により酸系エツチングでしばしばおこる不均一なエツチ
ングがおこらず、エツチングが著しく速くなる。添υ口
量は0.5−yyt%以下では効果がなく、30 w’
、%以上ではさらに添、0口しても効果がなく、05〜
ろ口wt%が適し、好ましくは1〜i 51V’、%で
ある。酸化第二銅)よ、消?包とエツチング促進と曲の
中性化の効果を有する。(支)液のみのエツチングでお
こる水素ガスなどの発泡は、気泡付着:(よるエツチン
グの不均一あるいは感光性樹脂層の剥離の原因になる。
酸化第二銅;ま:淑化効果を有するため水素ガス発生を
抑えろ、7また銅・はアルミニウムよりイオン化傾向が
小さいため、金属銅の付着ととも・てアルミニウムが、
各解し、エツチングを促進スる。
さらに伺着銅とアルミニウムの間て゛局部電池を形成シ
さらに工、チングを促進する効果を有する。
またi級化第二銅;まp)−を上げろ効果を有し・1ノ
チング速度を上げしかもpi−iを1〜ろ上げろ。添加
量11ま0.2 wj%未満では効果がほとんどなく、
多すぎると完全には溶解しない。飽矛口濃度まで添加し
ても効果を減じることはないので、02〜5wt%が適
する。(つ)硝酸は(7)、(イ)のみのエツチングで
おこるアルミニウム等の再付着物、鋼滓の付着物及び付
着反応生成物の溶解効果が著しく、エツチングに必要な
pHの′A整剤としても必要である。
添加量は001〜30VJt%が適する。以上の三成分
の組合せによってはじめて、エツチング速度か大きく、
気泡がなく、中性に近いという目的の性能を徂ろことか
できる。また被エツチング物であるアルミニウム系金層
の・処理液に対するぬれを向上させるために界面活性剤
を添v目することができろ1、非イオン系あるいはアニ
オン系のものが好ましく、特に非イオン系のポリオキシ
エチレンエーテルタイプ、エステルのポリオキシエチレ
ンエーテルタイプ、グリコールのエステルタイプ、また
アニオン系では脂肪崇石けんようなカルボン酸タイプ、
アルキルベンセンスルホン酸塩のよウナスルホン酸塩タ
イプなどである。さらに感光性樹脂の軟化剤ゝとして、
メタノールのようなアルコール類、メトキシエタノール
のようなセロソルブ類、2−ブクノンのようなケトン類
等の溶剤を添加することができる。
以上のような組成の処叩法を、露出したアルミニウム系
金玉薄層へ作用させ、エツチングして、目的と′1−る
画1“〃が形成される。さらに目的((あわぜて−ヒト
7iの感光性メが脂層を剥離してもよい。
さら・定感光訃樹脂を剥:l1lnする前の状態、すな
わち支持体上に画像状のアルミニウム系金属薄層が存在
し、さら(てその上に同−画像状の樹脂;韓が存在する
アルミニウム系金属画像に、上gi2(力(づ)(つ)
の三成分を少なくとも含有するアルミニウム系金属用エ
ツチング液を接触させることにより、橙1脂層には影響
を与えず、アルミニウム系金属薄層のみを横方向にエツ
チングし、アルミニウム系金属画像のサイズを減少する
ことができる。エツチング液組成は感光性樹脂層の現像
後の工゛ノチング液とAilに、感光性樹脂層をエツチ
ング液が浸透しやす(なるように溶剤を接触させてもよ
い。この溶剤としては、水に可溶であることが好ましく
、アルコール類、グリコール頌、ケトン類、セロソルブ
類、アミド類が適する。接触の方法は、浸漬、はけ・ふ
でによる塗布、スプレー、スポイトによるシャープでフ
リンジがなく高解像力高階調のパターンが従来の処理方
法に比較して、極めて短い時間で作製することができ低
温で処理できろ。また処理液のpHが中性に近いことか
ら、感光性樹脂の選択性が′)ljめて大きくなり、ま
た処理中の感光性樹脂の脆化がないために処理安定性か
向上する。
またアルミニウム系金属画像の修正液として使用すれば
、感光性樹脂層の膨潤・剥離なしに、アルミニウム系金
属薄層がエツチングされろため、サイドエツチングのみ
による修正がおこるため、パターン部の層厚を下げろこ
となく面、演のみが縮少する理想的な修正処理が行われ
る。しかもエツチング速度が極めて速いために、処理時
間も短縮できる。
この発明を以下に実施例を用いてさらに詳細(て説明1
−ろ。
実施例1 ポリエチレンテレツクレートから成るフィルム(+oO
〕z)fてアルミニウム(純度9999%)を真空蒸着
により設けた。蒸着アルミニウム層は8ろDAであった
。さムにジノンブレー了土製のへ光ヰ樹l旨AZ  1
350 の原液をキシレンて1/2 K看取して5y、
る感光性樹脂を回1眩塗布機て100 rpl++て塗
布し、感九性位f脂17を蒸着アルミニウム・=上に形
成した。
塗布量1は乾燥膜厚て18μてあった。次(てこの積5
鳴物をオーブン(30分間乾文(60C)した。
このよ51(シて得られた画i家形成用飼料を6kll
超高圧水銀灯(オーク社製ジェノトライトノを用い、銀
塩リスフィルムて作製した網点画像とステノブタブレノ
トり4ブ11(コタノク社製〕を原稿Kして、光源から
90cがの距離で、密着露光を行った。そのと式の露光
4#は2 o InJ/crd  てめった。
次に下記のfAl戊の26Cの液て15秒浸漬しっつ軽
くこすり感光性樹脂層の現像を行った。
次いで下記の組成の26iCのメイlに浸漬した。
約5秒で感光性樹脂の溶解した部分のアルミニウム層(
前記現像処理によって露出したアルミニウム層)が完全
にエツチングされ、さらに10秒間浸漬したのち水洗乾
燥した。
以上の結果、711ンジがなく、写真特性が硬調の原稿
に対してポジポジの画像が得られに。
実施例2 ポリエチレンテレツクレートから成るフィルム(100
μ)上に純度9999%のアルミニウムを膜厚が100
0Xとなるように蒸着し、さらに次のような感光性樹脂
を調製し、回転塗布機にて10 Orpmでアルミニウ
ム蒸着層上に塗布し、60Cオーブンで10分間乾燥し
た。
しメチルセロノルブ                
901乾燥膜厚は22μであった。塗布した感光性樹脂
層上((、更:てけん化88%、重合度500のボリヒ
ニルアルコールの5−;y−、%水〕容1夜を回転塗布
銀:てよつ乾燥膜厚で約2μ((なるよう、(塗布形7
吸し、オーフ゛ンて30分Φ乞・功した(6OC)。こ
のよう((し−こイーl?1−1れだ、咄で象、)[4
成用オ料6てオーク社製ろにゝ、1□ジェットプリンタ
ーにてi 5 il、:/CTdで銀塩リスフィルムの
網侭)画像を原稿;・Cして密着面i象露光を行なった
。次に画像・1落光後の1tii像形成用材料を4く洗
してポリビニルアルコール層を除去してから、4wt%
ノ炭酸ナトリ17ムK l漬しなが冒スボンン壬゛こ丁
って感光性樹脂の現像を行なった。その後次の組成の2
5Cのエツチング液に浸漬した。
約5秒で非画像部のアルミニウムが完全(、てエツチン
グされ、さらに10秒間浸(責した後水洗乾燥した。そ
の結果実施例1と同様フリンジがなく、写真峙・在が硬
調な画像か得ら〕tた。画像は原喝に対してネガ−ポジ
であった。
実施例6 感光性樹脂に東京応化社製の(感光性樹脂TPRを用い
、感光性位1脂の膜厚が22μとなるよう調製し、実施
例1と同様の実験を行った。露光量を20rnJ /i
とし、キシレンで現像した後、モソレンで充分ゆすいだ
後60Cのオーブンで乾燥した。その後実施例1と同様
にエツチングすると、高階調でシャープなネガ画像が得
られた。
実施例4 2胴厚のガラス基板て純度99.999%のアルミニウ
ムをターゲノトニしてRFスパッタリンクを行った。積
層さ寸tたアルミニウムは4500′;Aで゛あった。
アルミニウム層上:て実施例1と同じ方?去で7ノプレ
一社製感光[牛樹脂を塗4I5 L/、プリント基板用
′電極パターンを原塙として密着露光巳、実施例1と回
し方法で、現像し、しかろ後″てエツチングしシャープ
なパターンを得た。その後テトラヒドロフラン;てよつ
、・窓′#:、訃樹巾1諧を剥ji= L、転成したも
のを、電I飯として用いた。その結果!?虱あるいは、
制約:もなく良好:て作動した。
実施例5 実施例2て祷、′−)れだ網点画暑゛を下記の二種の2
2Cのエツチング液(・て浸漬し、感光性ケ脂層の状態
と、網点画惜fの面、riIT率の減少(城カー貴)¥
ヒJ−−・・ツク(東洋インキ製造社製の網点面積率(
D1]定器)で4111定した。
七の結果、エツチングe、2て゛は50%の網へ面積率
の部分が1分間75%しか減力(−なかったが、エツチ
ング液1ては乙0秒て110%の減力かなされた。また
エツチング液1ては5分闇七のまま浸、貴しても感光性
樹脂層の剥離はおこらなかったが、エツチング液2では
1分45秒で感光性樹脂層が膨潤しはじめ2分30秒で
完全に剥離した。
実施例6 次表のエツチング液7作成(−だ。各、夜を26Cにし
た。
各1液;・こ実施4Jlj 2て得L′)れだパターン
を1分′ト(IF・責した。その結果、エツチング液1
て1ま網薇面債率50%のところで180%減少してぃ
1こが、エツチング液2て・、ま75%しが減少しなか
った。またエツチング液ろては135%減少しているも
のの、画像・:ま虫が食ったようなびびりrIある形状
を呈していた。また合液のが9(まそれぞれ51.13
2.05であった。以上がらエツチング液1は弱酸性で
ありながら均一(てエツチングさn、しかもエラキング
速度(まアルカリ系エツチング液より極めて速かった。
U上実施例で明らかなように、かかる画像形成用イシ料
と処理液を用いた該処]里方法知よると、従来の方去て
比較してエツチングが極めて速く、均一に、しかも中性
C・て近い状態で行えるため、処理時間が大幅((短V
¥され、高階像力でびびつのない画像が得l−Iれ、感
光性樹脂の脆化が少いため、す特許出願人 凸版印刷株式会社

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)支持体上に、アルミニウム系金属薄層及び感光性
    樹脂層を順設して成る画像形成用材料に対して感光性樹
    脂層側より画像露光を施し、感光性樹脂層の可溶部分を
    現像液(でより溶解:途去し、しかル後に露出したアル
    ミニウム系金属薄層をエツチング処理する際、(刀〕、
    化水素酸、フッrヒアンモニウム、フッ化水素アンモニ
    ウムの少なくとモ一種の化合物を、合計05〜50 ’
    、z’t%(−1戸j受化第゛二銅02〜5 ztyj
    %(つ)硝酸001〜30−、vt%の三成分を少なく
    とも含有するアルミニウム系金属用エツチング液により
    エツチングすることを特徴とする画像形成用材料の処P
    ト方法、。
  2. (2)支持体上に画像状のアルミニウム系金15@薄層
    が存在し、さらにその−ヒに同−画像状の樹脂層が存在
    するアルミニウム系金属tiiii @に、(刀フッ化
    水sit、フッ化アンモニウム、フッ化水素アンモニウ
    ムのうち少なくとも一種の化合物を、合計05〜60w
    t%(イ)酸化第二銅を0.2〜5 vlt% (つ)
    硝酸を001〜30 wt%の三成分を少なくとも含有
    するアルミニウム系金属用エツチング液を接触させ、ア
    ルミニウム系金属薄層を横方向にエツチングし、金属系
    画像のサインを減少させることを特徴とする金属系画像
    の処理方法3、
  3. (3)アルミニウム系金属用エツチング液に非イオン系
    あるいはアニオン系界面活性剤を含有することを特徴と
    する特許請求範囲第1項記載の画像形成用材料の処理方
    法。
  4. (4)アルミニウム系金属用エツチング液に非イオン系
    あるいはアニオン系界面活性剤を含有することを特徴と
    する特許請氷の範囲第2項記載の金属系面像の処理方法
    3、
  5. (5)アルミニウム系金属用エツチング液に水溶性有機
    溶剤を含有することを特徴とする特許5青求の範囲第2
    項記載の金属系画像の処理方法。
JP23479582A 1982-12-27 1982-12-27 画像形成用材料の処理方法及び金属系画像の処理方法 Expired JPS6017030B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23479582A JPS6017030B2 (ja) 1982-12-27 1982-12-27 画像形成用材料の処理方法及び金属系画像の処理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23479582A JPS6017030B2 (ja) 1982-12-27 1982-12-27 画像形成用材料の処理方法及び金属系画像の処理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59123774A true JPS59123774A (ja) 1984-07-17
JPS6017030B2 JPS6017030B2 (ja) 1985-04-30

Family

ID=16976507

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23479582A Expired JPS6017030B2 (ja) 1982-12-27 1982-12-27 画像形成用材料の処理方法及び金属系画像の処理方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6017030B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62218585A (ja) * 1985-10-31 1987-09-25 Hoya Corp フオトマスクの製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62218585A (ja) * 1985-10-31 1987-09-25 Hoya Corp フオトマスクの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6017030B2 (ja) 1985-04-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4008084A (en) Metallic image forming material
US4069076A (en) Liquid lamination process
JPH0524496B2 (ja)
JPS6151311B2 (ja)
US3944421A (en) Process for simultaneous development and etch of photoresist and substrate
JPS60208748A (ja) 感光性樹脂組成物及びこれを用いた積層体
US3837944A (en) Selective etching of metal oxides of tin or indium
JPH035573B2 (ja)
JPS59123774A (ja) 画像形成用材料の処理方法及び金属系画像の処理方法
JPS62218585A (ja) フオトマスクの製造方法
JPS6356314B2 (ja)
JPH04361265A (ja) 剥離液
JP3072114B2 (ja) フォトマスクブランク、フォトマスク及びその製造方法
JPS63173051A (ja) ハ−ドブランクス
JP3252236B2 (ja) 位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスク用ブランクスの製造方法
JPH06289611A (ja) 光重合性組成物
JPS5883847A (ja) 金属画像形成材料用処理液
JP2644951B2 (ja) 導体回路の形成方法
JPS646449B2 (ja)
JPS59123772A (ja) アルミニウム系金属用エツチング液
JPH0149937B2 (ja)
JPS5913238A (ja) 金属系画像形成材料用処理液
JPS6024933B2 (ja) 電子線感応性無機レジスト
JPS593421B2 (ja) ソウシヨクカガミノ セイゾウホウ
JPH0968796A (ja) 光硬化画像の形成方法