JPS59119661A - 電子顕微鏡における電子線偏向方法 - Google Patents
電子顕微鏡における電子線偏向方法Info
- Publication number
- JPS59119661A JPS59119661A JP57230542A JP23054282A JPS59119661A JP S59119661 A JPS59119661 A JP S59119661A JP 57230542 A JP57230542 A JP 57230542A JP 23054282 A JP23054282 A JP 23054282A JP S59119661 A JPS59119661 A JP S59119661A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deflection
- electron beams
- electron beam
- sample
- electron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は結晶試１′＋１の観察に便利イｆ電子顕微鏡用
電子線偏向装買に関する。
電子線偏向装買に関する。
結晶性の物質を分析づ−る装「１の一つどして電子顕微
鏡があり、電子顕微鏡は試Ｙ１の結晶構造だけでなく顕
微鏡像と対応させた情報が得られることから、特に試＄
１１の微小な領域におりる結晶ｆ！］を研究するための
装置として広く用いられている。電子顕微鏡によって結
晶性試別を観察する場合、試わ１に入射する電子線と試
わ１結晶面の位四関係を正確に設定することが重要とさ
れるので、通常は結晶試わ１の基準となる結晶面が入射
電子線に対して垂直どなるように試別傾斜装置を調整仕
ることが行われ°Ｃいる。この調整操作は第１図に示す
装置を用いて以下に述べる手順で行われる。
鏡があり、電子顕微鏡は試Ｙ１の結晶構造だけでなく顕
微鏡像と対応させた情報が得られることから、特に試＄
１１の微小な領域におりる結晶ｆ！］を研究するための
装置として広く用いられている。電子顕微鏡によって結
晶性試別を観察する場合、試わ１に入射する電子線と試
わ１結晶面の位四関係を正確に設定することが重要とさ
れるので、通常は結晶試わ１の基準となる結晶面が入射
電子線に対して垂直どなるように試別傾斜装置を調整仕
ることが行われ°Ｃいる。この調整操作は第１図に示す
装置を用いて以下に述べる手順で行われる。
第１図はにおいで、偏向電源１からは２種類の偏向電流
ＴＸ、ＴＶが出力され、夫々バランス抵抗ｒ＋ 、ｒ２
．ｒ３．ｒ４を介して２段構成の偏向］イルＸ１．Ｘ２
１’／１ｌＶ２へ供給される。
ＴＸ、ＴＶが出力され、夫々バランス抵抗ｒ＋ 、ｒ２
．ｒ３．ｒ４を介して２段構成の偏向］イルＸ１．Ｘ２
１’／１ｌＶ２へ供給される。
このような構成の偏向系を使用づ−ると、試Ｆ３１．６
を照射する電子線７の経路を図のように偏向し、その試
別への入射角θや方位角φを任意に可変することができ
る。但し、光軸ｌと直交するＸ軸、Ｙ軸が形成する（×
Ｙ）而に四かれる試料６の電子線照射位置Ｐは常に一定
に保たれる。試ｔｐＡ６は薄膜の状態に処理されており
、該試別を透過した電子線８は対物レンズ９により対物
レンズの後焦面に第２図に示すような回折パターンを形
成する。
を照射する電子線７の経路を図のように偏向し、その試
別への入射角θや方位角φを任意に可変することができ
る。但し、光軸ｌと直交するＸ軸、Ｙ軸が形成する（×
Ｙ）而に四かれる試料６の電子線照射位置Ｐは常に一定
に保たれる。試ｔｐＡ６は薄膜の状態に処理されており
、該試別を透過した電子線８は対物レンズ９により対物
レンズの後焦面に第２図に示すような回折パターンを形
成する。
この回折パターンは中間レンズ、投影レンズ等から構成
される結像１ノンズ１０によって螢光板１１上に拡大し
て投影される。このとき、電子ＩＧ！７が結晶ｔ（Ｉ試
別６の結晶面と垂直に入射していれば第２図に示す回折
パターンにおける（０２０）。
される結像１ノンズ１０によって螢光板１１上に拡大し
て投影される。このとき、電子ＩＧ！７が結晶ｔ（Ｉ試
別６の結晶面と垂直に入射していれば第２図に示す回折
パターンにおける（０２０）。
（２００）、（０２０）、（２（’）Ｏ）等の回折スポ
ットの輝度は均一となるが、電子線７に対してれ一品面
が傾いていると均一にならないので、この現象を利用し
て試判位首を制御する試料装置の×１１１傾斜機措１２
、Ｙ軸傾斜機構１３を操作して試別の傾斜調整を行う。
ットの輝度は均一となるが、電子線７に対してれ一品面
が傾いていると均一にならないので、この現象を利用し
て試判位首を制御する試料装置の×１１１傾斜機措１２
、Ｙ軸傾斜機構１３を操作して試別の傾斜調整を行う。
ところが、螢光板１１上に拡大表示される第２図の回折
パターンは各回折スボッ１〜が小さい点状であるため、
その明るさの強弱を肉眼で正確に判断づることは極めて
何しい。
パターンは各回折スボッ１〜が小さい点状であるため、
その明るさの強弱を肉眼で正確に判断づることは極めて
何しい。
この問題を解決ηるため、次のような調整手順がとられ
る。即ち、初めに対物１ノンズの後焦面に絞り板１４を
挿入し、その電子線通過穴の中心を光軸７ど一致させ、
次に結像１ノンズ１０のレンズ電源１５を調整して螢光
板上に顕微鏡像が形成さねるようにする。この状態で偏
向電源１を操作して絞り板１４の絞り穴を通過りる回折
スボッ１〜を（０２０）→（２００）→（０２０）→（
２００）のように切り換え、切り換え前後にａ３ける顕
微鏡像の明るさに変化が生じないＪ：うにＸ、Ｙ軸傾斜
（幾構１２．１３を調整する方法である（この場合にお
（プる絞り板上と回折パターンの関係を第３図及び第４
図に示す）。このような調整手順ににれば、螢光板１１
を照射する電子線の電流値が電流計１６にｊ：って測定
され、この電流値を螢光板」−における顕微鏡像の明る
さに対応する信号どじで用いることができるので前述し
た従来方法におりる欠点は解決される。しかし乍ら、絞
り板１４に任意の回折スポットを通過ざゼるための偏向
電源１の制御を手動で行う操作が煩わしく、月つ不正確
にしか行えない欠点があった。
る。即ち、初めに対物１ノンズの後焦面に絞り板１４を
挿入し、その電子線通過穴の中心を光軸７ど一致させ、
次に結像１ノンズ１０のレンズ電源１５を調整して螢光
板上に顕微鏡像が形成さねるようにする。この状態で偏
向電源１を操作して絞り板１４の絞り穴を通過りる回折
スボッ１〜を（０２０）→（２００）→（０２０）→（
２００）のように切り換え、切り換え前後にａ３ける顕
微鏡像の明るさに変化が生じないＪ：うにＸ、Ｙ軸傾斜
（幾構１２．１３を調整する方法である（この場合にお
（プる絞り板上と回折パターンの関係を第３図及び第４
図に示す）。このような調整手順ににれば、螢光板１１
を照射する電子線の電流値が電流計１６にｊ：って測定
され、この電流値を螢光板」−における顕微鏡像の明る
さに対応する信号どじで用いることができるので前述し
た従来方法におりる欠点は解決される。しかし乍ら、絞
り板１４に任意の回折スポットを通過ざゼるための偏向
電源１の制御を手動で行う操作が煩わしく、月つ不正確
にしか行えない欠点があった。
本発明は、このような欠点を解決して電子線に対する結
晶面位買の調整を容易に覆ることを目的とＪるもので、
その装置は電子レンズ系の光軸に３− 沿一）て入０１する電子線の途中杼路を光軸のまわりの
任意の方位へ任意の偏向角だけ偏向するための偏向子と
、該偏向子へ電子線を複数の方位へ周期的に切り換えて
偏向するための偏向信号を供給するための偏向電源を設
け、隣り合う前記複数の方位のなづ一方位角が全て等し
く、口つ各方位における偏向量が等しくなるように（Ｍ
成したことを特徴とするものである。
晶面位買の調整を容易に覆ることを目的とＪるもので、
その装置は電子レンズ系の光軸に３− 沿一）て入０１する電子線の途中杼路を光軸のまわりの
任意の方位へ任意の偏向角だけ偏向するための偏向子と
、該偏向子へ電子線を複数の方位へ周期的に切り換えて
偏向するための偏向信号を供給するための偏向電源を設
け、隣り合う前記複数の方位のなづ一方位角が全て等し
く、口つ各方位における偏向量が等しくなるように（Ｍ
成したことを特徴とするものである。
第５図に示す本発明の一実施例装置には、第１図に示す
従来装置に偏向電源１を制御する手段として入射角制御
回路２と方位角制御回路３，４及びタイミング回路５が
設けられており、タイミング回路５から出力されるタイ
ミング信号によって偏向電源１の出力電流１ｘ、ＩＶは
次の表のように８１−８／１の状態に変化する。
従来装置に偏向電源１を制御する手段として入射角制御
回路２と方位角制御回路３，４及びタイミング回路５が
設けられており、タイミング回路５から出力されるタイ
ミング信号によって偏向電源１の出力電流１ｘ、ＩＶは
次の表のように８１−８／１の状態に変化する。
４ −
ここで電流（ｉｒ４ Ｔは入射角制御回路２を調整する
ことにＪ：って決められ、■×どＩＶの関係及び電子線
の偏向方位は方位角制御回路３，４を調整１−ることに
につて決められる（回路４は偏向方位の数、回路３は偏
向方位全体の位置調整を行う）。
ことにＪ：って決められ、■×どＩＶの関係及び電子線
の偏向方位は方位角制御回路３，４を調整１−ることに
につて決められる（回路４は偏向方位の数、回路３は偏
向方位全体の位置調整を行う）。
この調整は全ての隣り合う偏向方位のなす方位角φが等
しく、全ての入射角θが等しくなるｊ、うになされる。
しく、全ての入射角θが等しくなるｊ、うになされる。
その結果、試別照射電子線７に対する偏向が４段階に切
り換えられると、４つの回折スポットが順次絞り板１４
を通過する。オペレータは雷流剖１６の表示が一定に保
たれるように×。
り換えられると、４つの回折スポットが順次絞り板１４
を通過する。オペレータは雷流剖１６の表示が一定に保
たれるように×。
Ｙ軸傾斜機構１２．１３を調整し、試１’３１６の結晶
面を入射電子線に対して正しい位置に設定する。
面を入射電子線に対して正しい位置に設定する。
又、電流計１６の表示を読み取る代りに螢光板１１上に
表示される顕微鏡像の明るさ変化の観察に基づいてＸ、
Ｙ軸傾斜機構１２．１３を調整することもできる。
表示される顕微鏡像の明るさ変化の観察に基づいてＸ、
Ｙ軸傾斜機構１２．１３を調整することもできる。
第６図は本発明の仙の実施例の装置の要部のみを表わす
略図で、第５図と同一符号を附したものは同一構成要素
を表わしている。
略図で、第５図と同一符号を附したものは同一構成要素
を表わしている。
第６図の実施例装置は結晶１（１試］′々１の傾斜位置
調整の自動化を意図づるもので、傾斜ｔｊｌ１Ｍ １２
、１３ にｌ夫々制御回路を含むパルスモ〜り１６．
１７に３Ｊ、って駆動され、パルスモーク１６，１７は
スイッチング回路１８を介して信号検出回路１９から供
給される信６によって制御される。信号検出回路１９は
スイッチング回路２０．メモリー２１゜２２、及び差動
増幅器２３からなり、タイミング回路５からのタイミン
グ信号によってスイッチング回路２０が切り換えられ、
メモリー２１．２２の記憶内容がリレッ１〜される。信
号検出回路１９は検出抵抗ｒによって検出された螢光板
１１に流れ込む電子線の電流値を各回折スポラ１〜ごと
にメ１つり−２１又は２２へ切り換えて記憶し、該記憶
された電流舶の差を差動増幅器２３により検出するよう
に構成されている。タイミング回路５はスイッチング回
路１８を最初例えばパルスモータ１６側へ接続し、この
状態で偏向電源１の出力が前記表におＬＪるＳ１ヰＳ２
状態に切り換わるにうに制御する。そして差動増幅器２
３の出力が略零になるＪ、てこの状態を保持する。即ち
、この状態でｔ、１一種のｆ：′Ｊ帰）７回路がｔＭ成
される。次に差動増幅器２３の出力が略零に）ヱづると
タイミング回路５はスイッチング回路１８をパルスモー
タ１７へ接続させるようなタイミング信号を発生し、そ
れと同時に、偏向電源１の出力が前記表にお番プる５３
８４の状態に切り換わるにうに制御する。この状態を暫
らく保持すれば差動増幅器２３の出力が略零となり、試
料の傾斜調整が自動的に完了する。
調整の自動化を意図づるもので、傾斜ｔｊｌ１Ｍ １２
、１３ にｌ夫々制御回路を含むパルスモ〜り１６．
１７に３Ｊ、って駆動され、パルスモーク１６，１７は
スイッチング回路１８を介して信号検出回路１９から供
給される信６によって制御される。信号検出回路１９は
スイッチング回路２０．メモリー２１゜２２、及び差動
増幅器２３からなり、タイミング回路５からのタイミン
グ信号によってスイッチング回路２０が切り換えられ、
メモリー２１．２２の記憶内容がリレッ１〜される。信
号検出回路１９は検出抵抗ｒによって検出された螢光板
１１に流れ込む電子線の電流値を各回折スポラ１〜ごと
にメ１つり−２１又は２２へ切り換えて記憶し、該記憶
された電流舶の差を差動増幅器２３により検出するよう
に構成されている。タイミング回路５はスイッチング回
路１８を最初例えばパルスモータ１６側へ接続し、この
状態で偏向電源１の出力が前記表におＬＪるＳ１ヰＳ２
状態に切り換わるにうに制御する。そして差動増幅器２
３の出力が略零になるＪ、てこの状態を保持する。即ち
、この状態でｔ、１一種のｆ：′Ｊ帰）７回路がｔＭ成
される。次に差動増幅器２３の出力が略零に）ヱづると
タイミング回路５はスイッチング回路１８をパルスモー
タ１７へ接続させるようなタイミング信号を発生し、そ
れと同時に、偏向電源１の出力が前記表にお番プる５３
８４の状態に切り換わるにうに制御する。この状態を暫
らく保持すれば差動増幅器２３の出力が略零となり、試
料の傾斜調整が自動的に完了する。
以上のように本発明装置にＪ、れば、入用電子線に対す
る試料の結晶面の位置を正しい位置へ一致さ］Ｊるため
の操（’ｌ ／１ｌＩ４４ｉめＩ容易にイ「るので、電
子顕微鏡による結晶性試料の観察に大ぎな効果が発揮さ
れる。
る試料の結晶面の位置を正しい位置へ一致さ］Ｊるため
の操（’ｌ ／１ｌＩ４４ｉめＩ容易にイ「るので、電
子顕微鏡による結晶性試料の観察に大ぎな効果が発揮さ
れる。
第１図は装置を説明するための略図、第２図乃至第４図
は回折パターンと光軸７との関係を示す略図、第５図及
び第６図は本発明の仙の実施例装置を示づ略図である。 １：偏向電源、２：大川角制御回路、 ３． ＝１ ニ
ア一 方イＱ角制御回路、５：タイミング回路、６：試第３１
゜７．８：電子線、９：対物レンズ、１ｏ：結像レンズ
、１１：螢光板、１２：Ｘ軸傾斜機構、１３：ＹＩＩＩ
ｌｌｌ傾斜（幾構、”１４：絞り板、１５：レンズ電源
。 １６．１７：パルスー１−一タ、１９：信号検出回路。 ２０：スイッヂング回路、２１．２２：メモリー特８１
出願人 口木電子株式会ネ１ 代表者 細腰 −夫 −９−− ８− ２２０ ０２０ ２１０ ０ζＱ −仁Ｏ
は回折パターンと光軸７との関係を示す略図、第５図及
び第６図は本発明の仙の実施例装置を示づ略図である。 １：偏向電源、２：大川角制御回路、 ３． ＝１ ニ
ア一 方イＱ角制御回路、５：タイミング回路、６：試第３１
゜７．８：電子線、９：対物レンズ、１ｏ：結像レンズ
、１１：螢光板、１２：Ｘ軸傾斜機構、１３：ＹＩＩＩ
ｌｌｌ傾斜（幾構、”１４：絞り板、１５：レンズ電源
。 １６．１７：パルスー１−一タ、１９：信号検出回路。 ２０：スイッヂング回路、２１．２２：メモリー特８１
出願人 口木電子株式会ネ１ 代表者 細腰 −夫 −９−− ８− ２２０ ０２０ ２１０ ０ζＱ −仁Ｏ
Claims (1)
- 試ｒ１傾斜機構に保持された試別の特定領域を窯口・１
するように電子レンズ系の光軸に沿って入射する電子線
の途中経路を光軸のまわりの（ｆ意の方位へ任意の偏向
角だけ偏向するだめの偏向子と、該偏向子へ電子線を複
数の方位へ周期的に切り換えて偏向するための偏向信号
を供給するための偏向電源を設（プ、隣り合う前記複数
の方位のｆ、Ｔ７１方位角が全て等しく、目つ各方位に
おける偏向量が等しくなるように構成したことを特徴と
する電子顕微鏡用電子線偏向装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57230542A JPS59119661A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 電子顕微鏡における電子線偏向方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57230542A JPS59119661A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 電子顕微鏡における電子線偏向方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59119661A true JPS59119661A (ja) | 1984-07-10 |
| JPS6363109B2 JPS6363109B2 (ja) | 1988-12-06 |
Family
ID=16909383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57230542A Granted JPS59119661A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | 電子顕微鏡における電子線偏向方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59119661A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011181393A (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線を用いた測長方法 |
| JP2014170751A (ja) * | 2014-03-07 | 2014-09-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線を用いた測長方法 |
| JP2017054606A (ja) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子装置 |
-
1982
- 1982-12-27 JP JP57230542A patent/JPS59119661A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011181393A (ja) * | 2010-03-02 | 2011-09-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線を用いた測長方法 |
| JP2014170751A (ja) * | 2014-03-07 | 2014-09-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線を用いた測長方法 |
| JP2017054606A (ja) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6363109B2 (ja) | 1988-12-06 |
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