JPS5911635A - 金属コ−テイング膜の製造方法 - Google Patents

金属コ−テイング膜の製造方法

Info

Publication number
JPS5911635A
JPS5911635A JP57120908A JP12090882A JPS5911635A JP S5911635 A JPS5911635 A JP S5911635A JP 57120908 A JP57120908 A JP 57120908A JP 12090882 A JP12090882 A JP 12090882A JP S5911635 A JPS5911635 A JP S5911635A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode plate
coating film
carbon
jig
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57120908A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Ishii
宏 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP57120908A priority Critical patent/JPS5911635A/ja
Publication of JPS5911635A publication Critical patent/JPS5911635A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/27Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8385Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/06Polymers
    • H01L2924/078Adhesive characteristics other than chemical
    • H01L2924/07802Adhesive characteristics other than chemical not being an ohmic electrical conductor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/162Disposition
    • H01L2924/1627Disposition stacked type assemblies, e.g. stacked multi-cavities

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電力用半導体装置に半導体基板の保護または
温度補償に用いる電極板の表面に端子等との半田付性を
良くする為に周辺部まで均一・な厚さのコーテイング膜
を形成する・μs造方法に関するものである。
従来、電極板表面の金属コーティングは、自然圧溶融に
よって形成されていた。しかしながら、この方法による
と次の様な欠点があった。
以下図面により説明する。
第1図(a)でカーボン治具3に電極板とするタングス
テン板またはモリブデン板等2金入れ、その上にコーテ
ィング材料とする金属箔1を置く。次に第1図(b)で
炉に入れ水素中自然圧で金属箔1を溶融すると第1図(
C)のようになる。その後冷却すると第1図(dlのよ
うにコーティング材料は、材料の表面張力により中央に
集まり、厚くなると共に。
周辺部は非常に薄くなり、形成されたコーテイング膜4
け、山型になってしまう欠点があった。
この様な電極板を半導体装置の組立部品として使用する
際、上記の如き山型になったコーテイング膜の上に端子
等を半田付すると半田厚が不均一になり、半田の流れが
悪くなるばかりでなく、半田付は強度が小さい、平行度
が恐い(端子が傾く)等の不具合発生の原因となる為、
生産上の阻害要因となっていた。
本発明は、これらの欠点を解決し、平担で均一な厚さの
コーテイング膜を形成するW1規な剰造方法全提供する
ものである。
本発明の特徴は、電力用半導体素子に用いる電極板ある
いは温度補償板の表面に金属コーテイング膜を形成する
場合において、カーボン治具に電極板を置き、コーテイ
ング膜の材料となる金属箔をその上に置き、さらにカー
ボン治具を重ね、水素中で力日圧溶融し、その後冷却し
て、全面または、選択的なコーテイング膜を周辺部まで
均一な厚さに形成する金属コーテイング膜の製造方法に
ある。
本発明により形成されたコーテイング面上には、良好々
半田付けが可能となる。
第2図(a)〜(d)及び第3図(a)〜(d)、第4
図は、本発明の実施例であって第2図(a)〜(d)は
全面コーティングの工程実施例であり、第3図(a)〜
(d)は選択コーティングの工程実施例である。第2図
(a)〜(d)で説明する。まず第2図1a)のように
カーボン治具3に電極板2とコーティング材料となる金
属箔1とを組み込む。次に第2図(b)のようにその上
にカーボン製の重フ5を重ねて炉に入れ、水素中で溶融
する。この時、第2図1c)に示す様に、°カーボン裏
型り5と電極板2の上面との間に出来た隙間にコーティ
ング材料が2の周辺部まで広がる。このまま冷却するこ
とで、第2図(d)に示す形状のコーテイング膜4を得
ることができる。コーテイング膜4の厚さは、カーボン
治具3上面と電機板または温度補償板2の上面との差に
よって決めることが出来る。この差とコーティング材料
となる金属箔1の厚さを同じにすることで、目的の場所
に金属箔と同じ広さのコーテイング膜4を得ることが出
来る。
第5図(a)〜(d)は、選択コーティング方法の工程
例であって金属箔1を目的の大きさにし、第2図(a)
〜(d)の工程と同様にすると、@3図(d)のコーテ
イング膜が得られる。
第4図は、第2図(b)、 (C1及び第3図fb)、
 (C)の工程で、カーボン重り5のかわりに既に組込
み済のカーボン治具3を重ね、同時に多量処理を可能に
した製造方法である。
以、上の説明で明らかな様に、周辺部まで均一な厚さで
、さらに、カーボン治具の面で決まる平担な面のコーテ
イング膜を得ることができる。また、治具を多段に重ね
られるので一度に多量の処理が可能になる。
このコーティング膜面に端子等全半田付する場合、半田
の流れが良く、厚さが均一になり、半田付は強度が増す
と共に平行度が良くなるので、生産の効率が著るしく改
善されるばかりでなく:半導体装置の品質向丘にも効果
が大きいと期待される。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(d)は各々従来の金属コーティングの
製造方法を工程順に示す断面図、第2図(a)〜(d)
は、各々本発明による全面金属コーテイング膜の製造方
法の実施例を工程順に示す断面図、第3図(a)〜(由
は各々本発明による選択金属コーテイング膜の製造方法
の実施例を工程順に示す断面図、第4図は、本゛発明に
よる金属コーテイング膜の製造方法の実施例の一工程を
示す断面図、である。 尚、図に於いて、 1・・・・・・コーティング材料となる金属箔、2・・
・・・・電極板、3・・・・・・カーボン治具、4・・
・・・・溶融後形成されたコーテイング膜、5・・・・
・・カーボン製電り治具、である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 電力用半導体素子に用いる電極板あるいは温度補償板の
    表面に金属コーテイング膜を形成する製造方法において
    、カーボン治具に電極板を置き、コーテイング膜の材料
    となる金属箔を該電極板の上に置き、さらに別のカーボ
    ン治具を重ね、水素中で加圧溶融し、その後冷却して、
    全面または、選択的なコーティング膜全週辺邪まで均一
    な厚さに形成することを特徴とする金属コーテイング膜
    の製造方法。
JP57120908A 1982-07-12 1982-07-12 金属コ−テイング膜の製造方法 Pending JPS5911635A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57120908A JPS5911635A (ja) 1982-07-12 1982-07-12 金属コ−テイング膜の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57120908A JPS5911635A (ja) 1982-07-12 1982-07-12 金属コ−テイング膜の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5911635A true JPS5911635A (ja) 1984-01-21

Family

ID=14797972

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57120908A Pending JPS5911635A (ja) 1982-07-12 1982-07-12 金属コ−テイング膜の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5911635A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS614787A (ja) * 1984-06-08 1986-01-10 モ−ビル オイル コ−ポレ−ション 重質装入原料からの改質した潤滑油の製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5311577A (en) * 1976-07-19 1978-02-02 Mitsubishi Electric Corp Soldering method for wafers of semiconductor devices

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5311577A (en) * 1976-07-19 1978-02-02 Mitsubishi Electric Corp Soldering method for wafers of semiconductor devices

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS614787A (ja) * 1984-06-08 1986-01-10 モ−ビル オイル コ−ポレ−ション 重質装入原料からの改質した潤滑油の製造方法
JPH0562160B2 (ja) * 1984-06-08 1993-09-07 Mobil Oil

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4482912A (en) Stacked structure having matrix-fibered composite layers and a metal layer
JPS61126965A (ja) 大面積の半導体構成素子を基板として使用される構成部材とロウ付けにより気泡を含まないように結合する方法
GB2127337A (en) Brazing metals of different thermal conductivity
US4700879A (en) Method for manufacturing semiconductor power modules with an insulated contruction
CN114799588A (zh) 一种预成型盖板附着金锡焊环的电阻点焊预封装方法
US4047286A (en) Process for the production of semiconductor elements
JPS5911635A (ja) 金属コ−テイング膜の製造方法
JP4144927B2 (ja) セラミック・金属基板およびその製法
JPS634940B2 (ja)
US5063660A (en) Method for manufacturing preforms coated with hard solder for repairing interconnect interruptions
JP2004319195A (ja) チップ型ヒューズ
US3238410A (en) Grid for electric discharge device and method of making
US20110094634A1 (en) Method for inhibiting growth of tin whiskers
JPH10256442A (ja) 放熱板及びそれを用いた複合半導体装置
JPS601837A (ja) 半導体装置
JP3402620B2 (ja) ベアチップの高密度実装方法
JP2002368044A (ja) はんだボール付電子部品の組立方法及び電子部品
JP2687510B2 (ja) チップ状固体電解コンデンサの製造方法
JPH02239608A (ja) コンデンサ用リードフレーム
CN100508151C (zh) 使两个半导体衬底的铝电极接合的方法
TW202416302A (zh) 厚膜電阻元件的製作方法
JPS6412092B2 (ja)
JPH0888144A (ja) チップ形フィルムコンデンサ
JPH03194867A (ja) 電気的接続部材
JPS5892229A (ja) フリツプチツプ実装構造の製造方法