JPS59123772A - アルミニウム系金属用エツチング液 - Google Patents
アルミニウム系金属用エツチング液Info
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- JPS59123772A JPS59123772A JP23479682A JP23479682A JPS59123772A JP S59123772 A JPS59123772 A JP S59123772A JP 23479682 A JP23479682 A JP 23479682A JP 23479682 A JP23479682 A JP 23479682A JP S59123772 A JPS59123772 A JP S59123772A
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- Japan
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- etching
- aluminum
- base metals
- acid
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/16—Acidic compositions
- C23F1/20—Acidic compositions for etching aluminium or alloys thereof
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アルミニウムを主体とする金属、すなわちア
ルミニウム系金属の表面加工、あるいはレリーフ作製あ
るいは穿孔に用いろエツチング用処理液に関するもので
ある。
ルミニウム系金属の表面加工、あるいはレリーフ作製あ
るいは穿孔に用いろエツチング用処理液に関するもので
ある。
美術工芸品、連装材料などがあり、情報伝達媒体として
有効なものとしては、襟識、表示板、広告板、投影用原
版、光学マスク、印ｉｉ’ｉ製服用フィルム、印、刷版
などがあり、（幾株部品として１効なものとしては、プ
リント基板、プリントコイル、ンヤドウマスク、など精
密加工部品がある。
有効なものとしては、襟識、表示板、広告板、投影用原
版、光学マスク、印ｉｉ’ｉ製服用フィルム、印、刷版
などがあり、（幾株部品として１効なものとしては、プ
リント基板、プリントコイル、ンヤドウマスク、など精
密加工部品がある。
本発明の処理液を使用した処理法としては、アルミニウ
ム系金属に直接浸漬あるいは塗布などにより接触させる
方法と、処理液に不溶のレジストでアルミニウム系金属
層上にバターニングしてから接触させろ方法があり、パ
ターニングには、感光性樹脂を塗布し画像露光および現
像による方法、あるいはフルクスクリーン印刷、オフセ
ット印刷などの印刷による方法、ある（・は粘着テープ
などによる方法、あるいはレジストの筆による塗布など
直接的な方法がある。本発明は、例えば前記した方法に
よってバターニングした以外の露出したアルミニウム系
金属に接触させ、エツチングするためのエツチング？夜
であり、アルミニウム系金属表面の均一なエツチング加
工やレリーフパターン像、穿孔パターン像などを形成す
るためのものである。アルミニウム基金７１りのエツチ
ング液１］としてはアルカＩＪ 注のもの散性のものな
ど多くか発表されている。
ム系金属に直接浸漬あるいは塗布などにより接触させる
方法と、処理液に不溶のレジストでアルミニウム系金属
層上にバターニングしてから接触させろ方法があり、パ
ターニングには、感光性樹脂を塗布し画像露光および現
像による方法、あるいはフルクスクリーン印刷、オフセ
ット印刷などの印刷による方法、ある（・は粘着テープ
などによる方法、あるいはレジストの筆による塗布など
直接的な方法がある。本発明は、例えば前記した方法に
よってバターニングした以外の露出したアルミニウム系
金属に接触させ、エツチングするためのエツチング？夜
であり、アルミニウム系金属表面の均一なエツチング加
工やレリーフパターン像、穿孔パターン像などを形成す
るためのものである。アルミニウム基金７１りのエツチ
ング液１］としてはアルカＩＪ 注のもの散性のものな
ど多くか発表されている。
これらを大別するとアルカリ系、りん酸系、フッ素系の
三系統：で大別されろ。アルカリ系としては水酸化ナト
リウム檗液、あるいは、ＡＩｐｐｏｌ Ｉ法と呼ばれて
いる方法、すなわちＮａ０Ｉ−Ｊ ２８ ｗｔ％、Ｎａ
ＮＯ３２３ｗｔ％、ＮａＮｏ２１７ ｗｔ％、Ｎａ３Ｐ
Ｏ４１０ｗｔ％。
三系統：で大別されろ。アルカリ系としては水酸化ナト
リウム檗液、あるいは、ＡＩｐｐｏｌ Ｉ法と呼ばれて
いる方法、すなわちＮａ０Ｉ−Ｊ ２８ ｗｔ％、Ｎａ
ＮＯ３２３ｗｔ％、ＮａＮｏ２１７ ｗｔ％、Ｎａ３Ｐ
Ｏ４１０ｗｔ％。
Ｃｕ（Ｎｏ３）２ ０．０１５ｗｔ％の溶液（１２０−
１４５°Ｃ）で５〜１５秒間処理する方法などが知られ
ている。
１４５°Ｃ）で５〜１５秒間処理する方法などが知られ
ている。
しかしアルカリ性水溶液は、感光性レジストの剥膜剤と
して用℃・られ石ように、基体と感光性レジストの接着
性を低下させろ作用を有する。したかって、アルミニウ
ム系金属上に処理液に不溶のレジストでバターニングし
てからエツチングする方法に上述の処理液を用いろ場省
には、不溶性レジストがアルミニウム系金属のエツチン
グ中に剥離する１頃向があるため好ましくない。また高
温のアルカリ水溶液を用いることも作業上好ましくなし
・。次に、りん酸系１ては、りん酸・硝酸系、りん酸・
しよう酸・酢酸系、りん酸・しよう酸・硫酸系、硝酸・
硫酸・はう酸系、りん酸・酢酸系などがあり、また硫酸
ニッケルや硫酸第１鉄、塩化鋼。
して用℃・られ石ように、基体と感光性レジストの接着
性を低下させろ作用を有する。したかって、アルミニウ
ム系金属上に処理液に不溶のレジストでバターニングし
てからエツチングする方法に上述の処理液を用いろ場省
には、不溶性レジストがアルミニウム系金属のエツチン
グ中に剥離する１頃向があるため好ましくない。また高
温のアルカリ水溶液を用いることも作業上好ましくなし
・。次に、りん酸系１ては、りん酸・硝酸系、りん酸・
しよう酸・酢酸系、りん酸・しよう酸・硫酸系、硝酸・
硫酸・はう酸系、りん酸・酢酸系などがあり、また硫酸
ニッケルや硫酸第１鉄、塩化鋼。
硝酸銅、硫酸銅などを添加した処理液が発表されている
。しかしこれらはすべて処理温度が８５〜１２０°Ｃと
高く作業上好ましくない。またエツチング速度も遅く、
しかもｐＨがきわめて低いためにバターニングをしてか
らエツチングする方法にこの処理液を用いる場合には、
強酸に強いレジストを選択しなげればならない。またリ
ン酸系エツチング液は、エツチング中に気泡を生じる定
め、作業上好ましくなく、パターン作製に用いる場合に
はパターンの画質低下の原因となる。
。しかしこれらはすべて処理温度が８５〜１２０°Ｃと
高く作業上好ましくない。またエツチング速度も遅く、
しかもｐＨがきわめて低いためにバターニングをしてか
らエツチングする方法にこの処理液を用いる場合には、
強酸に強いレジストを選択しなげればならない。またリ
ン酸系エツチング液は、エツチング中に気泡を生じる定
め、作業上好ましくなく、パターン作製に用いる場合に
はパターンの画質低下の原因となる。
次に、フン素糸には下表へような４種の処理液が知られ
ている。
ている。
フッ素系エツチング液は、リン酸に比較すると、低い温
度で処理することができ、酸濃度が低いために２１１も
リン酸系よりは高く中性に近い。しがし気泡の発生は４
種とも激しく゛。
度で処理することができ、酸濃度が低いために２１１も
リン酸系よりは高く中性に近い。しがし気泡の発生は４
種とも激しく゛。
上記４種の処理液のうちＥｒｆｔｗｅｒｋ法（Ｅ、Ｗ、
法つとＭＥ八へ１去は硝酸の濃度が高いためにエツチン
グ速度は大きいものの酸性も強すぎろ。Ｊ（ａｉｓｅｒ
法、Ｑｅｎｅｒａｌ Ｍｏｔｏｒ法では銅イオンの添加
によつエツチング速度がいくぶん大きくなるもののその
程度はわずかでありまたｐ＋−１も太ぎくはならない。
法つとＭＥ八へ１去は硝酸の濃度が高いためにエツチン
グ速度は大きいものの酸性も強すぎろ。Ｊ（ａｉｓｅｒ
法、Ｑｅｎｅｒａｌ Ｍｏｔｏｒ法では銅イオンの添加
によつエツチング速度がいくぶん大きくなるもののその
程度はわずかでありまたｐ＋−１も太ぎくはならない。
また気泡発生防止にはあまり効果がない。
このように三系統のアルミエツチング剤には、それぞれ
特徴があるものの、気泡を発生せず、強アルカリでも強
酸でもなく、エツチング速度が大きいという条件を満た
すものはない。また硝酸、硫酸、塩酸などの鉱酸の希釈
液でもエンチングは行われるが、一般にアルミニウムに
は表面に酸化物の不動態層が形成されており、これらの
鉱酸希釈液では不動態層を＠解しにくく、エツチング速
度が遅く、しかも表面が均一にエツチングされない。
特徴があるものの、気泡を発生せず、強アルカリでも強
酸でもなく、エツチング速度が大きいという条件を満た
すものはない。また硝酸、硫酸、塩酸などの鉱酸の希釈
液でもエンチングは行われるが、一般にアルミニウムに
は表面に酸化物の不動態層が形成されており、これらの
鉱酸希釈液では不動態層を＠解しにくく、エツチング速
度が遅く、しかも表面が均一にエツチングされない。
本発明者等（ま、これらの欠点に鑑みアルミニウム系金
属な均一（・て迅速にエツチングしうる処理７仮につい
て倹バ・１を行い、アルミニウム基金１・膜のエツチン
グ速、度が速く、しかも低温での処理が可能で、更には
レジストの選択範囲が４歩めて広い処理、イタの１明成
を見出し、本発明を完成した。
属な均一（・て迅速にエツチングしうる処理７仮につい
て倹バ・１を行い、アルミニウム基金１・膜のエツチン
グ速、度が速く、しかも低温での処理が可能で、更には
レジストの選択範囲が４歩めて広い処理、イタの１明成
を見出し、本発明を完成した。
すなわち不発明（型、アルミニウム系金□、萬の表面処
理および／またはエツチングに用いろ処理液：、（お℃
・て、（７）フッ化水素酸、フッ化アンモニウム、フン
化水素アンモニウムのうち少なくとも一種の化合物を合
計０５〜３Ｑｗｔ％ ビ）酸化第二箱を０．２−５ｗｔ
％ （つ）硝酸を０．０１−３ Ｑｗｔ％の三成分を少
な（とも含有することを特徴とする処理液である。
理および／またはエツチングに用いろ処理液：、（お℃
・て、（７）フッ化水素酸、フッ化アンモニウム、フン
化水素アンモニウムのうち少なくとも一種の化合物を合
計０５〜３Ｑｗｔ％ ビ）酸化第二箱を０．２−５ｗｔ
％ （つ）硝酸を０．０１−３ Ｑｗｔ％の三成分を少
な（とも含有することを特徴とする処理液である。
Ｖ、千木発明の詳細な説明する。
本発明の処理液が適用できる金属は、アルミニウムおよ
びその化合物で、化合物としては、亜鉛。
びその化合物で、化合物としては、亜鉛。
鉛、スす、テルル、ビスマス、鉄、ニッケル、チタン、
銅、クロムなどとの台金、およびその酸化物、窒化物、
ホウ化物、炭化物、硫化物および塩類などが例示される
。
銅、クロムなどとの台金、およびその酸化物、窒化物、
ホウ化物、炭化物、硫化物および塩類などが例示される
。
次に本発明の処理液の中心となる三成分についてそれぞ
れ述べる。
れ述べる。
ます、フッ素化合物について述べる。アルミニウム表面
には一般に酸１ヒ物の不動態被膜が形成されており、塩
酸、硫酸、硝酸のような強酸の単数□ では：溶解せず均一なエツチングができない。このよう
なエツチングでは、不動態被膜のある部分、たとえばピ
ンホールからエツチングが浸入し、この部分から横方向
に腐食が進み、金属が薄層の場合、ピンホールか広がる
ような形状を呈する。しかしハロゲンイオン、特にフッ
素イオンはこの不動態層を破壊する作用を有し、フッ素
イオンのエノチンダ液への含有により、エツチング速度
が著しく大きくなるとともに、均一性が向上する。この
現象はフッ素化合物の中でも、フッ化水素酸、フン化ア
ンモニウム、フン化水素アンモニウムにおいて特に効果
が顕著である。添加濃度は０５〜３０）■１％が適する
。０５ｗｔ％未満では効果か小さく、３０）〜・１％以
上では効果の差があまりなくなる。
には一般に酸１ヒ物の不動態被膜が形成されており、塩
酸、硫酸、硝酸のような強酸の単数□ では：溶解せず均一なエツチングができない。このよう
なエツチングでは、不動態被膜のある部分、たとえばピ
ンホールからエツチングが浸入し、この部分から横方向
に腐食が進み、金属が薄層の場合、ピンホールか広がる
ような形状を呈する。しかしハロゲンイオン、特にフッ
素イオンはこの不動態層を破壊する作用を有し、フッ素
イオンのエノチンダ液への含有により、エツチング速度
が著しく大きくなるとともに、均一性が向上する。この
現象はフッ素化合物の中でも、フッ化水素酸、フン化ア
ンモニウム、フン化水素アンモニウムにおいて特に効果
が顕著である。添加濃度は０５〜３０）■１％が適する
。０５ｗｔ％未満では効果か小さく、３０）〜・１％以
上では効果の差があまりなくなる。
さらに〃了ましくは１〜１５ｗｔ％である。
上記のフン素化合力水溶液によるアルミニウム系金属の
：遊食では激しく気泡が発生する。気泡が金属表面に付
着すると付着部分の、・χ食か阻害され表面が凹凸にエ
ツチングされる。またエツチング速度も著しく阻害さオ
ｔろ。したがって発生ずる水素を酸化し消泡する効果か
あり、また発生する水素による分１ヴを防止し、エツチ
ング速度を増大する効果をもつ酸イヒ剤の添加が有効で
ある。電池の復極剤として知られる酸１ヒ第二銅、二酸
化鉛５重クロム竣カリウム、二酸化マンガンなとはこの
効果を有するが、特に酸化第二銅は、発泡防止およびエ
ツチング促進に著しい効果を有する。これは発生する水
素を酸化すると同ｔｉｅ）にアルミニウムより銅の方が
イオン化傾向が小さいためにアルミニウムを腐食する効
果も有するためで、またその際に生じろ金属銅がアルミ
ニウム系金属の表面に付着し、部分電池が形成されろた
めに、さらにエツチングが促進される。添加濃度は０２
〜５ｗｔ％が適する。Ｑ２ｗｔ％未満では効果が小さい
。また酸化第二銅は中性水溶液には不溶で、酸性水溶液
中で溶解する。したがって次に述べろ硝酸の濃度と上述
のフッ素化合物の濃度にもよるが、溶解度による上限が
存在する。飽和濃度まで添加しても効果か衰えることは
ない。硝酸の適正濃度から酸化鳩二銅乞５ｗｔ％よりも
多く添加しても溶解せず効果はない。酸化効果のない銅
化合物を酸化第二銅酸銀、しゅう鍍銅、りん鍍銅、はう
酸銀、酢鍍銅か例示されろ。特に酢酸銅は一酸性でもア
ルカリ性でも溶解し、エツチング促進効果も高見・。
：遊食では激しく気泡が発生する。気泡が金属表面に付
着すると付着部分の、・χ食か阻害され表面が凹凸にエ
ツチングされる。またエツチング速度も著しく阻害さオ
ｔろ。したがって発生ずる水素を酸化し消泡する効果か
あり、また発生する水素による分１ヴを防止し、エツチ
ング速度を増大する効果をもつ酸イヒ剤の添加が有効で
ある。電池の復極剤として知られる酸１ヒ第二銅、二酸
化鉛５重クロム竣カリウム、二酸化マンガンなとはこの
効果を有するが、特に酸化第二銅は、発泡防止およびエ
ツチング促進に著しい効果を有する。これは発生する水
素を酸化すると同ｔｉｅ）にアルミニウムより銅の方が
イオン化傾向が小さいためにアルミニウムを腐食する効
果も有するためで、またその際に生じろ金属銅がアルミ
ニウム系金属の表面に付着し、部分電池が形成されろた
めに、さらにエツチングが促進される。添加濃度は０２
〜５ｗｔ％が適する。Ｑ２ｗｔ％未満では効果が小さい
。また酸化第二銅は中性水溶液には不溶で、酸性水溶液
中で溶解する。したがって次に述べろ硝酸の濃度と上述
のフッ素化合物の濃度にもよるが、溶解度による上限が
存在する。飽和濃度まで添加しても効果か衰えることは
ない。硝酸の適正濃度から酸化鳩二銅乞５ｗｔ％よりも
多く添加しても溶解せず効果はない。酸化効果のない銅
化合物を酸化第二銅酸銀、しゅう鍍銅、りん鍍銅、はう
酸銀、酢鍍銅か例示されろ。特に酢酸銅は一酸性でもア
ルカリ性でも溶解し、エツチング促進効果も高見・。
次に硝酸について述べろ。アルミニウムのエツチング速
度を促進し、酸化第二銅の溶解性の向上のために硝酸を
加えろことが心安である。また本発明のエツチング液を
使用してアルミニウム系金属のエツチングを行なうと、
アルミニウム系金、属への金属銅の付着、あるいは溶解
アルミニウムの再付着があり、これを溶解しつる酸を添
加する必要がある。硝酸：′ｌ！、、金属銅、金属アル
ミニウムとも極めて速やか（・て溶解ずろので最も好ま
しい。添加（１農度は０．０１−３０ｖ、１％か適する
。０．０１ｗｔ’３／。
度を促進し、酸化第二銅の溶解性の向上のために硝酸を
加えろことが心安である。また本発明のエツチング液を
使用してアルミニウム系金属のエツチングを行なうと、
アルミニウム系金、属への金属銅の付着、あるいは溶解
アルミニウムの再付着があり、これを溶解しつる酸を添
加する必要がある。硝酸：′ｌ！、、金属銅、金属アル
ミニウムとも極めて速やか（・て溶解ずろので最も好ま
しい。添加（１農度は０．０１−３０ｖ、１％か適する
。０．０１ｗｔ’３／。
未到では効果かなく、３０Ｗ１％以上では、気（包の発
生があり、また、し・シストによるパターン状のエツチ
ング（τ用いる場＠には、レジス１の剥ヒ：（「の原因
になる。
生があり、また、し・シストによるパターン状のエツチ
ング（τ用いる場＠には、レジス１の剥ヒ：（「の原因
になる。
以上のように三成分の組み合せによりはじめて目的の性
能を得ろことができる。また、被エツチング体であるア
ルミニウム系金属の処理液に７・ｊするぬれを向上する
ために界面活１牛剤な添加してもよい。界面、舌・１牛
斉１の孝重頓として：ま非イオン系冗よびアニオン系の
もの力・好ましく、非イオン系、アニオン系のものなら
すべて便用できろ。特に好デしくは、非イオン系のポリ
オキンエチレンエーテルタイプ、エステルのポリオキン
エチレンエーテルタイプ、グリコールのエステルタイプ
、および７−４７系の脂肪旅行けんのようなカルボン酸
塩タイプ、アルキルベンゼンスルホン酸塩のようなスル
ホン酸塩タイプなどである。添加量は０．００１〜１
ｗｔ％程度が好ましい。また表面の均一性すなわちエツ
チング後の金属の光沢を向上させるためにエチレングリ
コール、グリセリン、ポリエチレングリコールのような
粘稠の水溶性有機イし金物を添加してもよい。添加量は
０．０２〜］、 Ｑ ｗｔ％が適し、好ましくは０５〜
２ｗｔ％である。
能を得ろことができる。また、被エツチング体であるア
ルミニウム系金属の処理液に７・ｊするぬれを向上する
ために界面活１牛剤な添加してもよい。界面、舌・１牛
斉１の孝重頓として：ま非イオン系冗よびアニオン系の
もの力・好ましく、非イオン系、アニオン系のものなら
すべて便用できろ。特に好デしくは、非イオン系のポリ
オキンエチレンエーテルタイプ、エステルのポリオキン
エチレンエーテルタイプ、グリコールのエステルタイプ
、および７−４７系の脂肪旅行けんのようなカルボン酸
塩タイプ、アルキルベンゼンスルホン酸塩のようなスル
ホン酸塩タイプなどである。添加量は０．００１〜１
ｗｔ％程度が好ましい。また表面の均一性すなわちエツ
チング後の金属の光沢を向上させるためにエチレングリ
コール、グリセリン、ポリエチレングリコールのような
粘稠の水溶性有機イし金物を添加してもよい。添加量は
０．０２〜］、 Ｑ ｗｔ％が適し、好ましくは０５〜
２ｗｔ％である。
以上かかる組７吸よりなる本発明の処理液を用いれば、
従来のエツチング剤に比較して、極めて速いアルミニウ
ム系金属のエツチング速度が得られ、低い温度で処理す
ることができ、また液の１〕１（が中性に近い酸性であ
るため（（、処理液に不溶のレジストでアルミニウム系
金属層上にバターニングしてから処理する方法に通用す
る場名には、ｐ）Ｉに対する耐性に関して、レジストの
選択性が極めて太き（なる。
従来のエツチング剤に比較して、極めて速いアルミニウ
ム系金属のエツチング速度が得られ、低い温度で処理す
ることができ、また液の１〕１（が中性に近い酸性であ
るため（（、処理液に不溶のレジストでアルミニウム系
金属層上にバターニングしてから処理する方法に通用す
る場名には、ｐ）Ｉに対する耐性に関して、レジストの
選択性が極めて太き（なる。
この発明を以下に実施例を用いてさらに詳細に説明する
。
。
実施例１
］、 ＯＯμのポリエチレンテレフタレートフィルム上
にアルミニウムを約１０００大真空蒸着したフィルムの
小片を下表の組成のエツチング液に浸漬し、アルミニウ
ムが腐食されるまでの時間と、エツチング液のｐＨをマ
則定した。液の温度は２２．０°Ｃであった。結果な下
衣に示した。
にアルミニウムを約１０００大真空蒸着したフィルムの
小片を下表の組成のエツチング液に浸漬し、アルミニウ
ムが腐食されるまでの時間と、エツチング液のｐＨをマ
則定した。液の温度は２２．０°Ｃであった。結果な下
衣に示した。
以上のように、りん酸系エンチング液に比較して極めて
速やかにアルミニウムかエツチングされた。また、エツ
チング時におけろｐＨは中性に近いものであった。
速やかにアルミニウムかエツチングされた。また、エツ
チング時におけろｐＨは中性に近いものであった。
実施例２
下表の組成のエツチング液を調製し、実施例１と同様の
実験を行った。その結果を下表に示した。
実験を行った。その結果を下表に示した。
以上からフッ素系の従来処方に比較してｐＨが高く中性
に近く１．シかもエツチング速度が短か（・ことが理解
されよう。
に近く１．シかもエツチング速度が短か（・ことが理解
されよう。
実施例３
Ｅ残り 水
上記組成の液を６種類作製し、下表の銅化合物をそれぞ
れに２Ｘ〜ｔ％添加し、エツチング液を作製した。この
液を用いて実施例１と同様の実、験をおこなった。その
結果を下表は示した。
れに２Ｘ〜ｔ％添加し、エツチング液を作製した。この
液を用いて実施例１と同様の実、験をおこなった。その
結果を下表は示した。
以上のように、添加によりｐＨが高くなったのは酸１ヒ
第二企同のろ、であり、アルミニウムのエツチング促進
に最も効果が高いことがわかった。
第二企同のろ、であり、アルミニウムのエツチング促進
に最も効果が高いことがわかった。
実施例４
上記組成に対して下表の酸を２．５ ｗｔ％添加し、各
エツチング液に対して実施例１と同様の実験を行い、そ
の結果を下表に示した。
エツチング液に対して実施例１と同様の実験を行い、そ
の結果を下表に示した。
以上からエツチング速度が大きく、しかも銅の付着のほ
とんどないものは硝酸しがないことがわかった。
とんどないものは硝酸しがないことがわかった。
実施例５
２Ｍ厚のガラス基板上にアルミニウムと鉄を共蒸着で２
０００人設け、さらにＡＺ −１３５０（ンノブレー社
製）を回転塗布機により乾燥膜厚で２μとなるよう積層
した。６０°Ｃ乾燥器で３０分間乾燥した。リスフィル
ムにより作製した画像を原稿として密着し、超高圧水銀
灯３ Ｉ（１１１’ラングから１ｍの距離で画像露光を
行った。画像露光量は３０ｍ１７ｃｙｉ であった。
０００人設け、さらにＡＺ −１３５０（ンノブレー社
製）を回転塗布機により乾燥膜厚で２μとなるよう積層
した。６０°Ｃ乾燥器で３０分間乾燥した。リスフィル
ムにより作製した画像を原稿として密着し、超高圧水銀
灯３ Ｉ（１１１’ラングから１ｍの距離で画像露光を
行った。画像露光量は３０ｍ１７ｃｙｉ であった。
、へＺ−１−３５０用現像液でｆ、ｒ ２０秒間現１家
し、水洗した後次表のエツチングイクグ：・τ浸１貞ア
ルミニウムの露出した部分が約１５秒でエツチングされ
、全屈パターンか形成された。脱脂綿でこすりながら水
洗し、乾燥した。形成されたバク〜ンはコントラストか
高く、原オ高に忠実であった。
し、水洗した後次表のエツチングイクグ：・τ浸１貞ア
ルミニウムの露出した部分が約１５秒でエツチングされ
、全屈パターンか形成された。脱脂綿でこすりながら水
洗し、乾燥した。形成されたバク〜ンはコントラストか
高く、原オ高に忠実であった。
実施例６
１００μポリエチレンテレフタレートフイルムにアルミ
ニウムを１００ＯＡ蒸着し、アルミニウム表面；てオフ
セット印刷機２８００ ＣＤ （１）ヨウビ社製）およ
び、オフセットプロセスインキＴＪ（Ｕ−Ｇセットアカ
（東洋インチ製造社製）を用いてパターンを印刷した。
ニウムを１００ＯＡ蒸着し、アルミニウム表面；てオフ
セット印刷機２８００ ＣＤ （１）ヨウビ社製）およ
び、オフセットプロセスインキＴＪ（Ｕ−Ｇセットアカ
（東洋インチ製造社製）を用いてパターンを印刷した。
このフィルムを下記のエツチングｇｌＫ浸漬した。
約１０秒で、インキの付着した部分はアルミニウム１盲
か残り、それ以外はアルミニウムが溶解し、着色したア
ルミニウム画像が得られた。画像は鮮明で、びりつき、
反応物の付着などはみられなかった。
か残り、それ以外はアルミニウムが溶解し、着色したア
ルミニウム画像が得られた。画像は鮮明で、びりつき、
反応物の付着などはみられなかった。
実施例７
２ｍｙｎ厚のアルミニウム叛を５ａＩＬ×５□□□、に
切断し、下記のエツチング液に浸漬した。
切断し、下記のエツチング液に浸漬した。
時間的な重量の変化を測定し、アルミニウム叛の表面を
観察した。その結果２５μ／ｙｉｖのム′１」合でエツ
チングされ、表１面は光沢のある仕上りであった。
観察した。その結果２５μ／ｙｉｖのム′１」合でエツ
チングされ、表１面は光沢のある仕上りであった。
＼
実施例８
厚さ１訳のアルミニウムの板にスクリーン印刷にて東洋
インキ製造社製サーキットブラック（耐酸レジストイン
キ〕を印刷し、乾燥、バーニングを行なった。
インキ製造社製サーキットブラック（耐酸レジストイン
キ〕を印刷し、乾燥、バーニングを行なった。
バーニング後脂肪分を取除くため０５％ＮａＯＨ溶液に
５秒間浸漬し肌出しをし、水洗した。この板をケムカノ
ト社製ンステム５・１７腐蝕機にて腐食を行なった。
５秒間浸漬し肌出しをし、水洗した。この板をケムカノ
ト社製ンステム５・１７腐蝕機にて腐食を行なった。
エツチング液の組成は
のものを使用し、温度５０’Ｃで１０分間腐食を行なっ
た。その結果レジストインキが印刷された以外の部分は
Ｑ、 ５７ＭＩ腐食されなめらかな表面の谷になり、印
刷された部分はレジストインキが残り凸状になり美的効
果の高いネームプレートが作ら２ｔた。
た。その結果レジストインキが印刷された以外の部分は
Ｑ、 ５７ＭＩ腐食されなめらかな表面の谷になり、印
刷された部分はレジストインキが残り凸状になり美的効
果の高いネームプレートが作ら２ｔた。
実施例９
厚さ０７Ｍのアルミ板に次の組成の感光液をホワイラー
にて塗布した（ ２００ ｒＩ）ｍ ）。
にて塗布した（ ２００ ｒＩ）ｍ ）。
ｊ感光液の５１摸厚は１９μであった。ブリベイクとし
て６０゛Ｃで］Ｏ分間乾娠後感光摸面上に６５線で」０
〜９０％の網点の入ったネカの網点ｉ ｆｆ％４と密着
して３■＼Ｘいビ高圧水銀灯で１ｍの上堰か’、１分間
露光した。
て６０゛Ｃで］Ｏ分間乾娠後感光摸面上に６５線で」０
〜９０％の網点の入ったネカの網点ｉ ｆｆ％４と密着
して３■＼Ｘいビ高圧水銀灯で１ｍの上堰か’、１分間
露光した。
羽根車によって腐食液をふきつけろパウダレス閘食機に
より次の処方の１蜆食液（２５°Ｃ〕にて羽根車の回転
数３５ Ｏｒｐｍで３分間腐食を行ない、その後プラン
によりかすを取り除き水洗乾・燥後凸版用版材として使
用した。
より次の処方の１蜆食液（２５°Ｃ〕にて羽根車の回転
数３５ Ｏｒｐｍで３分間腐食を行ない、その後プラン
によりかすを取り除き水洗乾・燥後凸版用版材として使
用した。
この時網点面積１０％のハイライト部の深さはＣ１１２
ｍｍ、５０％の中間部は０．０７Ｍ、９０％のンヤド一
部は０．０４Ｍの深さであった。
ｍｍ、５０％の中間部は０．０７Ｍ、９０％のンヤド一
部は０．０４Ｍの深さであった。
特許出願人
凸版印刷株式会社
代表者 鈴 木 和 夫
Claims (3)
- （１）アルミニウム系金属の表面処理および／またはエ
ツチングに甲いる処理Ｃ夜において、Ｖ）フッ化水Ｗ
ｅ ＋フッ化アンモニウム、フッ１’Ｑ 水素アンモニ
ウムのうち少なくとも一不王の１シ＠吻を金言士０５〜
３０Ｗ１％、げ）１４叉化第二金向を０２〜５ＮＸｔ・
？ｊヨ１つ）不肖酸を０．０１〜；３０〜ｖｔ％、の三
成分を少なくとも含有することを特徴とするアルミニウ
ム系金％％ 用エツチング！夜。 - （２）非イオン系あるいはアニオン系界面舌注剤を含有
することを巧１第１とする特許請求の範囲第１項記載の
アルミニウム系金属用エツチング夜。 - （３）粘稠の水＠１ｑ４俳機化合物を含有ずろこと乞特
徴とする特許請求の範囲第１項記載のアルミニウム系金
属用エツチング液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23479682A JPS59123772A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | アルミニウム系金属用エツチング液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23479682A JPS59123772A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | アルミニウム系金属用エツチング液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59123772A true JPS59123772A (ja) | 1984-07-17 |
| JPH0530914B2 JPH0530914B2 (ja) | 1993-05-11 |
Family
ID=16976521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23479682A Granted JPS59123772A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | アルミニウム系金属用エツチング液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59123772A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998030652A1 (en) * | 1997-01-09 | 1998-07-16 | Henkel Corporation | Acid deoxidizing/etching composition and process suitable for vertical aluminum surfaces |
| GB2465260A (en) * | 2008-10-20 | 2010-05-19 | Smith International | A method of making a thermally-stable cutting element |
| KR101264421B1 (ko) | 2005-12-09 | 2013-05-14 | 동우 화인켐 주식회사 | 금속막 식각용액 |
| US8887837B2 (en) | 2011-02-10 | 2014-11-18 | Smith International, Inc. | Cutting structures for fixed cutter drill bit and other downhole cutting tools |
| US9347275B2 (en) | 2011-06-22 | 2016-05-24 | Smith International, Inc. | Fixed cutter drill bit with core fragmentation feature |
-
1982
- 1982-12-27 JP JP23479682A patent/JPS59123772A/ja active Granted
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998030652A1 (en) * | 1997-01-09 | 1998-07-16 | Henkel Corporation | Acid deoxidizing/etching composition and process suitable for vertical aluminum surfaces |
| KR101264421B1 (ko) | 2005-12-09 | 2013-05-14 | 동우 화인켐 주식회사 | 금속막 식각용액 |
| GB2465260A (en) * | 2008-10-20 | 2010-05-19 | Smith International | A method of making a thermally-stable cutting element |
| GB2465260B (en) * | 2008-10-20 | 2011-04-27 | Smith International | Techniques and materials for the accelerated removal of catalyst material from diamond bodies |
| US8535400B2 (en) | 2008-10-20 | 2013-09-17 | Smith International, Inc. | Techniques and materials for the accelerated removal of catalyst material from diamond bodies |
| US8887837B2 (en) | 2011-02-10 | 2014-11-18 | Smith International, Inc. | Cutting structures for fixed cutter drill bit and other downhole cutting tools |
| US9366090B2 (en) | 2011-02-10 | 2016-06-14 | Smith International, Inc. | Kerfing hybrid drill bit and other downhole cutting tools |
| US9404312B2 (en) | 2011-02-10 | 2016-08-02 | Smith International, Inc | Cutting structures for fixed cutter drill bit and other downhole cutting tools |
| US10851594B2 (en) | 2011-02-10 | 2020-12-01 | Smith International, Inc. | Kerfing hybrid drill bit and other downhole cutting tools |
| US9347275B2 (en) | 2011-06-22 | 2016-05-24 | Smith International, Inc. | Fixed cutter drill bit with core fragmentation feature |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0530914B2 (ja) | 1993-05-11 |
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