JPS59121950A - 試料固定方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （１）発明の技術分野 本発明は試料固定方法、詳しくはフォトマスク（レチク
ルともいう）の如き試料を固定する方法に関する。

（２）技術の背景 例えばウェハの焼付に用いるフォトマスクは第１図の断
面図に示される構造のもので、ソーダガラスまたは石英
ガラスの２ｍｍ〜３ｍｍ＜約０．０ｅン）の厚さのガラ
ス基板１の上表面にクロムと酸化クロムの２１Ｍ構成の
パターン２（通電の場合膜厚６００人程度）が形成され
ている。なお図において、パターン２は誇張して示した
。

このようなマスクを顕微鏡を用いて検査したりウェハに
焼付をなすに際し、ガラス基板Ｉを平坦な状態に保って
保持しなければならない。そのための１つの方法に第２
図（ａ）の斜視図に示される如きピン３を３本用いる３
点支持方法がある。かかる支持方法のための装置は第２
図ｆｂ）の側断面図に示され、この装置は枠４から成る
もので、枠４は平坦な底面４ａをもち、底面４ａに１ｍ
ｍ〜２ｍｍの高さのピン３が３本固定されている。なお
第２図以下において既に図示した部分と同じ部分は同一
符号を付して表示し、パターンは省略し、またピンの高
さは誇張して図示される。

（羽従来技術と問題点 上記したガラス基板１の上表面（以下に上表面とあるは
クロムパターンが形成される側の表面をいう）は６μｍ
〜１５μｍの平坦度に仕上げられるが、その反対側であ
る裏面は波うったように２０μｍ〜３０μｍ程度の平坦
度に仕上げられる。このようなガラス基板を用いると、
前記した３点支持方法では、表面が若干傾くことがある
。

また上記の３点支持においては、ガラス基板が自Ｍ（約
９０ｇ）で中央部分が凹んだ形状に反ることが観測され
た。

上記の如き傾きまたは反りはウェハ上に焼付られるパタ
ーン精度に影響を与え、最近は集積回路の微細化が要求
されるので、僅かの傾斜または反りの影響も無視できな
いところまできている。

他方、フォトマスクはウェハの大型化に対応して１５．
２４ｃｔｒ１口から２０．３２ｃｍ口（６工′口がら８
すンロ）のものが作られるようになり、そうなると自重
による反りが大になる傾向にある。かくして、フォトマ
スクの大型化が進む一方で集積回路の微細化が求められ
るので、フォトマスクの如き試料を平坦に支持して固定
する方法が要望されている。

（４）発明の目的 本発明は上記従来の問題点に鑑み、フォトマスクの如き
試料を平坦度を保って支持し固定し、それによって投影
されるマスクパターンの精度の低下を防止する試料固定
方法を提供することを目的とする。

（５）発明の構成 そしてこの目的は本発明によれば、試料の上表面の４縁
を前記上表面が同一平面にある如くに固定保持し、該試
料の上表面とは反対側の裏面の全面にわたって前記上表
面に向は押圧力を加えて該試料を固定して保持すること
を特徴とする試料固定方法を提供することによって達成
される。

（６）発明の実施例 以下本発明実施例を図面によって詳述する。

本願の発明者は、上記した如く、ガラス基板の上表面の
４縁を上表面の平坦度を維持する如くに固足し、枠によ
って保持し、ガラス基板全体をガラス基板の裏面から平
均した力で上方へ押圧する方法を考えついた。かがる方
法を実施するための装置を第３図に断面図で示す。

図示の試料固定装置５は、その側部分が断面コの字型に
形成され、コの字部分の上辺はガラス基板１の上表面を
押える押え部材５ａとして構成され、コの字の中空部分
にガラス基板１の縁部分が収まり、押え部材５ａのガラ
ス基板１の上表面と接触する下面は同一平面にある如く
精密仕上げをなす。

固定装置５の押え部材５ａと底面５ｂとによって形成さ
れる凹所６内には柔軟性をもった袋７を配置し、袋７に
はチューブ７ａによって空気を供給し、装置５の底面５
ｂにはチューブ７ａのための孔８を設ける。

ガラス基板１の固定に際しては、袋７の上にガラス基板
１を上表面を上にして配置し、次いで２　ｋｇ／　ｃｒ
Ａ　〜５　ｋｇ／　ｃｎ！の圧力で空気を袋７内に送る
と、袋７はふくらんで、第３図に示す如く、ガラス基板
１を上方にガラス基板１全体にわたり均一な力で押しや
る。押え部材５ａのガラス基板１と接触する面は前記し
た如く同一平面にあるので、ガラス基板１はその上表面
が平坦な状態で固定して保持されることになる。

前記した空気は、工場内に設けられた圧縮空気供給パイ
プから減圧用のバルブを用いて容易に袋７内に供給され
うる。

袋７は例えばゴムの如き柔軟性をもった材料で作るが、
ゴム以外の柔軟性と耐久性をもった材料を用いうろこと
はいうまでもない。

（７）発明の効果 以上詳細に説明したように、本発明の方法によるときは
、ガラス基板の如き試料がその上表面は平坦に保たれた
状態で固定され、しかもそのための手段は通常の技術で
精密に形成可能であるので、フォトマスクの顕微鏡試験
や他のマスクまたはウェハの焼付が正確になされる効果
があり、半導体装置の製造歩留り・、と信頼性向上に効
果大である。

【図面の簡単な説明】

第１図はフォトマスクの断面図、第２図（ａｌと（ｂ）
は第１図のフォトマスクの固定状態を示す斜視図と側断
面図、第３図は本発明の方法の実施に用イル装置の断面
図である。 １−ガラス基板、２・−クロムパターン、３−ピン、４
−枠、４ａ−枠４の底面、５−ガラス基板の固定装置、
５ａ−・−押え部材、５ｂ−底面、６−凹所、 ７−袋、７ａ−チューブ、８一孔

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 試料の上表面の４縁を前記上表面が同一平面にある如く
   に固定保持し、該試料の上表面とは反対側の裏面の全面
   にわたって前記上表面に向は押圧力を加えて該試料を固
   定して保持することを特徴とする試料固定方法。