JPS59123774A - 画像形成用材料の処理方法及び金属系画像の処理方法 - Google Patents
画像形成用材料の処理方法及び金属系画像の処理方法Info
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- JPS59123774A JPS59123774A JP23479582A JP23479582A JPS59123774A JP S59123774 A JPS59123774 A JP S59123774A JP 23479582 A JP23479582 A JP 23479582A JP 23479582 A JP23479582 A JP 23479582A JP S59123774 A JPS59123774 A JP S59123774A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、導電パターンあるいは光学画像を形成ずろた
めの両百形成用材料の処理方法及び金属系1屯像の処理
方法に閣ずろものであり、シャープで、高lθ71!像
力を有し、フリンジのない両1象を迅速((、安Tしで
得る処理方法に関するものである。
めの両百形成用材料の処理方法及び金属系1屯像の処理
方法に閣ずろものであり、シャープで、高lθ71!像
力を有し、フリンジのない両1象を迅速((、安Tしで
得る処理方法に関するものである。
本発明は装飾、情報伝達;て有効〕、【パター ンの形
成、および電気部品の作製に利用できる。利用されろ対
象としては、装飾品として有効;1もの(では美術工芸
品、建装伺伺などがある。また′lf報伝達媒体として
有効なものとしては、標、織、表示板、広告板、投影5
1月原版、光学マスク、印、刷版などがある。特に、1
照像形成後修正を要するEFI (+用製版用フィルム
の処理には有効である。電気部品の分野においては、プ
リンI・基板、プリントコイル、電極などの微細加工部
品の作製(て使用て゛ごる。
成、および電気部品の作製に利用できる。利用されろ対
象としては、装飾品として有効;1もの(では美術工芸
品、建装伺伺などがある。また′lf報伝達媒体として
有効なものとしては、標、織、表示板、広告板、投影5
1月原版、光学マスク、印、刷版などがある。特に、1
照像形成後修正を要するEFI (+用製版用フィルム
の処理には有効である。電気部品の分野においては、プ
リンI・基板、プリントコイル、電極などの微細加工部
品の作製(て使用て゛ごる。
感光・准樹脂とエツチング技術を用いてパターン形成す
る技術は広く知られておつ、たとえば、被エツチング物
としてクロムを用いた光学マスク、銅を用いたブリメト
基板、ステンレスを用いた/ヤドウマスクのような精密
機械部品などは一般に工業的に作製されている。その他
チタン、鉄、ニッケル、亜鉛、銀、テルル、セレン、ビ
スマス、アルミニウム、ITO1酸化インジウムなどを
被エツチング物として使った製品が数多(生産され一〇
いる。この中で、アルミニウムは、遮光性が高く、蒸着
が容易であること、はくの形成が可能であるなど加工性
が良好であり、また無色金属光沢を有し装飾的効果も高
いことがら、特に有効である。
る技術は広く知られておつ、たとえば、被エツチング物
としてクロムを用いた光学マスク、銅を用いたブリメト
基板、ステンレスを用いた/ヤドウマスクのような精密
機械部品などは一般に工業的に作製されている。その他
チタン、鉄、ニッケル、亜鉛、銀、テルル、セレン、ビ
スマス、アルミニウム、ITO1酸化インジウムなどを
被エツチング物として使った製品が数多(生産され一〇
いる。この中で、アルミニウムは、遮光性が高く、蒸着
が容易であること、はくの形成が可能であるなど加工性
が良好であり、また無色金属光沢を有し装飾的効果も高
いことがら、特に有効である。
またアルミニウムは毒性がな(、コストが低いという利
点があり工業的にも有用又あろ、支持体上の金属系薄層
上に感光性樹脂を積層した画像形成用材料を用いて画像
を作製する方1宍には、感光性樹脂の現像と金属系薄層
のエツチングを同一系の液で行うものと、異った系で行
うものて大別される。後者では特開昭5O−I5972
0−@に報告されているように、ポリビニルシンナメー
トのような感光性樹脂を用い、パターン露光後まずキシ
レンのような溶剤で感光性樹脂を現像し、露出した金属
系薄層をアルカリなどで溶出する方法が報告されている
。しかし溶剤を使用することにより作業環境が悪化し廃
液処理が困難になり、また現像後の残液の除去を充分に
行わないと、画I象むらになる、などの欠点を有する。
点があり工業的にも有用又あろ、支持体上の金属系薄層
上に感光性樹脂を積層した画像形成用材料を用いて画像
を作製する方1宍には、感光性樹脂の現像と金属系薄層
のエツチングを同一系の液で行うものと、異った系で行
うものて大別される。後者では特開昭5O−I5972
0−@に報告されているように、ポリビニルシンナメー
トのような感光性樹脂を用い、パターン露光後まずキシ
レンのような溶剤で感光性樹脂を現像し、露出した金属
系薄層をアルカリなどで溶出する方法が報告されている
。しかし溶剤を使用することにより作業環境が悪化し廃
液処理が困難になり、また現像後の残液の除去を充分に
行わないと、画I象むらになる、などの欠点を有する。
したがって同一系の液すなわち水系で処理するものが好
ましい。すなわち感光性樹脂としてアルカリ現像あるい
は酸現像タイプのものを用い、アルカリある℃z 14
J肢て゛アルミニウム系全厚をエツチングする方法が
好ましい3、しかし、アルミニウムのアルカリあるいは
酢の単数でのエツチング速度はあまり速くなく、また充
分なエツチング速度を得るため(・て液・惰度を高くす
ると、水系現像タイプの・へ光閤慎f指は強アノーカリ
や強酸にしま一般(τ劇1生がないために、膨・閏、剥
離などがおこるという欠点かあった。またアルミニウム
表面にはt”J化物による不動態1−が形成されており
、酸単数で(ま溶解せず、ピンホールか広がるようにエ
ツチングが行なわれ、上述した構成の画像形成材料用の
処叩液として・、ま好ましくない。一般的なアルミニウ
ムエツチング剤は大別すると、りん酸系、アルカリ系、
フッ素系の三系からなる。
ましい。すなわち感光性樹脂としてアルカリ現像あるい
は酸現像タイプのものを用い、アルカリある℃z 14
J肢て゛アルミニウム系全厚をエツチングする方法が
好ましい3、しかし、アルミニウムのアルカリあるいは
酢の単数でのエツチング速度はあまり速くなく、また充
分なエツチング速度を得るため(・て液・惰度を高くす
ると、水系現像タイプの・へ光閤慎f指は強アノーカリ
や強酸にしま一般(τ劇1生がないために、膨・閏、剥
離などがおこるという欠点かあった。またアルミニウム
表面にはt”J化物による不動態1−が形成されており
、酸単数で(ま溶解せず、ピンホールか広がるようにエ
ツチングが行なわれ、上述した構成の画像形成材料用の
処叩液として・、ま好ましくない。一般的なアルミニウ
ムエツチング剤は大別すると、りん酸系、アルカリ系、
フッ素系の三系からなる。
りん酸系は、処理益度が高く、エツチング速度か遅い。
アルカリ系はエツチング速度は速(しうるが、感光性樹
脂の剥膜効果が高(、好ましくない。
脂の剥膜効果が高(、好ましくない。
フッ素系(′!エツチング速度が太き(剥1・雛効果も
アルカリ系よりも小さいが、従来の組成では、気?包の
発生が激しく、気泡付着によるエツチングの不均一ある
いは気泡による感光性樹脂の剥離を呈づ−ろようになる
。特開昭52−99i01号ではアルカリ溶液に、ハロ
ゲン系酸化剤を添加し、気泡の発生を防止し、エツチン
グ速度を向上させているが、エツチング速度が不充分で
あった。また特開昭5O−i39720号ではアルミニ
ウムにアルミニウムよりイオン化傾向の小さい金属を混
入させ、エツチング速度を向上させているか、その効果
ばあ用フィルムに応用する場合には、形成された金属系
何重をサイドエツチングによる修正すなわち減力を行う
ことができなければならない。減力では特に感光性樹脂
の剥離なしに速いエツチング速度を要するため・、特開
昭53−14002号、特開昭53 49508号では
リン酸あるいはjlI IJン酸にビスマスやアンチモ
ンを添加1−ることにより、速いエツチング速度が得ら
れるようにすることが報告されているが、添加効果は大
きくないだけてなく、ピンホールから横方向に進む夕〈
プのエツチングのため画像形状が悪く、1而像むらが生
じていた。
アルカリ系よりも小さいが、従来の組成では、気?包の
発生が激しく、気泡付着によるエツチングの不均一ある
いは気泡による感光性樹脂の剥離を呈づ−ろようになる
。特開昭52−99i01号ではアルカリ溶液に、ハロ
ゲン系酸化剤を添加し、気泡の発生を防止し、エツチン
グ速度を向上させているが、エツチング速度が不充分で
あった。また特開昭5O−i39720号ではアルミニ
ウムにアルミニウムよりイオン化傾向の小さい金属を混
入させ、エツチング速度を向上させているか、その効果
ばあ用フィルムに応用する場合には、形成された金属系
何重をサイドエツチングによる修正すなわち減力を行う
ことができなければならない。減力では特に感光性樹脂
の剥離なしに速いエツチング速度を要するため・、特開
昭53−14002号、特開昭53 49508号では
リン酸あるいはjlI IJン酸にビスマスやアンチモ
ンを添加1−ることにより、速いエツチング速度が得ら
れるようにすることが報告されているが、添加効果は大
きくないだけてなく、ピンホールから横方向に進む夕〈
プのエツチングのため画像形状が悪く、1而像むらが生
じていた。
本発明者等はこれらの欠点に鑑み、迅速で均一に、しか
も感光団樹脂を脆化しないエツチングを行う処理方法・
;てついて検討を行い、上言己の目的(・て対応できる
処理法を見出し、本発明を完成した。
も感光団樹脂を脆化しないエツチングを行う処理方法・
;てついて検討を行い、上言己の目的(・て対応できる
処理法を見出し、本発明を完成した。
すなわち本発明lま、支持体上(で、アルミニウム系金
属薄層を設げ、ざらに感蓋性:v11旨、層を設け、次
に、l感光性樹脂;※j[llよつ画′象露光を施し、
感光性樹脂層の可溶部分を現慣液によr)溶)(jイ除
去し、しかる後に露出したアルミニウム系’a> 属傅
層をエノチンク処即1−ろ際、(3)フン化水素酸、フ
ッ化アンモニウム、7ノ化水素アンモニウムの少すくト
も一撞の化合物を、あわせて05〜30・、・It%(
/l)酸比第二鋼02〜5irt%(つ)硝酸0.01
〜ろO〜・、・t%の三成分を少なくとも含有するアル
ミニウム系@属用エツチング液によりエツチングするこ
とを特徴とする画像形成用材料の処理方法、および支持
体上に画像状のアルミニウムを金7が薄層が存在し、さ
らにその上に同−両像状の樹脂層が存在′1−ろアルミ
ニウム系金寓ハターンに上記(3)、(イ)、(つ)、
の三成分を少なくとも含有するアルミニウム系金属相エ
ノチンダ液を接触させ、アルミニウム系金属薄層を横方
向にエツチングし、金属画像のサイズを減少させること
を特徴とする金属系画像の処理方法である。以下本発明
の詳細な説明する。
属薄層を設げ、ざらに感蓋性:v11旨、層を設け、次
に、l感光性樹脂;※j[llよつ画′象露光を施し、
感光性樹脂層の可溶部分を現慣液によr)溶)(jイ除
去し、しかる後に露出したアルミニウム系’a> 属傅
層をエノチンク処即1−ろ際、(3)フン化水素酸、フ
ッ化アンモニウム、7ノ化水素アンモニウムの少すくト
も一撞の化合物を、あわせて05〜30・、・It%(
/l)酸比第二鋼02〜5irt%(つ)硝酸0.01
〜ろO〜・、・t%の三成分を少なくとも含有するアル
ミニウム系@属用エツチング液によりエツチングするこ
とを特徴とする画像形成用材料の処理方法、および支持
体上に画像状のアルミニウムを金7が薄層が存在し、さ
らにその上に同−両像状の樹脂層が存在′1−ろアルミ
ニウム系金寓ハターンに上記(3)、(イ)、(つ)、
の三成分を少なくとも含有するアルミニウム系金属相エ
ノチンダ液を接触させ、アルミニウム系金属薄層を横方
向にエツチングし、金属画像のサイズを減少させること
を特徴とする金属系画像の処理方法である。以下本発明
の詳細な説明する。
本発明の適用されうる画像形成用材料は(1)支持体、
ニー(2)アルミニウム系金属薄層(3)感光性樹脂層
の少なくとも三層から反る。それぞれ1(ついて述べろ
。
ニー(2)アルミニウム系金属薄層(3)感光性樹脂層
の少なくとも三層から反る。それぞれ1(ついて述べろ
。
支持体としてはカラス、ポリエチレンテレフタレート、
ポリプロピレン、ポリエチVン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリチン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、
ポリメチルメタクリレートなどのフィルムまたは板が目
的にあわせて使用できる。
ポリプロピレン、ポリエチVン、ポリ塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリチン、ポリカーボネート、酢酸セルロース、
ポリメチルメタクリレートなどのフィルムまたは板が目
的にあわせて使用できる。
アルミニウム系金属薄層としては、アルミニウムを主体
とし、I■鉛、鉛、すす、テルル、ビスマス、鉄、ニッ
ケル、チタン、銅、クロムなどを合金として含有したも
の、あるいは窒化物、ホウ化物、炭化物、硫化物二およ
び塩類などが例示される。、このようなアルミニウム系
金属からなる薄+−の支持体上への設置には、真空蒸着
、スパッタリング、イオンブレーティ7ダ、無電解メッ
キ、ラミネートなどが適用され5ろ。層厚は薄すぎると
、光学a度が低下し、金T光沢がなくなり、電気伝導度
か低下しパターンの質が劣下する。ま1こ厚〕−ぎると
、エツチングIで時間がががっ処叩時[■jが長くなる
。適1−14され5る膜厚は5C〜3000久て好まし
くは6Oロ〜2oooXである。また支持体との接着性
を向上させるため、アルミニウム系金、属薄層を設けろ
削に、支持体に対し、プラズマ処理、火炎処J、甲を施
したつ、接着1−を設しすることもできろ。
とし、I■鉛、鉛、すす、テルル、ビスマス、鉄、ニッ
ケル、チタン、銅、クロムなどを合金として含有したも
の、あるいは窒化物、ホウ化物、炭化物、硫化物二およ
び塩類などが例示される。、このようなアルミニウム系
金属からなる薄+−の支持体上への設置には、真空蒸着
、スパッタリング、イオンブレーティ7ダ、無電解メッ
キ、ラミネートなどが適用され5ろ。層厚は薄すぎると
、光学a度が低下し、金T光沢がなくなり、電気伝導度
か低下しパターンの質が劣下する。ま1こ厚〕−ぎると
、エツチングIで時間がががっ処叩時[■jが長くなる
。適1−14され5る膜厚は5C〜3000久て好まし
くは6Oロ〜2oooXである。また支持体との接着性
を向上させるため、アルミニウム系金、属薄層を設けろ
削に、支持体に対し、プラズマ処理、火炎処J、甲を施
したつ、接着1−を設しすることもできろ。
次に、感光性樹脂層を横取する感光性樹脂について述べ
る。感光性樹脂は溶剤現f隊のものも水系現世のものも
使用できる。溶剤現像には1ことえばTPP、 (東京
応化社製)のようなポリケイヒ酸ビニル系、KTFP、
(コダソク社製)のようなアジドゴム系が例示されろ。
る。感光性樹脂は溶剤現f隊のものも水系現世のものも
使用できる。溶剤現像には1ことえばTPP、 (東京
応化社製)のようなポリケイヒ酸ビニル系、KTFP、
(コダソク社製)のようなアジドゴム系が例示されろ。
しかし現像排液の・処理の問題、作業環境の悪化、現像
後の現像液の除去が不充分であると画1象むらの原因に
なるなどの問題のため、水系現像の感光性樹脂が好まし
い。水系現像の感光性樹脂のうちアルカリ現像タイプの
ものとしてはジアゾ系、ジアジド系、シンナモイル系、
アクリロイル系の感光性樹脂層が用いらiする。ジアゾ
系としてはキノン−/アジド類とノボラック樹脂を組み
合わせた系が、ジアジド系としては、部分けん化ポリ酢
−斤ビニルを無水アジドフタル酸て・エステル化させた
ポリマーや、ポリビニルアルコールヲなどが例示される
。またシンナモイル系としては、ポリビニルアルコール
のケ1皮峨二塩基轍混合エステルや、スチレン−無水マ
レイン酸共重合体のケづ皮酸エステルなどが例示される
。またアクリロイル系としては、+1)ペンタエリスリ
トールトリアクリレートのようなフリーラジカルで連鎖
重合するエチレン系不飽和化合物と121スチレン−マ
レイン酸共重合体のような、アルカリ可溶の高分子結合
剤と+31ペンゾフエノンーミヒラーズケトンや、ジメ
チルアミノアセトフェノンのよ5なフリーラジカル発生
★ljを混合した系が例示さ2tろ。酸現像タイプのも
のとしては7クリロイル系であろ11)酸可俗の高分子
結合剤たとえば2−メチル−2−(N−N−ジメチルア
ミン)メチル−1,6−ブロパンジオ〜ル・テレフタル
渭共重合体のよ5な4級fヒてきろ塩基性窒素を自治す
る高分子物質と、(2)ペンタエリスリトールトリアク
リレートのようなフリーラジカルで連鎖重合するエチレ
ン系不飽和化合物と、(,31ベンゾフェノン−ミヒラ
ースケトンや、ジメチルアミノアセトフェノンのよ5な
フリーラジアル発生蒼1]を混合した系が例示される。
後の現像液の除去が不充分であると画1象むらの原因に
なるなどの問題のため、水系現像の感光性樹脂が好まし
い。水系現像の感光性樹脂のうちアルカリ現像タイプの
ものとしてはジアゾ系、ジアジド系、シンナモイル系、
アクリロイル系の感光性樹脂層が用いらiする。ジアゾ
系としてはキノン−/アジド類とノボラック樹脂を組み
合わせた系が、ジアジド系としては、部分けん化ポリ酢
−斤ビニルを無水アジドフタル酸て・エステル化させた
ポリマーや、ポリビニルアルコールヲなどが例示される
。またシンナモイル系としては、ポリビニルアルコール
のケ1皮峨二塩基轍混合エステルや、スチレン−無水マ
レイン酸共重合体のケづ皮酸エステルなどが例示される
。またアクリロイル系としては、+1)ペンタエリスリ
トールトリアクリレートのようなフリーラジカルで連鎖
重合するエチレン系不飽和化合物と121スチレン−マ
レイン酸共重合体のような、アルカリ可溶の高分子結合
剤と+31ペンゾフエノンーミヒラーズケトンや、ジメ
チルアミノアセトフェノンのよ5なフリーラジカル発生
★ljを混合した系が例示さ2tろ。酸現像タイプのも
のとしては7クリロイル系であろ11)酸可俗の高分子
結合剤たとえば2−メチル−2−(N−N−ジメチルア
ミン)メチル−1,6−ブロパンジオ〜ル・テレフタル
渭共重合体のよ5な4級fヒてきろ塩基性窒素を自治す
る高分子物質と、(2)ペンタエリスリトールトリアク
リレートのようなフリーラジカルで連鎖重合するエチレ
ン系不飽和化合物と、(,31ベンゾフェノン−ミヒラ
ースケトンや、ジメチルアミノアセトフェノンのよ5な
フリーラジアル発生蒼1]を混合した系が例示される。
またアルカリ現イ&クイフ゛、酸現)象タイプともアク
リロイル系は!廠素阻害があるため酸素遮断住のある水
溶性樹脂、たとえばポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドンなど、あるいは剥離可能のフィルムたとえば
ポリエチレン、ポリエステルなどを感光性樹脂上に積層
することが好ましい。積層の方法としては、通常の塗布
方法でよい。たとエバロール−コート、バーコード、ク
ラヒアコート、カーテンコート、回転コートラミネーシ
ョンなどが適用されろ。感光性樹脂層の膜厚は01〜2
0μが好ましい。
リロイル系は!廠素阻害があるため酸素遮断住のある水
溶性樹脂、たとえばポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドンなど、あるいは剥離可能のフィルムたとえば
ポリエチレン、ポリエステルなどを感光性樹脂上に積層
することが好ましい。積層の方法としては、通常の塗布
方法でよい。たとエバロール−コート、バーコード、ク
ラヒアコート、カーテンコート、回転コートラミネーシ
ョンなどが適用されろ。感光性樹脂層の膜厚は01〜2
0μが好ましい。
次に上記構成の画像形成用材料の処理方法についてのべ
る。処理方法は(1)画1象露光(21感光性樹脂の現
像(3)エツチング(4)修正エツチングからなる。
る。処理方法は(1)画1象露光(21感光性樹脂の現
像(3)エツチング(4)修正エツチングからなる。
以下それぞれについて述べる。
画像露光には密着、投影、スキャンニング、光ファ1バ
ー、フライングスポット、CP、Tへノ密着などが利用
で微る。しかし光により不溶化あるい;ま、可溶化する
感光性樹脂は一般には1 mJ/m以上の高工坏ルギー
密度の露光を要丁φため、密着およびスキャンニングが
最も好ましい。露光電源は、低圧水銀灯、高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ
、タングステンランフ、ハロゲンランフ、アルゴンレー
ザー、ヘリウム−ネオンレーザ−など各種レーザー、C
RT、フライングスポット管などが、感光性樹1活の分
光感度、感度と用途を考慮して使用できろ。
ー、フライングスポット、CP、Tへノ密着などが利用
で微る。しかし光により不溶化あるい;ま、可溶化する
感光性樹脂は一般には1 mJ/m以上の高工坏ルギー
密度の露光を要丁φため、密着およびスキャンニングが
最も好ましい。露光電源は、低圧水銀灯、高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ
、タングステンランフ、ハロゲンランフ、アルゴンレー
ザー、ヘリウム−ネオンレーザ−など各種レーザー、C
RT、フライングスポット管などが、感光性樹1活の分
光感度、感度と用途を考慮して使用できろ。
一般の感光性樹脂を用いる場合、高圧水銀灯、超高圧水
f+Ii’灯、メタルハライドランプ、アルゴンレーザ
ー、ヘリウムネオンレーザ−が適する。上記各光源を使
用して感光性樹脂層イillよつ両像露光を施したら感
光性樹脂層の可溶部分を現1家液により溶、@除去(現
像処理)する。感光性樹脂上は、各感光性樹脂上に適し
た現像液を使t、13−3−ろ。アルカリ現像夕4ブの
現1象液:ま、カリウム、ア1リウム、セシウム、ルビ
ジウムの水酸′工物あるいは。
f+Ii’灯、メタルハライドランプ、アルゴンレーザ
ー、ヘリウムネオンレーザ−が適する。上記各光源を使
用して感光性樹脂層イillよつ両像露光を施したら感
光性樹脂層の可溶部分を現1家液により溶、@除去(現
像処理)する。感光性樹脂上は、各感光性樹脂上に適し
た現像液を使t、13−3−ろ。アルカリ現像夕4ブの
現1象液:ま、カリウム、ア1リウム、セシウム、ルビ
ジウムの水酸′工物あるいは。
ホウ酸塩、リン酸塩、炭酸塩などの7j(溶液が適し、
酸性現1象タイプは、塩酸、硝酸、硫酸、1)ン峨、有
機酸などの水浴・夜が適し、また価数と弱塩基の塩も好
ましい。また現像液中には界面活性爺1jケ添加−1″
ることか好ましい。溶剤現像タイプの現港、トルエン、
キ7レンのような芳香族炭化水素、2−ブタノンのよ5
なケトン類、メトキンエタノ−k ノJ: 57,4エ
チレングリコールのモノアルキルエーテル、インプロピ
ルアルコールのよウナアルコール類が適用され、感光性
樹脂の種類により選びつる。このような現像液を使用し
た感光性樹脂層の現像処理は、例えばパターン露光後の
パターン形成材料を現像液に浸漬し、必要があればこす
り、可溶部の感光性樹脂を除去して行なう。現像液が水
系の場合は水洗し、溶剤系の場合は新しい溶剤で残留現
像液を除去する。特に溶剤現像の場合リンスか不充分で
あると次の工、チングが阻害されるので注意しなければ
ならない。
酸性現1象タイプは、塩酸、硝酸、硫酸、1)ン峨、有
機酸などの水浴・夜が適し、また価数と弱塩基の塩も好
ましい。また現像液中には界面活性爺1jケ添加−1″
ることか好ましい。溶剤現像タイプの現港、トルエン、
キ7レンのような芳香族炭化水素、2−ブタノンのよ5
なケトン類、メトキンエタノ−k ノJ: 57,4エ
チレングリコールのモノアルキルエーテル、インプロピ
ルアルコールのよウナアルコール類が適用され、感光性
樹脂の種類により選びつる。このような現像液を使用し
た感光性樹脂層の現像処理は、例えばパターン露光後の
パターン形成材料を現像液に浸漬し、必要があればこす
り、可溶部の感光性樹脂を除去して行なう。現像液が水
系の場合は水洗し、溶剤系の場合は新しい溶剤で残留現
像液を除去する。特に溶剤現像の場合リンスか不充分で
あると次の工、チングが阻害されるので注意しなければ
ならない。
次ニ(支)フッ(U水素酸、7ノイヒアンモニウム、フ
ッ化水素アンモニウムの少1よくとも一種の化合物を合
計05〜30wt%(イ)酸化第二銅を02へ5wt%
(つ)硝酸をo、oi〜3 D vt%の三成分を、少
な(とも含有するエツチング液に感光性樹脂現像後の画
像形成用材料を浸漬あるいは何らかの方法で接触させ、
露出部のアルミニウム系金属薄層をエツチングする。フ
ッ化水素酸、フッ化アンモニウム、7)化水素アンモニ
ウムは、アルミニウム系金属薄層表面に形成されている
酸化物の不動態層を浴解する作用を有し、しかもアルミ
ニウム系金属をも溶解し5ろ。そのため該化合物の添加
により酸系エツチングでしばしばおこる不均一なエツチ
ングがおこらず、エツチングが著しく速くなる。添υ口
量は0.5−yyt%以下では効果がなく、30 w’
、%以上ではさらに添、0口しても効果がなく、05〜
ろ口wt%が適し、好ましくは1〜i 51V’、%で
ある。酸化第二銅)よ、消?包とエツチング促進と曲の
中性化の効果を有する。(支)液のみのエツチングでお
こる水素ガスなどの発泡は、気泡付着:(よるエツチン
グの不均一あるいは感光性樹脂層の剥離の原因になる。
ッ化水素アンモニウムの少1よくとも一種の化合物を合
計05〜30wt%(イ)酸化第二銅を02へ5wt%
(つ)硝酸をo、oi〜3 D vt%の三成分を、少
な(とも含有するエツチング液に感光性樹脂現像後の画
像形成用材料を浸漬あるいは何らかの方法で接触させ、
露出部のアルミニウム系金属薄層をエツチングする。フ
ッ化水素酸、フッ化アンモニウム、7)化水素アンモニ
ウムは、アルミニウム系金属薄層表面に形成されている
酸化物の不動態層を浴解する作用を有し、しかもアルミ
ニウム系金属をも溶解し5ろ。そのため該化合物の添加
により酸系エツチングでしばしばおこる不均一なエツチ
ングがおこらず、エツチングが著しく速くなる。添υ口
量は0.5−yyt%以下では効果がなく、30 w’
、%以上ではさらに添、0口しても効果がなく、05〜
ろ口wt%が適し、好ましくは1〜i 51V’、%で
ある。酸化第二銅)よ、消?包とエツチング促進と曲の
中性化の効果を有する。(支)液のみのエツチングでお
こる水素ガスなどの発泡は、気泡付着:(よるエツチン
グの不均一あるいは感光性樹脂層の剥離の原因になる。
酸化第二銅;ま:淑化効果を有するため水素ガス発生を
抑えろ、7また銅・はアルミニウムよりイオン化傾向が
小さいため、金属銅の付着ととも・てアルミニウムが、
各解し、エツチングを促進スる。
抑えろ、7また銅・はアルミニウムよりイオン化傾向が
小さいため、金属銅の付着ととも・てアルミニウムが、
各解し、エツチングを促進スる。
さらに伺着銅とアルミニウムの間て゛局部電池を形成シ
さらに工、チングを促進する効果を有する。
さらに工、チングを促進する効果を有する。
またi級化第二銅;まp)−を上げろ効果を有し・1ノ
チング速度を上げしかもpi−iを1〜ろ上げろ。添加
量11ま0.2 wj%未満では効果がほとんどなく、
多すぎると完全には溶解しない。飽矛口濃度まで添加し
ても効果を減じることはないので、02〜5wt%が適
する。(つ)硝酸は(7)、(イ)のみのエツチングで
おこるアルミニウム等の再付着物、鋼滓の付着物及び付
着反応生成物の溶解効果が著しく、エツチングに必要な
pHの′A整剤としても必要である。
チング速度を上げしかもpi−iを1〜ろ上げろ。添加
量11ま0.2 wj%未満では効果がほとんどなく、
多すぎると完全には溶解しない。飽矛口濃度まで添加し
ても効果を減じることはないので、02〜5wt%が適
する。(つ)硝酸は(7)、(イ)のみのエツチングで
おこるアルミニウム等の再付着物、鋼滓の付着物及び付
着反応生成物の溶解効果が著しく、エツチングに必要な
pHの′A整剤としても必要である。
添加量は001〜30VJt%が適する。以上の三成分
の組合せによってはじめて、エツチング速度か大きく、
気泡がなく、中性に近いという目的の性能を徂ろことか
できる。また被エツチング物であるアルミニウム系金層
の・処理液に対するぬれを向上させるために界面活性剤
を添v目することができろ1、非イオン系あるいはアニ
オン系のものが好ましく、特に非イオン系のポリオキシ
エチレンエーテルタイプ、エステルのポリオキシエチレ
ンエーテルタイプ、グリコールのエステルタイプ、また
アニオン系では脂肪崇石けんようなカルボン酸タイプ、
アルキルベンセンスルホン酸塩のよウナスルホン酸塩タ
イプなどである。さらに感光性樹脂の軟化剤ゝとして、
メタノールのようなアルコール類、メトキシエタノール
のようなセロソルブ類、2−ブクノンのようなケトン類
等の溶剤を添加することができる。
の組合せによってはじめて、エツチング速度か大きく、
気泡がなく、中性に近いという目的の性能を徂ろことか
できる。また被エツチング物であるアルミニウム系金層
の・処理液に対するぬれを向上させるために界面活性剤
を添v目することができろ1、非イオン系あるいはアニ
オン系のものが好ましく、特に非イオン系のポリオキシ
エチレンエーテルタイプ、エステルのポリオキシエチレ
ンエーテルタイプ、グリコールのエステルタイプ、また
アニオン系では脂肪崇石けんようなカルボン酸タイプ、
アルキルベンセンスルホン酸塩のよウナスルホン酸塩タ
イプなどである。さらに感光性樹脂の軟化剤ゝとして、
メタノールのようなアルコール類、メトキシエタノール
のようなセロソルブ類、2−ブクノンのようなケトン類
等の溶剤を添加することができる。
以上のような組成の処叩法を、露出したアルミニウム系
金玉薄層へ作用させ、エツチングして、目的と′1−る
画1“〃が形成される。さらに目的((あわぜて−ヒト
7iの感光性メが脂層を剥離してもよい。
金玉薄層へ作用させ、エツチングして、目的と′1−る
画1“〃が形成される。さらに目的((あわぜて−ヒト
7iの感光性メが脂層を剥離してもよい。
さら・定感光訃樹脂を剥:l1lnする前の状態、すな
わち支持体上に画像状のアルミニウム系金属薄層が存在
し、さら(てその上に同−画像状の樹脂;韓が存在する
アルミニウム系金属画像に、上gi2(力(づ)(つ)
の三成分を少なくとも含有するアルミニウム系金属用エ
ツチング液を接触させることにより、橙1脂層には影響
を与えず、アルミニウム系金属薄層のみを横方向にエツ
チングし、アルミニウム系金属画像のサイズを減少する
ことができる。エツチング液組成は感光性樹脂層の現像
後の工゛ノチング液とAilに、感光性樹脂層をエツチ
ング液が浸透しやす(なるように溶剤を接触させてもよ
い。この溶剤としては、水に可溶であることが好ましく
、アルコール類、グリコール頌、ケトン類、セロソルブ
類、アミド類が適する。接触の方法は、浸漬、はけ・ふ
でによる塗布、スプレー、スポイトによるシャープでフ
リンジがなく高解像力高階調のパターンが従来の処理方
法に比較して、極めて短い時間で作製することができ低
温で処理できろ。また処理液のpHが中性に近いことか
ら、感光性樹脂の選択性が′)ljめて大きくなり、ま
た処理中の感光性樹脂の脆化がないために処理安定性か
向上する。
わち支持体上に画像状のアルミニウム系金属薄層が存在
し、さら(てその上に同−画像状の樹脂;韓が存在する
アルミニウム系金属画像に、上gi2(力(づ)(つ)
の三成分を少なくとも含有するアルミニウム系金属用エ
ツチング液を接触させることにより、橙1脂層には影響
を与えず、アルミニウム系金属薄層のみを横方向にエツ
チングし、アルミニウム系金属画像のサイズを減少する
ことができる。エツチング液組成は感光性樹脂層の現像
後の工゛ノチング液とAilに、感光性樹脂層をエツチ
ング液が浸透しやす(なるように溶剤を接触させてもよ
い。この溶剤としては、水に可溶であることが好ましく
、アルコール類、グリコール頌、ケトン類、セロソルブ
類、アミド類が適する。接触の方法は、浸漬、はけ・ふ
でによる塗布、スプレー、スポイトによるシャープでフ
リンジがなく高解像力高階調のパターンが従来の処理方
法に比較して、極めて短い時間で作製することができ低
温で処理できろ。また処理液のpHが中性に近いことか
ら、感光性樹脂の選択性が′)ljめて大きくなり、ま
た処理中の感光性樹脂の脆化がないために処理安定性か
向上する。
またアルミニウム系金属画像の修正液として使用すれば
、感光性樹脂層の膨潤・剥離なしに、アルミニウム系金
属薄層がエツチングされろため、サイドエツチングのみ
による修正がおこるため、パターン部の層厚を下げろこ
となく面、演のみが縮少する理想的な修正処理が行われ
る。しかもエツチング速度が極めて速いために、処理時
間も短縮できる。
、感光性樹脂層の膨潤・剥離なしに、アルミニウム系金
属薄層がエツチングされろため、サイドエツチングのみ
による修正がおこるため、パターン部の層厚を下げろこ
となく面、演のみが縮少する理想的な修正処理が行われ
る。しかもエツチング速度が極めて速いために、処理時
間も短縮できる。
この発明を以下に実施例を用いてさらに詳細(て説明1
−ろ。
−ろ。
実施例1
ポリエチレンテレツクレートから成るフィルム(+oO
〕z)fてアルミニウム(純度9999%)を真空蒸着
により設けた。蒸着アルミニウム層は8ろDAであった
。さムにジノンブレー了土製のへ光ヰ樹l旨AZ 1
350 の原液をキシレンて1/2 K看取して5y、
る感光性樹脂を回1眩塗布機て100 rpl++て塗
布し、感九性位f脂17を蒸着アルミニウム・=上に形
成した。
〕z)fてアルミニウム(純度9999%)を真空蒸着
により設けた。蒸着アルミニウム層は8ろDAであった
。さムにジノンブレー了土製のへ光ヰ樹l旨AZ 1
350 の原液をキシレンて1/2 K看取して5y、
る感光性樹脂を回1眩塗布機て100 rpl++て塗
布し、感九性位f脂17を蒸着アルミニウム・=上に形
成した。
塗布量1は乾燥膜厚て18μてあった。次(てこの積5
鳴物をオーブン(30分間乾文(60C)した。
鳴物をオーブン(30分間乾文(60C)した。
このよ51(シて得られた画i家形成用飼料を6kll
超高圧水銀灯(オーク社製ジェノトライトノを用い、銀
塩リスフィルムて作製した網点画像とステノブタブレノ
トり4ブ11(コタノク社製〕を原稿Kして、光源から
90cがの距離で、密着露光を行った。そのと式の露光
4#は2 o InJ/crd てめった。
超高圧水銀灯(オーク社製ジェノトライトノを用い、銀
塩リスフィルムて作製した網点画像とステノブタブレノ
トり4ブ11(コタノク社製〕を原稿Kして、光源から
90cがの距離で、密着露光を行った。そのと式の露光
4#は2 o InJ/crd てめった。
次に下記のfAl戊の26Cの液て15秒浸漬しっつ軽
くこすり感光性樹脂層の現像を行った。
くこすり感光性樹脂層の現像を行った。
次いで下記の組成の26iCのメイlに浸漬した。
約5秒で感光性樹脂の溶解した部分のアルミニウム層(
前記現像処理によって露出したアルミニウム層)が完全
にエツチングされ、さらに10秒間浸漬したのち水洗乾
燥した。
前記現像処理によって露出したアルミニウム層)が完全
にエツチングされ、さらに10秒間浸漬したのち水洗乾
燥した。
以上の結果、711ンジがなく、写真特性が硬調の原稿
に対してポジポジの画像が得られに。
に対してポジポジの画像が得られに。
実施例2
ポリエチレンテレツクレートから成るフィルム(100
μ)上に純度9999%のアルミニウムを膜厚が100
0Xとなるように蒸着し、さらに次のような感光性樹脂
を調製し、回転塗布機にて10 Orpmでアルミニウ
ム蒸着層上に塗布し、60Cオーブンで10分間乾燥し
た。
μ)上に純度9999%のアルミニウムを膜厚が100
0Xとなるように蒸着し、さらに次のような感光性樹脂
を調製し、回転塗布機にて10 Orpmでアルミニウ
ム蒸着層上に塗布し、60Cオーブンで10分間乾燥し
た。
しメチルセロノルブ
901乾燥膜厚は22μであった。塗布した感光性樹脂
層上((、更:てけん化88%、重合度500のボリヒ
ニルアルコールの5−;y−、%水〕容1夜を回転塗布
銀:てよつ乾燥膜厚で約2μ((なるよう、(塗布形7
吸し、オーフ゛ンて30分Φ乞・功した(6OC)。こ
のよう((し−こイーl?1−1れだ、咄で象、)[4
成用オ料6てオーク社製ろにゝ、1□ジェットプリンタ
ーにてi 5 il、:/CTdで銀塩リスフィルムの
網侭)画像を原稿;・Cして密着面i象露光を行なった
。次に画像・1落光後の1tii像形成用材料を4く洗
してポリビニルアルコール層を除去してから、4wt%
ノ炭酸ナトリ17ムK l漬しなが冒スボンン壬゛こ丁
って感光性樹脂の現像を行なった。その後次の組成の2
5Cのエツチング液に浸漬した。
901乾燥膜厚は22μであった。塗布した感光性樹脂
層上((、更:てけん化88%、重合度500のボリヒ
ニルアルコールの5−;y−、%水〕容1夜を回転塗布
銀:てよつ乾燥膜厚で約2μ((なるよう、(塗布形7
吸し、オーフ゛ンて30分Φ乞・功した(6OC)。こ
のよう((し−こイーl?1−1れだ、咄で象、)[4
成用オ料6てオーク社製ろにゝ、1□ジェットプリンタ
ーにてi 5 il、:/CTdで銀塩リスフィルムの
網侭)画像を原稿;・Cして密着面i象露光を行なった
。次に画像・1落光後の1tii像形成用材料を4く洗
してポリビニルアルコール層を除去してから、4wt%
ノ炭酸ナトリ17ムK l漬しなが冒スボンン壬゛こ丁
って感光性樹脂の現像を行なった。その後次の組成の2
5Cのエツチング液に浸漬した。
約5秒で非画像部のアルミニウムが完全(、てエツチン
グされ、さらに10秒間浸(責した後水洗乾燥した。そ
の結果実施例1と同様フリンジがなく、写真峙・在が硬
調な画像か得ら〕tた。画像は原喝に対してネガ−ポジ
であった。
グされ、さらに10秒間浸(責した後水洗乾燥した。そ
の結果実施例1と同様フリンジがなく、写真峙・在が硬
調な画像か得ら〕tた。画像は原喝に対してネガ−ポジ
であった。
実施例6
感光性樹脂に東京応化社製の(感光性樹脂TPRを用い
、感光性位1脂の膜厚が22μとなるよう調製し、実施
例1と同様の実験を行った。露光量を20rnJ /i
とし、キシレンで現像した後、モソレンで充分ゆすいだ
後60Cのオーブンで乾燥した。その後実施例1と同様
にエツチングすると、高階調でシャープなネガ画像が得
られた。
、感光性位1脂の膜厚が22μとなるよう調製し、実施
例1と同様の実験を行った。露光量を20rnJ /i
とし、キシレンで現像した後、モソレンで充分ゆすいだ
後60Cのオーブンで乾燥した。その後実施例1と同様
にエツチングすると、高階調でシャープなネガ画像が得
られた。
実施例4
2胴厚のガラス基板て純度99.999%のアルミニウ
ムをターゲノトニしてRFスパッタリンクを行った。積
層さ寸tたアルミニウムは4500′;Aで゛あった。
ムをターゲノトニしてRFスパッタリンクを行った。積
層さ寸tたアルミニウムは4500′;Aで゛あった。
アルミニウム層上:て実施例1と同じ方?去で7ノプレ
一社製感光[牛樹脂を塗4I5 L/、プリント基板用
′電極パターンを原塙として密着露光巳、実施例1と回
し方法で、現像し、しかろ後″てエツチングしシャープ
なパターンを得た。その後テトラヒドロフラン;てよつ
、・窓′#:、訃樹巾1諧を剥ji= L、転成したも
のを、電I飯として用いた。その結果!?虱あるいは、
制約:もなく良好:て作動した。
一社製感光[牛樹脂を塗4I5 L/、プリント基板用
′電極パターンを原塙として密着露光巳、実施例1と回
し方法で、現像し、しかろ後″てエツチングしシャープ
なパターンを得た。その後テトラヒドロフラン;てよつ
、・窓′#:、訃樹巾1諧を剥ji= L、転成したも
のを、電I飯として用いた。その結果!?虱あるいは、
制約:もなく良好:て作動した。
実施例5
実施例2て祷、′−)れだ網点画暑゛を下記の二種の2
2Cのエツチング液(・て浸漬し、感光性ケ脂層の状態
と、網点画惜fの面、riIT率の減少(城カー貴)¥
ヒJ−−・・ツク(東洋インキ製造社製の網点面積率(
D1]定器)で4111定した。
2Cのエツチング液(・て浸漬し、感光性ケ脂層の状態
と、網点画惜fの面、riIT率の減少(城カー貴)¥
ヒJ−−・・ツク(東洋インキ製造社製の網点面積率(
D1]定器)で4111定した。
七の結果、エツチングe、2て゛は50%の網へ面積率
の部分が1分間75%しか減力(−なかったが、エツチ
ング液1ては乙0秒て110%の減力かなされた。また
エツチング液1ては5分闇七のまま浸、貴しても感光性
樹脂層の剥離はおこらなかったが、エツチング液2では
1分45秒で感光性樹脂層が膨潤しはじめ2分30秒で
完全に剥離した。
の部分が1分間75%しか減力(−なかったが、エツチ
ング液1ては乙0秒て110%の減力かなされた。また
エツチング液1ては5分闇七のまま浸、貴しても感光性
樹脂層の剥離はおこらなかったが、エツチング液2では
1分45秒で感光性樹脂層が膨潤しはじめ2分30秒で
完全に剥離した。
実施例6
次表のエツチング液7作成(−だ。各、夜を26Cにし
た。
た。
各1液;・こ実施4Jlj 2て得L′)れだパターン
を1分′ト(IF・責した。その結果、エツチング液1
て1ま網薇面債率50%のところで180%減少してぃ
1こが、エツチング液2て・、ま75%しが減少しなか
った。またエツチング液ろては135%減少しているも
のの、画像・:ま虫が食ったようなびびりrIある形状
を呈していた。また合液のが9(まそれぞれ51.13
2.05であった。以上がらエツチング液1は弱酸性で
ありながら均一(てエツチングさn、しかもエラキング
速度(まアルカリ系エツチング液より極めて速かった。
を1分′ト(IF・責した。その結果、エツチング液1
て1ま網薇面債率50%のところで180%減少してぃ
1こが、エツチング液2て・、ま75%しが減少しなか
った。またエツチング液ろては135%減少しているも
のの、画像・:ま虫が食ったようなびびりrIある形状
を呈していた。また合液のが9(まそれぞれ51.13
2.05であった。以上がらエツチング液1は弱酸性で
ありながら均一(てエツチングさn、しかもエラキング
速度(まアルカリ系エツチング液より極めて速かった。
U上実施例で明らかなように、かかる画像形成用イシ料
と処理液を用いた該処]里方法知よると、従来の方去て
比較してエツチングが極めて速く、均一に、しかも中性
C・て近い状態で行えるため、処理時間が大幅((短V
¥され、高階像力でびびつのない画像が得l−Iれ、感
光性樹脂の脆化が少いため、す特許出願人 凸版印刷株式会社
と処理液を用いた該処]里方法知よると、従来の方去て
比較してエツチングが極めて速く、均一に、しかも中性
C・て近い状態で行えるため、処理時間が大幅((短V
¥され、高階像力でびびつのない画像が得l−Iれ、感
光性樹脂の脆化が少いため、す特許出願人 凸版印刷株式会社
Claims (5)
- (1)支持体上に、アルミニウム系金属薄層及び感光性
樹脂層を順設して成る画像形成用材料に対して感光性樹
脂層側より画像露光を施し、感光性樹脂層の可溶部分を
現像液(でより溶解:途去し、しかル後に露出したアル
ミニウム系金属薄層をエツチング処理する際、(刀〕、
化水素酸、フッrヒアンモニウム、フッ化水素アンモニ
ウムの少なくとモ一種の化合物を、合計05〜50 ’
、z’t%(−1戸j受化第゛二銅02〜5 ztyj
%(つ)硝酸001〜30−、vt%の三成分を少なく
とも含有するアルミニウム系金属用エツチング液により
エツチングすることを特徴とする画像形成用材料の処P
ト方法、。 - (2)支持体上に画像状のアルミニウム系金15@薄層
が存在し、さらにその−ヒに同−画像状の樹脂層が存在
するアルミニウム系金属tiiii @に、(刀フッ化
水sit、フッ化アンモニウム、フッ化水素アンモニウ
ムのうち少なくとも一種の化合物を、合計05〜60w
t%(イ)酸化第二銅を0.2〜5 vlt% (つ)
硝酸を001〜30 wt%の三成分を少なくとも含有
するアルミニウム系金属用エツチング液を接触させ、ア
ルミニウム系金属薄層を横方向にエツチングし、金属系
画像のサインを減少させることを特徴とする金属系画像
の処理方法3、 - (3)アルミニウム系金属用エツチング液に非イオン系
あるいはアニオン系界面活性剤を含有することを特徴と
する特許請求範囲第1項記載の画像形成用材料の処理方
法。 - (4)アルミニウム系金属用エツチング液に非イオン系
あるいはアニオン系界面活性剤を含有することを特徴と
する特許請氷の範囲第2項記載の金属系面像の処理方法
3、 - (5)アルミニウム系金属用エツチング液に水溶性有機
溶剤を含有することを特徴とする特許5青求の範囲第2
項記載の金属系画像の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23479582A JPS6017030B2 (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 画像形成用材料の処理方法及び金属系画像の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23479582A JPS6017030B2 (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 画像形成用材料の処理方法及び金属系画像の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59123774A true JPS59123774A (ja) | 1984-07-17 |
| JPS6017030B2 JPS6017030B2 (ja) | 1985-04-30 |
Family
ID=16976507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23479582A Expired JPS6017030B2 (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 画像形成用材料の処理方法及び金属系画像の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6017030B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62218585A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-09-25 | Hoya Corp | フオトマスクの製造方法 |
-
1982
- 1982-12-27 JP JP23479582A patent/JPS6017030B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62218585A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-09-25 | Hoya Corp | フオトマスクの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6017030B2 (ja) | 1985-04-30 |
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