JPS6333061A - 高精度の光像を形成及び投影する装置及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は高精度の光像を形成及び投影する装置と方法
に関し、より詳しくは選択的加熱源、好ましくはレーザ
で書込可能、消去可能、編集可能な電子スライド上に書
込及び編集し、さらに各偶を同時にまたは逐次投影スク
リーンあるいは感光材等の受光面上に、前者の場合には
投影像を表示する目的で、後者の場合には投影像のハー
ドコピーを作成する目的でそれぞれ整合して投影するこ
とによって像を形成する方法に関する。

（従来の技術） この発明に係わる従来技術は、第１に投影すべきスライ
ドまたは像を作成する方法、及び第２に幾つかのサブ像
が整合されるようにスライドを投影する方法に関する。

サブ像の整合は、カラー像の作成等各種の分野で重要で
ある。Ｈ，Ｒ，Ｌｕｘｅｎｂｅｒｇ及びＲ，Ｌ　Ｋｕｅ
ｈｎ　　（１９６８）著のテキスト［表示システムエン
ジニアリングＪ　　（１９６８）は、１９６８年までの
関連技術を概括している。これより最近の関連技術は、
Ｃａｒｂｏｎｅ　　（ｒ大型スフリーフ表示技術概要ｊ
　、Ｒｉｃｈａｒｄ　ｌ’１．　Ｃａｒｂｏｎｅ、米国
マサチュセッツ州ベツドフォード所在のＭＩＴＲＥ社、
１９８２年１１月）及びＴｏｄｄ　（Ｌｃｅ　Ｔ、　Ｔ
ｏｄｄ、Ｔｒ、＋「投影表示装置Ｊ　、５ｏｃｉｅｔｙ
　ｆｏｒ　Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎｐｉｓｐｌａｙ、セ
ミナー講演要録、Ｖｏｌ、ＩＩ、レポート８．１．１９
８５年５月３日）に概観されている。

従来投影用のスライスまたは像は、感光剤の露出によっ
て写真的に作成されるか、あるいは鋭い尖端つまり針が
ガラスプレートまたは膜上の不透明なコーティングに情
報をスクラッチ記入する画線装置によって作成されてい
た。写真法は自発現像でなく、新しい情報による実時間
の更新あるいは同時書込み及び可視化を可能としない。

また、膜処理及び書込みのための装置も必要である。−
万両線法は実時間の可視化及び更新を可能とするが、先
に画線記入された情報の消去は不可能で、画線記入速度
は比較的遅い。

陰極線管（ＣＲＴ）の陰極発光ターゲットが電子スライ
ドまたは像源として機能する投影装置は、上記した写真
及び画線法の欠点を解消しているが、像の明るさ及び解
像度の点で制限されている。投影像の明るさは、ＣＲＴ
電子ビーム流の増加に伴なうリン出力の飽和と、過剰な
ビーム流での過熱によるリンの焼は及びフェースプレー
トの損傷と、像投影で使われる光学系の物理的サイズに
おける実用上の制約とによって制限される。解像度は、
ビーム流の増大に伴なう収束ビームスポットサイズの増
大、つまり明るさと解像度のトレードオフ（択一選択）
と、６０Ｈｚ以上で投影像をリフレッシュして可視のフ
リッカ雑音を除去する高バンド巾のリフレッシュ回路の
必要とによって制限される。例えば、６０Ｈｚでリフレ
ッシュされる４０００Ｘ４０００個の画素像は、９６０
ＭＨｚのデータ入力を必要とする。このような高バンド
巾のデータ速度が実用的だとしても、かかる表示に必要
な位置精度で電子ビームを位置決めするには、ＣＲＴ内
に組み入れられた極めて高価なビーム割出機能、または
極めて安定つまり高価なアナログ電子回路を必要とする
。

電子ビーム位置における地磁気及び局所的な磁場変化の
影響を最少限化するのに、強い磁気シールドが必要とな
る。約４０インチ（約１０２ｃｍ）までの検討角線を持
つ大形ＣＲＴが作製されているが、これらの分解能もデ
ータ速度及びビーム位置の精度に関する前記の制約によ
って制限される。

高バンド巾のリフレッシュの必要を解消する記憶式ＣＲ
Ｔも作成されているが、記憶式ＣＲＴはリフレッシュ式
ＣＲＴよりルーメン出力が著しく低いので、投影システ
ムとしての興味は制限され、直視装置は照明を落とした
室内で用いなければならない。

陰極発光ターゲットを具えたＣＲＴを含むシステムの明
るさに関する前記の制約は、電子光弁として周知な装置
によって解消される。これらの電子光弁では、物理的媒
体の反射または透過が電子手段によって空間的且つ時間
的に変化される。これらの電子手段は、電極アレイによ
って電子または光学ビームを電子走査すること、あるい
は光弁媒体を横切る電圧をゲート通過することを含む。

また光弁は、光源から受光ターゲットへの光の流れを制
御するのに使うこともできる。光弁を受光ターゲット上
に像形成する適切な手段によって、電子手段から光弁に
加えられる空間的及び時間的変化は、受光ターゲットの
位置で忠実に再現可能である。市販の光弁システムは、
約２０００ＴＶラインまでの情報内容で像を投影する能
力を持って導入されてきた。

レーザ走査式スメクチック（ＬＳＳ）液晶に基づき、２
０００ＴＶラインより著しく高い情報内容を持つ像を記
憶及び投影可能な新型の電子光弁デイスプレィが、Ｋａ
ｈｎによって提案された（Ｆｒｅｄｅｒｉｃ　Ｊ、　Ｋ
ａｈｎ　　、米国特許第３，７９６，９９９号、１９７
４年３月）。２０００ラインより少ない情報内容を持つ
像でも、ＬＳＳ光弁の解像力によって鮮明度が著しく改
善された。ＬＳＳ技術におけるもっと最近の開発は、Ｄ
ｅｗａｙにより概括されている（Ａ、　Ｇ、　Ｄｅｗｅ
ｙ、　ｒレーザアドレス式液晶デイスプレィＪ　、０ｐ
ｔｉｃａｌ　ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　、、　１９８４
年５〜６月、Ｖｏｌ、　２３、ｐｐ、　２３０〜２４０
）。

ＬＳＳ光弁は、２枚の基板間に挟持されたスメクチック
液晶の薄層から成る。光弁を横切り収束レーザビーム走
査することによって、像が熱的に書込まれる。またスメ
クチック層を横切る電圧を加えることによって、像全体
は数分の１秒で消去できる。像全体の消去に必要な電圧
よりや＼低い電圧を加えれば、書込ビームが消去ビーム
に変換され、書込んだ像の局部的な編集を可能とする。

かかる電圧が印加されると、レーザビームによって再加
熱された領域だけが消去される。こうした熱的スメクチ
ック光弁の利点には高解像度、消去及び局所的編集の各
機能の他、１）電気的に消去されるまで像が液晶内にス
トアされるので、像をリフレッシュする必要がない、２
）像の光学的特性が比較的波長に依存しない；従ってこ
れらの光弁は近紫外から赤外までの光及びこれらの間の
任意のスペクトル部分を制御するのに使える、３）液晶
と付設の光学要素による光の吸収が最少で、極めて高強
度な光源を高い光効率で制御するのにこの光弁を使える
、４）レーザ吸収体を広範囲のレーザ波長と合致するよ
うに構成できるので、比較的経済的、コンパクト及び高
信頼の半導体レーザを含む広範囲の書込みレーザを使用
可能である。

（発明が解決しようとする問題点） 上記した顕著な利点にもかかわらず、ＬＳＳ光弁の商業
的利用は高い情報内容の像を作成するのに必要な複雑で
高価な走査機構、反復できる形で正確に走査できないこ
と、複数のスキャナを使わないと高解像度の全カラー像
を作成するための実用的な方法を利用できないこと、ラ
ンダムアクセス及びラスター走査能力を備えた高解像度
の全カラー像用走査システムを利用できないこと、通常
パワーの光源で明るい全カラー像を表示できないこと、
及び実用的なスクリーン上カーソルを実施できないこと
によって制限されてきた。従って、比較的簡単な書込み
システムと比較的低パワーの投影光源を用いて高精度、
極めて高い情報内容、全カラー、ランダム走査の像を作
成可能な表示及び像形成システムが所望されている。別
の望ましい特徴はカーソルである。さらに、各偶をハー
ドコピー用窓光材上に生成して整合するためには、全カ
ラー像の作成に所望な同一精度の像書込及び投影能力が
必要である。

（問題点を解決するための手段） この発明は高精度の光像を形成及び投影する方法に係わ
り、より詳しくは選択的加熱源、好ましくはレーザで書
込可能、消去可能、編集可能な電子スライド上に書込及
び編集し、さらに各機を同時にまたは逐次投影スクリー
ンあるいは感光材等の受光面上に整合して投影すること
によって像を形成する方法に係わる。本装置及び方法は
、投影光源の効率的な使用と、原像に対する投影像の優
れた空間的忠実性とを与え、原像は像形成及び投影シス
テムへ電子的に入力される。

像を形成するための好ましい方法及び装置では、レーザ
ビームの軌道によって決まる情報のパターンをストアす
る感光層を横切り、収束レーザビームを高精度で走査す
る。レーザビームの位置は、シングル走査方式によって
変化される。感光層全体上におけるこのビーム位置は、
所望の位置信号を実際の位置と比較しエラー信号を得る
ことによってレーザビームの軌道を修正するサーボ系で
制御される。

こうして形成された一連の軌道が液晶セル内にストアさ
れ、液晶セルは各々が走査レーザビームと適切な電気制
御電圧とによって独立に書込可能、消去可能及び編集可
能なサブセルにパターン化されている。

透過または反射いずれかで動作可能な異なったセルを作
製できる。反射セルの構造は、所要な強度の照明レベル
に耐えられるので、カラー表示及びハードコピープリン
トの用途に適している。

カラー投影表示を作成する方法は、広いスペクトル範囲
による追加カラー系のための異なった主投影カラー、例
えば赤、緑、青を数個のサブセルの各々に付与すること
、及び所望なら独立のカーソルまたはオーバレイ用の追
加サブセルを用いることから成る。これらのサブセルは
整合関係で共投影され、カーソルまたはオーバレイを含
む全カラー像を達成する。１つ以上の検出器が投影像用
受光面のエツジに設けられ、受光面における投影像の満
足し得る整合を容易とする。

例えばカーソルを実施するのに使えるオーバレイ面と共
に全カラー像を投影する好ましい方法は、１つのランプ
からの出力を受取り、それを２つの白色チャネルに分割
することから成る。一方の白色チャネルが３つのカラー
ビーム（赤、緑、青）に分割される。これら３つのカラ
ービームは残すの白色ビームと共に、各ビームが１つの
サブセルだけを主として照明するように、１つのリレー
集光装置によって像形成されるのが好ましい。このリレ
ー集光装置がランプの像を、各ビーム毎に設けられた４
つの投影レンズの各々の開口に形成する。投影レンズは
各サブ像を整合して１つの受光面上に投影し、その受光
面上にカーソル／オーバレイを含む全カラー像を生じる
。該投影法は光を集め、それをデイスプレィ用途の場合
には背面投影スクリーンとなる受光面に転送する点で高
い効率を持つ。

サブセル上に書込まれた像の残留歪及び位置ズレを補正
し、書込及び投影される最小ライン巾の数分の１内に像
を整合させるように電子手段が設けられる。歪の補正法
では像の各部分に対応されたテーブルエントリを含む探
索テーブルを含む。

本発明の全般的目的は、光像を形成及び投影する改良装
置及び方法を提供することにある。

本発明の別の目的は、一般的には光弁上、特にスメクチ
ック液晶光弁上に電子的に形成される光像を形成及び投
影する装置を提供することにある。

本発明の更なる目的は、複数の別々の像を整合して形成
及び投影する装置及び方法を提供することにある。

本発明の別の目的は、液晶セル上に像を形成し、該各機
をセルからの反射によって整合関係で投影する装置及び
方法を提供することにある。

発明の上記及びその他の目的は、ストアされた像が液晶
等の像源からの反射で投影されるようなシステムによっ
て達成される。

発明の上記及びその他の目的は、添付の図面を参照した
以下の説明からより明瞭に理解されよう。

（実施例） 本発明は高精度の光像を電子的に作成する方法に係わり
、より詳しくは正確に制御された幾何形状を持ち、投影
スクリーンや感光材等の受光面上で共投影によって相互
に一様に整合可能な各偶を作成する方法に係わる。この
発明の特定実施例は、全カラー像用の高い情報内容、大
領域の表示装置である。別の実施例は、全カラーのハー
ドコピー行なうプリントする装置である。

第１図は、本発明で使われる投影システム１００を示す
。例えば１０００ワツトのキセノンアーク灯から成る放
射エネルギー源または光源１０１が光を発し、各ビーム
が反射体１０４の１つの特定領域または区分を主に照明
するように、その光が光学系１０２によって集められ反
射体１０４へと差し向けられる。複数のスライド像の透
過投影用に設計されたかかる照明系は、前出力のＬｕｘ
ｅｎｂｅｒｇ及びＫｕｅｈｎのテキストｐｐ、１９７〜
１９９に記載されている。本発明では、各領域から反射
された光が、例えば色消し設定されたマルチ要素レンズ
から成るレンズアレイ１０５中の１つの特定レンズの開
口を照明する。レンズアレイ１０５は例えば空間的に変
化する反射率を持ったパターンから成る反射体１０４を
、反射体１０４の各区分からの受信像が受光面１０６上
で相互に正確に整合されるように、例えば背面投影スク
リーンから成る受光面１０６上に像形成する。。アレイ
１０５中の各レンズの照明軸は、受光面１０６の中心に
収束するように相互にわずかに傾斜されている。各レン
ズの位置は、サブ像の極位置と受信面の極位置をつなぐ
線を描き、これらの線の交点にレンズを置くことによっ
て決められる。こうして決めた位置は第２図に示すよう
に、受光面上における各偶の共整合を与える。受光面上
あるいは光学的にそれと等価の位置に配置された像位置
センサ１０７が、受光像の位置の時間的なシフトを検出
するのに使われる。例えば、整合パターンがセンサ１０
７上に投影され、センサ１０７からの信号がプロセッサ
１０８によって処理され、整合パターンの位置を求める
ことによって整合パターンに対し既知の空間関係を持つ
像の位置を求める。好ましい実施例では、反射体１０４
、レンズアレイ１０５及び受光面１０６の各平面を相互
に平行にすることで基本的な歪が避けられる。あるいは
、反射体１０４上における像を予じめ歪めることにより
、基本的な歪を電子的に補正してもよい；この場合には
、上記１０４．１０５及び１０６が共平面上にないとき
に生じる焦点のシフトが、シャイムプフルグ（Ｓｃｈｅ
ｉｎｐｆｌｕｇ）の条件を満たすことによって補正可能
である。

アレイ１０５中の個々のレンズ及び投影系における残留
不整合と不完全さに基づいて生じる投影像の歪は、同じ
く反射体１０４上で認められる像を予じめ歪めることに
よって修正できる。この目的のためプロセッサ１０８は
、書込系３００（第３図）の計算された歪、投影レンズ
の計算された歪、及び上記両計算歪の補正後経験的に求
められた残留歪に基づく補正が加算的に扱われて探索テ
ーブル内のエントリを計算するような例示としての探索
テーブルによって、投影像の歪を補正する電子手段を含
む。例えば、探索テーブル従ってエントリをストアする
のに必要なメモリのサイズは、選定点又は投影像につい
てだけの値を入力し、補間アルゴリズムを使って中間位
置における値を求めることで最小限化し得る。またプロ
セッサ１０８は、受光面１０６と物理的にリンクされた
像位置センサ１０７から伝送された位置シフトをデコー
ドし、反射像が受光面１０６とセンサ１０７に対し正し
い位置で投影されるように反射体１０４上における各反
射像の位置を補正する電子手段も含む。センサ１０７は
例えば、１つ以上の光検出器の前面に配置された１つ以
上のパターン化マスクで構成してもよい。プロセッサ１
０８は第３図に示すように制御装置３０９とサーボ３０
８を含む。

上記の反射体１０４は、例えばガラス等透明な基板上に
おけるアルミやクロムのパターンから成る静止像とし得
る。かかる反射物体は反射及び透過側領域における光吸
収が最少のため、極めて強い照明レベルを受光面上に投
影するのに適する。

金属反射領域の反射率は、周知の薄膜誘電コーティング
によって高め得る。同じく非反射領域の透過度、従って
マスクのコントラストも、ａ膜誘電コーティングによっ
て高められる。

反射体は、電子手段によって書込及び消去可能な像、す
なわち電子光弁でもよい。好ましくは、反射体がレーザ
走査式スメクチック（ＬＳＳ）液晶光弁から成る。この
ような光弁装置の導通電極をパターン化することによっ
て、１つ以上の独立に選択された区分例えば１０４ａ、
１０４ｂ、１０４ｃまたは１０４ｄに、同装置内の残り
の選択されなかった区分よりも高い電場を選択的に印加
し、個々の選択区分を独立に消去したり、個々の選択区
分内のレーザ選択区分を編集可能となる。

個々の投影レンズが各自の照明用集光装置を有する場合
よりも速い（大口径の）投影レンズを可能とし、またそ
れよりも高い像−物体の拡大比を達成可能とするため、
差し向は光学系１０３内に１つの集光装置を用いてアレ
イ１０５中の２つ以上の投影レンズを照明するのが有利
である。こうした集光装置を使わないと、非常に小さい
口径の投影レンズを用いねばならず、これは許容し得な
いほど低い像の明るさ、あるいは反射体１０４に対する
入射角の実用的でないほど大きい直角はずれをもたらす
。このため、マルチ形の像形成反射系は実用的でない。

アレイ１０５中の投影レンズ１１０はマルチ要素レンズ
で、全焦点距離長さの半分より小さい前面から後面まで
の距離を個々のレンズに与えるために光パワーが主に内
側要素に集中され、また色消しが主に外側要素に集中さ
れることによって、比較的小さい直角からのはずれ投影
角、高い解像度及び低い投影レンズの歪を持つコンパク
トな投影系の設計を与えるようにするのが好ましい。好
ましい投影系は、差し向は光学系１０３内の１つの集光
装置１０９、光をそれぞれ主に赤、緑、青及び白の波長
を持つ４ビームに分ける集光光学系１０２、第１図に示
すようにマンハッタン（Ｍａｎｈａｔｔａｎ　）型幾何
形状で配置された４種のサブ反射体を含む反射体１０４
、及び各サブ像を受光面１０７上に整合して投影する４
枚のレンズの矩形アレイ１０５を含む。共整合された赤
、緑及び青の投影像が受光面１０６上に全カラー投影像
を与える一方、白色像の共投影がその全カラー像上に重
畳された独立のカーソルまたはオーバレイ面の実現を可
能とする。さらに、集光光学系１０２内の２色性フィル
タを用いて１つの白色ビームから赤、緑及び青の各ビー
ムを得ているので、受光面１０６上に比較的間るい投影
像が生じる。あるいは、追加のカラーまたは中性密度の
フィルタを設け、カラーまたは白色オーバレイチャネル
の強度を変更するか、もしくは白色チャネルに青色フィ
ルタを追加し、それを用いて全カラー像の青色部分の明
るさを高めるようにするのも望ましい。

一実施例において、像位置センサ１０７はパターン化マ
スクと、受光面１０６上に投影される像の一部がパター
ン化マスク上の焦点にきて、光検出器に達する前にその
マスクを通過するように配置された光検出器とを含み得
る。マスクパターンが透過度の異なる少なくとも２つの
領域とこれらの間の鋭い（エツジ）境界を含む場合には
、同じく少なくとも１つのエツジを含む投影像の境界を
横切る段階状または連続状の移動が光検出器の出力変化
をもたらし、書込系座標系の一意的決定によってマスク
エツジの位置で投影エツジを位置決め可能とする。さら
に例えば１つより多い像位置センサ１０７を用いて、像
位置における回転及び並進シフトを求め、プロセッサ１
０８によりそれらについて補正するのも望ましい。

本発明を実施した投影系の別の例では、レンズアレイ１
０５が１つのレンズだけを含み、１回に１つの像だけが
受光面１０７上に投影される。プロセッサ１０８と組み
合された像位置センサ１０７が、投影像と受光面の間で
の位置整合を維持する機能を果たす。

像位置センサ１０７とプロセッサ１０８の組み合せは、
透過体を備え、光源１０１と投影レンズ１０５が対象物
１０４の反対側に配置されるような投影系において像−
受光面１０６間の整合を維持するのにも有用である。

第３図は本発明で使われる書込システムを示す。

書込源３０１からの光ビームが収束され、走査系３０２
により対象物３０５を横切って走査される。

位置センサ３０７が走査系３０２における例えばミラー
３０３等の走査ミラーの位置変化を測定し、これらの変
化に関する情報を含む出力信号をサーボ３０８に与える
。サーボ３０８が、制御装置３０９によって与えられる
所望のミラー位置とサーボ３０８に組み合されたミラー
位置センサ３０７によって求められる実際のミラー位置
との間の差　。

を最少とするように、走査系３０２用の電気駆動信号を
与える。ビーム位置セッサ３０６が対象物３０５の表面
または光学的に同等の位置に配置されている。対象物３
０５が空間的に走査された収束レーザビームを受け、セ
ンサ３０６が対象物３０５及びセンサ３０６上における
レーザビームの走査ミラー位置に対する位置についての
絶対的な標準を与える。制御装置３０９が所望のミラー
位置信号を電子的に補正し、ビーム位置センサ３０６に
よって検知される時間的な位置シフトを補償する。セン
サ３０６は例えば前記のセンサ１０７と同じく、１つ以
上のパターン化マスクと光検出器の対で構成し得る。一
実施例において、異なった透過度を持つ２領域を分離す
る少なくとも１つのエツジつまり境界を含むようにマス
クをパターン化すれば、書込ビームが上記エツジを横切
って移動するときにその位置の検出を可能とする。従っ
てビーム位置センサ３０６は、検出されるのが投影像に
含まれたエツジでなく、走査されるレーザビーム自体で
ある点を除き、例えば構造及び動作において像位置セン
サ１０７と同じにし得る。

書込源３０１は例えば、約８００ｎｍの波長の光を発す
る半導体レーザ、レーザビームを円形化し拡大及び集光
させるプリズムとレンズ、及びビームの強度を時間につ
れて変化させる電気回路を含む。走査系３０２はレーザ
ビームを偏向させる少なくとも１つのミラー３０３を含
む他、例えばレーザビーム偏向ミラーを駆動する検流計
３０４と、例えばｆ−シータレンズから成り、レーザビ
ームの角度偏向を対象物３０５の表面に沿った収束レー
ザビームポットの空間的偏向に変換する走査レンズとを
含み得る。ミラー位置センサ３０７は光源と格子３１０
、及び格子レチクル３１１を備えた検出器を含み、各走
査ミラーの動きの位置及び方向を決定可能とし得る。ミ
ラー位置センサ３０７の特定実施例は、同じく本出願人
による特許出願「位置検出装置」に記されている。

制御装置３０９は例えば、外部の電子像源からの各種グ
ラフィックス入力を受取る手段と、サーボ３０８のため
の所望な走査位置情報信号、書込源３０１を変調するた
めの制御信号、及び対象物３０５が電子光弁であるとき
該対象物の各種部分を消去且つ編集するための電気信号
を与えるベクトル発生器とを備えたグラフィックスプロ
セッサで構成できる。

対象物３０５は多くの異なった装置の任意の１つとし得
る。例えば、対象物上に記録されたパターンに関するデ
ータを情報処理または記憶システムに入力する目的のた
め、レーザビームによって走査される前述のごとくパタ
ーン化された反射体または透過体でもよい。対象物から
の反射または透過後における走査レーザビームの強度変
化が、１つ以上の適切に位置決めされた光検出器によっ
て検知される。また対象物３０５は、例えば赤外線感知
紙またはフィルム等走査レーザビームの波長を感知する
記録素材でもよい。さらに対象物３０５は、走査レーザ
ビームによって液晶層内へ直接運び込まれる熱を吸収す
るため、例えば走査レーザビームの波長を吸収し液晶内
に混合された染料を含む透過モード式ＬＳＳ光弁ともし
得る。

対象物３０５は反射モード式ＬＳＳ光弁ともし得る。こ
の場合対象物３０５は、第３図に示したような１つの対
象物上にマンハッタン（Ｍａｎｈａ　ｔ　ｔａｎ）型幾
何形状で配置された４種のサブ像から成り、１つのスキ
ャナによって保全体の走査を可能とし、機械的及び熱的
外乱による各サブ像の相対位置の変化を最少限とするこ
とによって、共役影像の正確な共整合を容易にするのが
好ましい。

第４図は、投影系４０６と書込系４０７から成り、共通
の対象物４０３、対象物４０３と物理的に連結されたビ
ーム位置センサ４０４、受光面４０１、受光面４０１と
物理的に連結された像エツジ検出器４０２、及び制御装
置４０５を含む書込及び投影組み合せシステムを示す。

制御装置４０５が両センサ４０２．４０４から位置信号
を受信し、対象物４０３上における対象像の位置を補正
して、投影系１００及び書込系３００に関する前記の議
論に基づき受光面４０１に対する投影像の正確な整合を
もたらす。

（発明の効果） このように、高精度の光像を形成し、投影及び表示また
は記録するためのシステムが得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による反射投影システムを主に示す概略
図； 第２図は投影レンズの配置を示す； 第３図は本発明による電子的像形成システムを示す概略
線図；及び 第４図は像形成及び投影組み合せシステムを示す概略線
図である。 １０１ｉ３０１・・・光源、 １０２．１０３；３０２．３０３・・・光学手段、１０
４；３０５；４０３・・・検討数面、１０５．１１０・
・・投影レンズ、 １０６；４０１・・・受光面（投影面）、１０７．４０
２・・・像位置検知手段、１０８；３０９；４０５・・
・制御装置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、光源； 少なくとも２つの離間した反射像を含む像対象面； 上記光源からの光を受取り、少なくとも２つのビームを
   形成し、該ビームの各１つを上記反射像の各々に差し向
   ける光学手段；及び 上記反射像から反射された光を受光し、反射像からの光
   を受光面上に差し向け、反射像が共整合されるように位
   置決めされた少なくとも２つの離間した投影レンズ；を
   含む投影装置。 ２、光源； 少なくとも３つの離間した反射像を含む像対象面； 上記光源からの光を受取り、異なった波長の光の少なく
   とも３つのビームを形成し、該ビームの各１つを上記反
   射像の各々に差し向ける光学手段；及び 上記反射像から反射された光を受光し、反射像からの光
   を受光面上に差し向け、反射像が共整合されるように位
   置決めされた少なくとも３つの離間した投影レンズ；を
   含む投影装置。 ３、投影面上に像を投影する装置であって：電子光弁か
   ら成る像対象面； 上記電子光弁上に少なくとも複数の像を形成する手段； 光源； 上記光源からの光を受取り、複数のビームを形成して、
   該ビームを上記電子光弁上の各像に差し向ける光学手段
   ； 上記光弁像からの光を受光し、各像からの光を上記投影
   面上に整合させて差し向けるように位置決めされた複数
   の投影レンズ； 上記投影面上に位置し、投影面上における各像の位置を
   検知する手段；及び 上記像形成手段を制御し、位置検知手段によって検知さ
   れた位置に応じて電子光弁上で各位置を位置決めし、位
   置決め及び整合を保証する手段；を含む投影装置。