JPS59116289A - β−ラクタム化合物の製造方法 - Google Patents
β−ラクタム化合物の製造方法Info
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- JPS59116289A JPS59116289A JP58234906A JP23490683A JPS59116289A JP S59116289 A JPS59116289 A JP S59116289A JP 58234906 A JP58234906 A JP 58234906A JP 23490683 A JP23490683 A JP 23490683A JP S59116289 A JPS59116289 A JP S59116289A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D499/00—Heterocyclic compounds containing 4-thia-1-azabicyclo [3.2.0] heptane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. penicillins, penems; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D505/00—Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はβ−ラクタム化合物の化学的製造方法、特にα
−酸性基を含有するアシルアミノ側鎖を有するβ−ラク
タムに置換基を導入することに関する。この方法により
製造された置換されたβ−ラクタム化合物のあるものは
抗菌剤であり、他のものはこのような抗菌剤を製造する
ための中間体と)して有用である。
−酸性基を含有するアシルアミノ側鎖を有するβ−ラク
タムに置換基を導入することに関する。この方法により
製造された置換されたβ−ラクタム化合物のあるものは
抗菌剤であり、他のものはこのような抗菌剤を製造する
ための中間体と)して有用である。
本発明は炭素原子上にアシルアミノ基を含有するアシル
アミノβ−ラクタム化合物をハロゲン化剤及び親核性試
薬と反応させることを含むアシノしアミノβ−ラクタム
化合物の置換方法において、アシルアミノ基がカルボニ
ル基に隣接する炭素原子上に酸性基を有することを特徴
とする方法を提供する。
アミノβ−ラクタム化合物をハロゲン化剤及び親核性試
薬と反応させることを含むアシノしアミノβ−ラクタム
化合物の置換方法において、アシルアミノ基がカルボニ
ル基に隣接する炭素原子上に酸性基を有することを特徴
とする方法を提供する。
特に、本発明方法は部分構造(11
(式中、Xは酸性基であるンを有するβ−ラクタムをハ
ロゲン化剤及び親核性試薬と反応させることを含む。
ロゲン化剤及び親核性試薬と反応させることを含む。
酸性基は例えばカルボキシル基、CO2Hまたは硫黄の
ような陰性基を担持することができる他の基、例えば5
O3Hであってよい。
ような陰性基を担持することができる他の基、例えば5
O3Hであってよい。
酸性基はアシルアミノ側鎖のカルボニル基に隣接した炭
素原子に結合しており、この炭素原子は側鎖はα位と通
常称される。
素原子に結合しており、この炭素原子は側鎖はα位と通
常称される。
本発明方法は構造(IA)
中の矢印をつけた位置への親核性試薬の攻撃により進行
すると考えられる。
すると考えられる。
従って、親核性試薬はこの反応を受けることができる親
核性基供与源のいかなるものでもよい。
核性基供与源のいかなるものでもよい。
このような親核性基の例には例えばアルコキシ及びアル
キルチオが含まれる。
キルチオが含まれる。
従って、一つの観点において、本発明は部分構造(1)
(式中、Aはアルコキシまたはアルキルチオを示し、そ
してXは酸性基を示すンを有するβ−ラクタム訪導体の
製造方法であって、部分構造(目を有するβ−ラクタム
をハロゲン化剤及びアルコキシもしくはアルキルチオ基
の供与源と反応させることにを含む方法を提供する。
してXは酸性基を示すンを有するβ−ラクタム訪導体の
製造方法であって、部分構造(目を有するβ−ラクタム
をハロゲン化剤及びアルコキシもしくはアルキルチオ基
の供与源と反応させることにを含む方法を提供する。
アルコキシ及びアル壬ルチオ部分における好適なアルキ
ル基には1〜6個の炭素原子を含有する直鎖及び分枝状
アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル及びブチ
ルが含まれる。特別のアルキル基はメチル基である。
ル基には1〜6個の炭素原子を含有する直鎖及び分枝状
アルキル基、例えばメチル、エチル、プロピル及びブチ
ルが含まれる。特別のアルキル基はメチル基である。
好ましくはAはアルコキシを示し、好適にはCl−6ア
ルコキシを示す。
ルコキシを示す。
部分構造(旧は好ましくは、ベナム、ビスノルペナム、
セフェムまたはオキサセフエムを示す。
セフェムまたはオキサセフエムを示す。
かくして、好ましい観点において、本発明は式%式%
式中、RはCl−6アルキルを示し、R1は炭化水素ま
たはへテロシクリル基を示り、R” は水素または医薬
として適当な塩もしくはエステル基を示し、R3は水素
まだは医薬として適当な塩もしくは生体内で加水分解さ
れうるエステル基を示し、そしてYは−8,CACHs
)2−1S CH2−またはY’ CH2C(Z )
=であり、ここでYl は酸素、硫黄まだは−CH
2−であシ、そしてZは水素、ハロゲン、CI−。アル
コキシ、−CH2Q tたけ−C)T=CH−Q
を示し、ここでQは水素、ハロケン、ヒドロキシ、メル
カプト、シアノ、ピリジニウム、カルボキシもしくはそ
のエステル、cl−6アルコキシ、アシルオキシアリー
ル、ヘテロシクリルまたはへテロシクリルチオをボす】
で表わされる抗菌的に活性なβ−ラクタム化合物の製造
方法であって、式(IV) ■ (式中、R1及びYは式(lit)におけると同一の意
義を有し、そしてRXは水素またはカルボキシル遮断性
基であるJで表わされる化合物をハロゲン化剤及びRO
−イオンの供与源と反応させ、次いで所望ならば生成物
を塩またはニスデルに転換することを含む方法を提供す
る。
たはへテロシクリル基を示り、R” は水素または医薬
として適当な塩もしくはエステル基を示し、R3は水素
まだは医薬として適当な塩もしくは生体内で加水分解さ
れうるエステル基を示し、そしてYは−8,CACHs
)2−1S CH2−またはY’ CH2C(Z )
=であり、ここでYl は酸素、硫黄まだは−CH
2−であシ、そしてZは水素、ハロゲン、CI−。アル
コキシ、−CH2Q tたけ−C)T=CH−Q
を示し、ここでQは水素、ハロケン、ヒドロキシ、メル
カプト、シアノ、ピリジニウム、カルボキシもしくはそ
のエステル、cl−6アルコキシ、アシルオキシアリー
ル、ヘテロシクリルまたはへテロシクリルチオをボす】
で表わされる抗菌的に活性なβ−ラクタム化合物の製造
方法であって、式(IV) ■ (式中、R1及びYは式(lit)におけると同一の意
義を有し、そしてRXは水素またはカルボキシル遮断性
基であるJで表わされる化合物をハロゲン化剤及びRO
−イオンの供与源と反応させ、次いで所望ならば生成物
を塩またはニスデルに転換することを含む方法を提供す
る。
「炭化水素」という用語は18個以下の炭素原子、好適
には10個以下の炭素原子を含有する基を含む。好適な
炭化水素基にはC1−6アルキル、C2−6アルケニル
、C2−6アルキニル、C3−7シクロアルキル、C5
−7シクロアルケニル、C3−7シクロアルキル(C,
−6)−アルキル、アリール及びアリール(C,−6)
アルキルが含壕れる。
には10個以下の炭素原子を含有する基を含む。好適な
炭化水素基にはC1−6アルキル、C2−6アルケニル
、C2−6アルキニル、C3−7シクロアルキル、C5
−7シクロアルケニル、C3−7シクロアルキル(C,
−6)−アルキル、アリール及びアリール(C,−6)
アルキルが含壕れる。
本明細書−中で用いた場合、「アリール」という用語は
5個以下の、好ましくは3個以下の、ハロゲン、C1−
6フルキル、フェニル、CI−。アルコキシ、ハロ(C
,−61アルキル、ヒドロキシ、アミン、ニトロ、カル
ボキシ、Cl−6アルコ午シ力ルホニル、Cl−6アル
コキシカルボニルーCC,、)アルキル、Cl−6フル
キルカルポニルオキシまたはC1−6アルキルカルボニ
ル基から選択された基で置換されていてもよいフェニル
及びナラチルを含む。
5個以下の、好ましくは3個以下の、ハロゲン、C1−
6フルキル、フェニル、CI−。アルコキシ、ハロ(C
,−61アルキル、ヒドロキシ、アミン、ニトロ、カル
ボキシ、Cl−6アルコ午シ力ルホニル、Cl−6アル
コキシカルボニルーCC,、)アルキル、Cl−6フル
キルカルポニルオキシまたはC1−6アルキルカルボニ
ル基から選択された基で置換されていてもよいフェニル
及びナラチルを含む。
「ヘテロシクリル」という用語は環上に酸素、窒素及び
硫黄から選択される4個以下のへテロ原子を含有し、か
つ3個以下のハロケン、cl−6アルキル、C1−6ア
ルコキシ、ハロー+ Q、 、 Jアルキル、ヒドロキ
シ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよ
いアミン(C,−6Jアルキル、カルボキシ、Cl−6
アルコキシカルボニル、c、−6アルコキシカルボニル
(c、、、−61アルキル、カルボキシ(C,−6]ア
ルキル、スルフォ[Cl−6)アルキル、アリールまた
はオキソ基で置換されていてもよい単一または縮合環を
含む。
硫黄から選択される4個以下のへテロ原子を含有し、か
つ3個以下のハロケン、cl−6アルキル、C1−6ア
ルコキシ、ハロー+ Q、 、 Jアルキル、ヒドロキ
シ、置換されていてもよいアミノ、置換されていてもよ
いアミン(C,−6Jアルキル、カルボキシ、Cl−6
アルコキシカルボニル、c、−6アルコキシカルボニル
(c、、、−61アルキル、カルボキシ(C,−6]ア
ルキル、スルフォ[Cl−6)アルキル、アリールまた
はオキソ基で置換されていてもよい単一または縮合環を
含む。
好適には、ヘテロシクリル環は4〜7個の環原子、好ま
しくは5〜6個を含む。
しくは5〜6個を含む。
式(IIHで表わされる化合物中のYとして好ましい値
は一8□C(CH312及ヒ−8−CH2C(C1’(
2Q ] =すなわち式(IV)で表わされる化合物は
好ましくはペニシリンまたはセファロスポリンである。
は一8□C(CH312及ヒ−8−CH2C(C1’(
2Q ] =すなわち式(IV)で表わされる化合物は
好ましくはペニシリンまたはセファロスポリンである。
Yとして特に好適な値は−5−C(CH3+、、−であ
る。
る。
好ましくは、R1はフェニル、p−ヒドロキシフェニル
、3,4−ジヒドロキシフェニルまたは2−もしくは3
−チェ三ルを示す。
、3,4−ジヒドロキシフェニルまたは2−もしくは3
−チェ三ルを示す。
好ましくは、R//iメチルを示す。
好適な医薬として適機な生体内で加水分解されうるエス
テル基の例には人体中で容易に分解して元の酸またはそ
の塩を残すものが含1れる。このタイプの好適なエステ
ル基には部分式(1)、(11)%式%: () (11 ) (式中、Ra は水素、メチルまたはフェニルであり、
Rb はC1−6アルキル、C1−6アルコキシまたは
フェニルであり、あるいはRa及びRb は−緒に1ま
たは2個のメトキシ基で置換されていてもよい1.2−
フェニル基を形成り、RCはメチルまたはエチル基で置
換されていてもよいC1−6アルキレンを示し、Rd及
びRe は各々独立してC1−6アルキルを示し、Rf
はCl−6アルキルを示す]を有するものが含まれる
。好ましい生体内で加水分解されうるエステル基の例に
は例えばアセトキシメチル、ピバロイルオキシメチル、
α−アセトキシメチル及びα−ピバロイルオキシエチル
基のようなアシルオキシアルキル基、エトキシカルボニ
ルオキシメチル及びα〜エトキシ力ルホニルオキシエチ
ルのようなアルコキシ力ルホニルオキシアルキル基、ジ
メチルアミノメチル、ジメチルアミノエチル、ジエチル
アミンメチルまたはジエチルアミノエチルのようなジア
ルキルアミノアルキル、特にジ低級アルキルアミノ基:
フタリジル及びジメトキシフタリジルのようなラクトン
基及び第二のβ−ラクタム抗生物質にまたはβ−ラクタ
マーセ明害剤に結合したエステルが含剪れる。
テル基の例には人体中で容易に分解して元の酸またはそ
の塩を残すものが含1れる。このタイプの好適なエステ
ル基には部分式(1)、(11)%式%: () (11 ) (式中、Ra は水素、メチルまたはフェニルであり、
Rb はC1−6アルキル、C1−6アルコキシまたは
フェニルであり、あるいはRa及びRb は−緒に1ま
たは2個のメトキシ基で置換されていてもよい1.2−
フェニル基を形成り、RCはメチルまたはエチル基で置
換されていてもよいC1−6アルキレンを示し、Rd及
びRe は各々独立してC1−6アルキルを示し、Rf
はCl−6アルキルを示す]を有するものが含まれる
。好ましい生体内で加水分解されうるエステル基の例に
は例えばアセトキシメチル、ピバロイルオキシメチル、
α−アセトキシメチル及びα−ピバロイルオキシエチル
基のようなアシルオキシアルキル基、エトキシカルボニ
ルオキシメチル及びα〜エトキシ力ルホニルオキシエチ
ルのようなアルコキシ力ルホニルオキシアルキル基、ジ
メチルアミノメチル、ジメチルアミノエチル、ジエチル
アミンメチルまたはジエチルアミノエチルのようなジア
ルキルアミノアルキル、特にジ低級アルキルアミノ基:
フタリジル及びジメトキシフタリジルのようなラクトン
基及び第二のβ−ラクタム抗生物質にまたはβ−ラクタ
マーセ明害剤に結合したエステルが含剪れる。
好適な式(胴で表わされる化合物の医薬として適商な塩
、例えば、アルミニウム塩、ナトリウムまたはカリウム
のようなアルカリ金属塩、カルシウムまたはマグネシウ
ムのようなアルカリ土類金属及びアンモニウムまたハ置
換アンモニウム塩、例えば、トリエチルアミンのような
低級アルキルアミン類、2−ヒドロキシエチルアミン、
ビス−(2−ヒドロキシエチルアミンまたはトリス−(
2−ヒドロキシエチルアミンのようなヒドロキシ低級ア
ルキルアミン類、ジシクロヘキシルアミンのようなシク
ロアルキルアミン類とのもの、−またはプロ力イン、ジ
ベンジルピペラジン、N−ベンジル−β−フェネチルア
ミン、デヒドロアビエチルアミン、N、N’−ビステヒ
ドロアビエチルアミン、エチレンジアミンとのもの、ま
たはピリジン、コリシンまたはキノリンのようなピリジ
ンタイプの塩基とのものが含壕れる。
、例えば、アルミニウム塩、ナトリウムまたはカリウム
のようなアルカリ金属塩、カルシウムまたはマグネシウ
ムのようなアルカリ土類金属及びアンモニウムまたハ置
換アンモニウム塩、例えば、トリエチルアミンのような
低級アルキルアミン類、2−ヒドロキシエチルアミン、
ビス−(2−ヒドロキシエチルアミンまたはトリス−(
2−ヒドロキシエチルアミンのようなヒドロキシ低級ア
ルキルアミン類、ジシクロヘキシルアミンのようなシク
ロアルキルアミン類とのもの、−またはプロ力イン、ジ
ベンジルピペラジン、N−ベンジル−β−フェネチルア
ミン、デヒドロアビエチルアミン、N、N’−ビステヒ
ドロアビエチルアミン、エチレンジアミンとのもの、ま
たはピリジン、コリシンまたはキノリンのようなピリジ
ンタイプの塩基とのものが含壕れる。
式(Llにおける基−C02RXとして好適なカルボキ
シル遮断性誘導体にはカルボン酸の塩及びエステル誘導
体が含まれる。誘導体は好ましくは反応の後段階で容易
に裂開されうるものである。好適な塩には金属塩、例え
ばナトリウム、カリウム及びリチウムとのもの、及び第
三アミン塩、例えばトリ低級アルキルアミン類、N−エ
チルピペリジン、2.6−ルチジン、ピリジン、N−メ
チルピロリジン、ジメチルピペラジンとのものが含まれ
る。
シル遮断性誘導体にはカルボン酸の塩及びエステル誘導
体が含まれる。誘導体は好ましくは反応の後段階で容易
に裂開されうるものである。好適な塩には金属塩、例え
ばナトリウム、カリウム及びリチウムとのもの、及び第
三アミン塩、例えばトリ低級アルキルアミン類、N−エ
チルピペリジン、2.6−ルチジン、ピリジン、N−メ
チルピロリジン、ジメチルピペラジンとのものが含まれ
る。
好ましい塩はナトリウムまたはトリエチルアミンとのも
のである。
のである。
好適なエステル形成性カルボキシル遮断基は通常の条件
下で除去されうるものである。RX としてのこのよう
な基にはベンジル、p−メト午ジベンジル、2.4.6
−1−リメチルベンジル、2.5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシ−ベンジル、ベンツイルメチル、p−ブロ
ムベンツイルメチル、p−二トロペンシル、4−ピリジ
ルメチル、2.2.2−トリクロルエチル、2.2.2
−トリフロムエチル、t−ブチル、アリル、アセトニル
、t−アミル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル
、アタマンチル、2−ベンジルオキシフェニル、4−メ
チルチオフェニル、テトラヒドロフルー2−イル、テト
ラヒドロビラン−2−イル、ペンタクロルフェニル、p
−トルエンスルボニルエチル、メト午ジメチル、シリル
、スタニルもしくは燐含有基、式−N=CF−rRO(
式中ROはアリールまだはへテロシクリルである)で表
わされるオキシム基、または生体内で加水分解されうる
エステル基、例えば上で定義したものが含まれる。
下で除去されうるものである。RX としてのこのよう
な基にはベンジル、p−メト午ジベンジル、2.4.6
−1−リメチルベンジル、2.5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシ−ベンジル、ベンツイルメチル、p−ブロ
ムベンツイルメチル、p−二トロペンシル、4−ピリジ
ルメチル、2.2.2−トリクロルエチル、2.2.2
−トリフロムエチル、t−ブチル、アリル、アセトニル
、t−アミル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル
、アタマンチル、2−ベンジルオキシフェニル、4−メ
チルチオフェニル、テトラヒドロフルー2−イル、テト
ラヒドロビラン−2−イル、ペンタクロルフェニル、p
−トルエンスルボニルエチル、メト午ジメチル、シリル
、スタニルもしくは燐含有基、式−N=CF−rRO(
式中ROはアリールまだはへテロシクリルである)で表
わされるオキシム基、または生体内で加水分解されうる
エステル基、例えば上で定義したものが含まれる。
カルボニル基は特定のRX基に適した普通の方法で、例
えば、酸まだは塩基触媒による加水分解により、または
酵素触媒に」:る加水分解により、あるいは水添分解に
より、」二記エステルのいずれからも再生できる。
えば、酸まだは塩基触媒による加水分解により、または
酵素触媒に」:る加水分解により、あるいは水添分解に
より、」二記エステルのいずれからも再生できる。
本発明方法に好適なハロゲン化剤には次亜ハロゲン酸エ
ステル、N−ハロアミド、N−ハロイミド、N−ハロス
ルボンアミド、1−ハロベンゾトリアソール及びハロト
リアジン化合物が含まれる。
ステル、N−ハロアミド、N−ハロイミド、N−ハロス
ルボンアミド、1−ハロベンゾトリアソール及びハロト
リアジン化合物が含まれる。
特定な例に(は次亜塩素酸メチル、次亜塩素酸エチル、
次亜塩素酸インプロピル、次亜塩素酸t−フチル、次I
niヨウ素酸し一フチル、・N−クロルアセトアミド、
N−クロルスクシンイミド、N、−フロムスクシンイミ
ド、N−フロムフタルイミド、N−クロルベンゼンスル
ホンアミド、N−クロル−p−トルエンスルホンアミ1
〜、■−フロムベンゾトリアソール等が含まれる。好捷
しい試薬は次亜塩素酸L−フチルである。次亜塩素酸t
−フチルを用い/ζ場合、この試薬は可能な限り、純粋
であり、好ましくは蒸留するか勅しく調製する。
次亜塩素酸インプロピル、次亜塩素酸t−フチル、次I
niヨウ素酸し一フチル、・N−クロルアセトアミド、
N−クロルスクシンイミド、N、−フロムスクシンイミ
ド、N−フロムフタルイミド、N−クロルベンゼンスル
ホンアミド、N−クロル−p−トルエンスルホンアミ1
〜、■−フロムベンゾトリアソール等が含まれる。好捷
しい試薬は次亜塩素酸L−フチルである。次亜塩素酸t
−フチルを用い/ζ場合、この試薬は可能な限り、純粋
であり、好ましくは蒸留するか勅しく調製する。
本発明方法に使用するハロゲン化剤の機能はβ−ラクタ
ム項に結合した窒素原子をハロゲン化することである。
ム項に結合した窒素原子をハロゲン化することである。
次いで、ハロゲン化された中間体は脱ハロゲン化水素化
され構造(IA)を有するアシルイミン中間体を住成す
る。ハロゲン化反応は塩基により促進される。従って、
強塩基の存在下でハロゲン化剤を用いるのが好ましい。
され構造(IA)を有するアシルイミン中間体を住成す
る。ハロゲン化反応は塩基により促進される。従って、
強塩基の存在下でハロゲン化剤を用いるのが好ましい。
好適な強塩基には水素化ナトリウム、リチウムジイソプ
ロピルアミド、フェニルリチウム及びメチルリチウムが
含まれる。あるいは、強塩基として、本法のための望ま
しい親核剤も与えるような化合物、例えばアルカリ金属
アルコキシドを用いるのが軽便である。
ロピルアミド、フェニルリチウム及びメチルリチウムが
含まれる。あるいは、強塩基として、本法のための望ま
しい親核剤も与えるような化合物、例えばアルカリ金属
アルコキシドを用いるのが軽便である。
アシルイミン中間体(IA)を生成する本法のハロゲン
化工程はそれに対する親核性付加に先立って起きるが、
試薬の添加順序はハロゲン化剤次いで親核性試薬でよい
。しかしながら、ハロゲン化剤の望ましくない副作用を
なくすか、または減少させるために親核性試薬を最初に
添加でき、それによりハロゲン化剤を添加したとき、ア
シルイミン中間体(IA]が生成され、存在する親核性
試薬と現場で反応する。反応を行なうこの様式は親核性
試薬が強塩基である場合に特に有利であり、ハロゲン化
剤の作用を促進する塩基として使用できるQ 本発明方法において使用される溶媒は出発物質が可溶性
で無水溶媒でなければならない。本法に好適な溶媒には
メタノール、エタノール、二塩化メチレン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメタアセトアミド、ジメトキシエタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸メチル、酢酸エ
チル及び酢酸イソプロピルまだはいかなるこのような溶
媒の混合物も含甘れる。
化工程はそれに対する親核性付加に先立って起きるが、
試薬の添加順序はハロゲン化剤次いで親核性試薬でよい
。しかしながら、ハロゲン化剤の望ましくない副作用を
なくすか、または減少させるために親核性試薬を最初に
添加でき、それによりハロゲン化剤を添加したとき、ア
シルイミン中間体(IA]が生成され、存在する親核性
試薬と現場で反応する。反応を行なうこの様式は親核性
試薬が強塩基である場合に特に有利であり、ハロゲン化
剤の作用を促進する塩基として使用できるQ 本発明方法において使用される溶媒は出発物質が可溶性
で無水溶媒でなければならない。本法に好適な溶媒には
メタノール、エタノール、二塩化メチレン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメタアセトアミド、ジメトキシエタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸メチル、酢酸エ
チル及び酢酸イソプロピルまだはいかなるこのような溶
媒の混合物も含甘れる。
本法は低温で、好適には0℃未満で行なわれる。
特定な反応に好ましい温度はβ−ラクタム出発物質の性
質及び用いた試薬により異なる。
質及び用いた試薬により異なる。
本法は短時間、例えば60分以下、軽便には30分未満
、好適には3〜10分間行なわれる。
、好適には3〜10分間行なわれる。
次いで、反応混合物は酸性化により軽便に停止される。
反応を停止するだめに使用できる酸は濃鉱酸、例えば濃
硫酸及び低分子量アルキルカルボン酸、例えば蟻酸、酢
酸またはプロピオン酸であシ、所望ならば亜燐酸トリア
ルキルの存在下で使用できる0 本発明の生成物は溶媒抽出、特定のイオン交換クロマト
グラフィーにおけるクロマトクラフィーによる分離、沈
殿、凍結乾燥及び噴霧乾燥技術のような通常の方法によ
り単離できる。
硫酸及び低分子量アルキルカルボン酸、例えば蟻酸、酢
酸またはプロピオン酸であシ、所望ならば亜燐酸トリア
ルキルの存在下で使用できる0 本発明の生成物は溶媒抽出、特定のイオン交換クロマト
グラフィーにおけるクロマトクラフィーによる分離、沈
殿、凍結乾燥及び噴霧乾燥技術のような通常の方法によ
り単離できる。
生成物の沈殿に好適な溶媒にはメチルイソフチルケトン
、イソプロピルエーテル、二塩化メチレン及びジエチル
エーテルのような非極性溶媒が食台れる。
、イソプロピルエーテル、二塩化メチレン及びジエチル
エーテルのような非極性溶媒が食台れる。
本発明の更に好ましい観点において、式(LlC式中R
41i:フェニル、p−ヒドロキシフェニルまたは2−
もしくは3−チェニルである]で表ゎされる医薬として
活性なβ−ラクタム誘導体またはその医薬として適当な
塩の製造方法を提供し、この方法は式(Vll ■ (式中、RXはカルボキシル遮断性基である)で表わさ
れる化合物の塩をハロゲン化剤及びメトキシドイオンC
H30−の供与源と反応、させ、そしてもLRXが塩以
外であれば、基−CO2RXと遊離の酸または塩に転換
することを含む。
41i:フェニル、p−ヒドロキシフェニルまたは2−
もしくは3−チェニルである]で表ゎされる医薬として
活性なβ−ラクタム誘導体またはその医薬として適当な
塩の製造方法を提供し、この方法は式(Vll ■ (式中、RXはカルボキシル遮断性基である)で表わさ
れる化合物の塩をハロゲン化剤及びメトキシドイオンC
H30−の供与源と反応、させ、そしてもLRXが塩以
外であれば、基−CO2RXと遊離の酸または塩に転換
することを含む。
式(V)及び(Vl)における基RXは好ましくはフェ
ニルまたはチェニル、特に3−チェニルである。
ニルまたはチェニル、特に3−チェニルである。
本発明のこの観点において、好ましいハロゲン化剤はや
け9次亜塩素酸t−フチルである。好ましくは、メトキ
シドイオンはハロゲン化剤の前にまたは同時に存在し、
そのためこれらがプロトンを除去する塩基として作用し
、それによりハロゲン化を促進することができるように
する。従って好ましくは追加当量のメトキシドを用い、
そのためこれが塩基としてかっM、核的試薬として作用
できるようにする。
け9次亜塩素酸t−フチルである。好ましくは、メトキ
シドイオンはハロゲン化剤の前にまたは同時に存在し、
そのためこれらがプロトンを除去する塩基として作用し
、それによりハロゲン化を促進することができるように
する。従って好ましくは追加当量のメトキシドを用い、
そのためこれが塩基としてかっM、核的試薬として作用
できるようにする。
好適にはメトキシドイオンの供与源はナトリウムまたは
リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド
である。あるいは、メタノールは強塩基、例えば水素化
ナトリウム捷たけリチウムジ−イソプロピルアミドの存
在下で用いてもよい。
リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド
である。あるいは、メタノールは強塩基、例えば水素化
ナトリウム捷たけリチウムジ−イソプロピルアミドの存
在下で用いてもよい。
好ましいメトキシドイオン供与源ハリヂウムメトキシド
である。もしナトリウムメトキシドを用いた場合、やは
り少量の塩化リチウムを用いるのが有利である。
である。もしナトリウムメトキシドを用いた場合、やは
り少量の塩化リチウムを用いるのが有利である。
式(Vl)で表わされる化合物は二基の形態で存在でき
る。すなわち、Rxは塩化性イオンを示す。
る。すなわち、Rxは塩化性イオンを示す。
好適な塩化性イオンにはナトリウム、カリウム、リチウ
ム、カルシウム、アルミニウム、マグネシウム及びジシ
クロヘキシルアミン、好ましくはニナトリウム墳が含ま
れる。あるいは、化合物に対応する二酸、すなわちRx
−Hを使用でき、またはその−塩を各々追加の2または
1当量のメトキシドと共に使用してもよい。なぜならば
、この量は二酸+■tを製造する塩基として先ず消費さ
れるからである。
ム、カルシウム、アルミニウム、マグネシウム及びジシ
クロヘキシルアミン、好ましくはニナトリウム墳が含ま
れる。あるいは、化合物に対応する二酸、すなわちRx
−Hを使用でき、またはその−塩を各々追加の2または
1当量のメトキシドと共に使用してもよい。なぜならば
、この量は二酸+■tを製造する塩基として先ず消費さ
れるからである。
本発明のメトキシ化、すなわち化合物(VIJから(V
)の生成の観点において、メタノールを爵媒として用い
るのが軽便である。本発明のこの観点に好適な鼎媒には
ジメチルホルムアミド及びメタノール、特に2種の混合
物が含まれ、所望ならばテトラヒドロフランまたは酢酸
メチルの存在下で用いる。好捷しい俗媒系はジメチル、
ホルムアミド/メタノール/酢酸メチルでるる。ジメチ
ルホルムアミド対メタノールの好ましい割合は3:1か
ら6:l、好ましくは5:1である。
)の生成の観点において、メタノールを爵媒として用い
るのが軽便である。本発明のこの観点に好適な鼎媒には
ジメチルホルムアミド及びメタノール、特に2種の混合
物が含まれ、所望ならばテトラヒドロフランまたは酢酸
メチルの存在下で用いる。好捷しい俗媒系はジメチル、
ホルムアミド/メタノール/酢酸メチルでるる。ジメチ
ルホルムアミド対メタノールの好ましい割合は3:1か
ら6:l、好ましくは5:1である。
式(Vllで表わされる出発物質は好ましくは反応m液
の5〜7%の濃度で存在する。
の5〜7%の濃度で存在する。
式(V)で表わされる化合物を製造するために、好適な
温度は一100℃から一50℃、有利には一80℃から
一60℃である。
温度は一100℃から一50℃、有利には一80℃から
一60℃である。
このような低温反応を行なうときは、試薬溶液は反応混
合物に添加する前に予め冷却するのが好ましい。好まし
い反応時間は5〜15分である。
合物に添加する前に予め冷却するのが好ましい。好まし
い反応時間は5〜15分である。
以下、実施例により本発明方法を例示する。
実施例1
6β−〔2−カルホキシー2−(チェノ−3−イルλア
セトアミド〕ペニシリン酸二ナトリウム(チカルシリン
]から6β−〔2−カルホキシー2−(チェノ−3−イ
ル)アセトアミド〕−6α−メトキシペニシラン酸二ナ
トリウム(テモシリン)の製造 0.03モルのチカルシリンニナトリウム塩を13〜5
℃に保持したジメチルホルムアミド及びメタノール+1
60d:25zd)の混合物に添加した。
セトアミド〕ペニシリン酸二ナトリウム(チカルシリン
]から6β−〔2−カルホキシー2−(チェノ−3−イ
ル)アセトアミド〕−6α−メトキシペニシラン酸二ナ
トリウム(テモシリン)の製造 0.03モルのチカルシリンニナトリウム塩を13〜5
℃に保持したジメチルホルムアミド及びメタノール+1
60d:25zd)の混合物に添加した。
次いで溶液を一75℃に冷却した。
0、045モルのリチウムメトキシドを20dのメタノ
ールに溶解した。次いで浴液を一75℃に冷却した。
ールに溶解した。次いで浴液を一75℃に冷却した。
リチウムメトキシド浴液をチカルシリン心液に攪拌下で
速かに添加した。リチウムメトキシド浴液を含有してい
た容器を5dのメタノールで洗浄し、反応容器に移した
。
速かに添加した。リチウムメトキシド浴液を含有してい
た容器を5dのメタノールで洗浄し、反応容器に移した
。
反応混合物を1時間攪拌し、次いで5.5 dの次亜塩
素酸し一ブナルを予め一75℃に冷却して添加した。反
応混合物を約5分間借拌した。次いで、反応物を0.8
meの濃硫酸の添加により停止した。
素酸し一ブナルを予め一75℃に冷却して添加した。反
応混合物を約5分間借拌した。次いで、反応物を0.8
meの濃硫酸の添加により停止した。
溶液の温度を周囲温度に戻した。
1tのメチルイソブチルケトンを添加した。
反応混合物を約20分間攪拌し、次いで真空下で沢過し
た。粗生成物を50ゴのメチルイソブチルケトン、次い
で50絋のジイソプロピルニーデルで洗浄した。粗生成
物を50FnIV−の蒸留水に再爵解した。有機層を分
離して捨て、水浴液を、5゜彪のメチルイソブチルケト
ンの存在下で5N塩酸で酸性化した。水性層を分離して
捨てた。有機層を25−の水及び5N炭酸ナトリウム浴
液で抽出し、pII 6.5にした。有機層を分離し、
炭酸塩抽出物を50ゴのイソプロピルエーテルで洗浄し
た。
た。粗生成物を50ゴのメチルイソブチルケトン、次い
で50絋のジイソプロピルニーデルで洗浄した。粗生成
物を50FnIV−の蒸留水に再爵解した。有機層を分
離して捨て、水浴液を、5゜彪のメチルイソブチルケト
ンの存在下で5N塩酸で酸性化した。水性層を分離して
捨てた。有機層を25−の水及び5N炭酸ナトリウム浴
液で抽出し、pII 6.5にした。有機層を分離し、
炭酸塩抽出物を50ゴのイソプロピルエーテルで洗浄し
た。
水浴液を脱気し、凍結乾燥することにょシ約92の、8
1%のテモシリンを遊離酸として含有する粉末を得た。
1%のテモシリンを遊離酸として含有する粉末を得た。
実施例2
チカルシリンニナトリウムからのテモシリンの製造
173yのチヵルシリンニナトリウム塩(遊離酸として
100%)を375ゴの酢酸メチル、1200 mlの
ジメチルホルムアミド及び400dのメタノールの混合
物に溶解した。
100%)を375ゴの酢酸メチル、1200 mlの
ジメチルホルムアミド及び400dのメタノールの混合
物に溶解した。
7.52の塩化リチウムを溶液に添加した。混合物を一
75℃に冷却した。
75℃に冷却した。
825 meの予め一75℃に冷却した酢酸メチルを添
加した。36.459のナトリウムメトキシドを300
mlのメタノールに俗解した浴液を一75℃に冷却し
、添加した。1分後、95 mlの次g+1塩素酸t−
フチルを7分間要して添加した。混合物を2.5時間攪
拌し1、その間−75℃の一定温度に保持した。
加した。36.459のナトリウムメトキシドを300
mlのメタノールに俗解した浴液を一75℃に冷却し
、添加した。1分後、95 mlの次g+1塩素酸t−
フチルを7分間要して添加した。混合物を2.5時間攪
拌し1、その間−75℃の一定温度に保持した。
反応を15dの氷酢酸、次いで60 ml!の亜燐酸ト
リエチルを添加することにより停止した。生成物を実施
例1に記載したように単離することにより(遊離酸とし
て)82%の純度の9552のテモシリンを得だ。
リエチルを添加することにより停止した。生成物を実施
例1に記載したように単離することにより(遊離酸とし
て)82%の純度の9552のテモシリンを得だ。
実施例3
6β−〔2−カルボキシ−2−(チェノ−3−イル]ア
セトアミド〕ペニシラン酸−ナトリウムから6β「2−
カルホキシー2−(チェノ−3−イル)アセトアミド]
−6a−メトキシペニシラン酸二ナトリウム(テモシリ
ン)の製造003モルのチカルシリンーナトリウム塩を
3〜5℃に保持したジメチルホルムアミド及びメタノー
ル(50me : 25 me )の混合物に俗解した
。
セトアミド〕ペニシラン酸−ナトリウムから6β「2−
カルホキシー2−(チェノ−3−イル)アセトアミド]
−6a−メトキシペニシラン酸二ナトリウム(テモシリ
ン)の製造003モルのチカルシリンーナトリウム塩を
3〜5℃に保持したジメチルホルムアミド及びメタノー
ル(50me : 25 me )の混合物に俗解した
。
052の塩化リチウムを浴液に添加した。次いで浴液を
一75℃に冷却した。−70℃の酢酸メチル100 m
lを浴液に添加した。0.075モルのナトリウムメト
キシドを25 mlのメタノールに俗解した。75m7
!のジメチルホルムアミドをナトリウムメトキシド浴液
に添加し、この浴液を一75℃に冷却し、攪拌下で速か
にチカルシリン酊液に添加した。
一75℃に冷却した。−70℃の酢酸メチル100 m
lを浴液に添加した。0.075モルのナトリウムメト
キシドを25 mlのメタノールに俗解した。75m7
!のジメチルホルムアミドをナトリウムメトキシド浴液
に添加し、この浴液を一75℃に冷却し、攪拌下で速か
にチカルシリン酊液に添加した。
反応混合物を1分間攪拌し、75蛇のジメチルホルムア
ミドに5.5 rrdlの(−75℃に予め冷却した)
次亜塩素酸t−ブチルを添加したものを良好な攪拌下で
5分間添加した。反応混合物を約15分間攪拌し、次い
で1蔵の氷酢酸の添加により反応停止した。溶液温度を
周囲温度に戻しだ。生成物を実施例1に記載したように
単離した。
ミドに5.5 rrdlの(−75℃に予め冷却した)
次亜塩素酸t−ブチルを添加したものを良好な攪拌下で
5分間添加した。反応混合物を約15分間攪拌し、次い
で1蔵の氷酢酸の添加により反応停止した。溶液温度を
周囲温度に戻しだ。生成物を実施例1に記載したように
単離した。
実施例4
チカルシリンーナトリウムからのテモシリンの製造方法
11.5Pのチカルシリンーナトリウム(純粋な遊離酸
として100%]を38m1のジメチルホルムアミド及
び30 mlのメタノールの混合物に尚解した。この浴
液に0.52の塩化リチウムを添加し、浴液を一75℃
に冷却し、次いで115m1の酢酸エチルを一75℃に
予め冷却して添加した。次いで、4.75Fのナトリウ
ムメトキシドの25ばのメタノール中浴液を調製し、俗
解した時点で85dのDMFを一75℃に予め冷却し添
加した。次いで、この溶液をチカルシリン酊液に添加し
た。
として100%]を38m1のジメチルホルムアミド及
び30 mlのメタノールの混合物に尚解した。この浴
液に0.52の塩化リチウムを添加し、浴液を一75℃
に冷却し、次いで115m1の酢酸エチルを一75℃に
予め冷却して添加した。次いで、4.75Fのナトリウ
ムメトキシドの25ばのメタノール中浴液を調製し、俗
解した時点で85dのDMFを一75℃に予め冷却し添
加した。次いで、この溶液をチカルシリン酊液に添加し
た。
その後直ちに、4.95 dの次亜塩素酸L−ブチルを
75 mlのジメチルホルムアミドで希釈し、−75℃
に予め冷却した溶液を添加した。15分後、1.6 r
nlの氷酢酸を添加し、1分径2rn1.の亜燐酸トリ
エチルを添加した。
75 mlのジメチルホルムアミドで希釈し、−75℃
に予め冷却した溶液を添加した。15分後、1.6 r
nlの氷酢酸を添加し、1分径2rn1.の亜燐酸トリ
エチルを添加した。
生成物を実施例1に記載したように単離することにより
、8?の生成物(純粋な遊離酸として純度82%)を得
た。
、8?の生成物(純粋な遊離酸として純度82%)を得
た。
実施例5
6β−〔2−カルホキシー2−フェニルアセトアミド〕
ペニシラン酸ニナトリウム(カルベニシリンフから6β
[2−カルホ′キシー2−フェニルアセトアミド〕6α
−メトキシペニシラン酸二ナトリウムの製造 0.06モルのカルペニシリンニナトリウム塩を13〜
5℃に保持したジメチルボルムアミド及びメタノール(
100me : 50 me Jの混合物に俗解した。
ペニシラン酸ニナトリウム(カルベニシリンフから6β
[2−カルホ′キシー2−フェニルアセトアミド〕6α
−メトキシペニシラン酸二ナトリウムの製造 0.06モルのカルペニシリンニナトリウム塩を13〜
5℃に保持したジメチルボルムアミド及びメタノール(
100me : 50 me Jの混合物に俗解した。
次いで、浴液を一75℃に冷却し、次いで追加量のジメ
チルホルムアミド(220m)を添加した。0.09モ
ルのリチウムメトキシドをカルベニシリン浴液に攪拌下
で速かに添加した。リチウムメトキシドを含有していた
容器を5dのメタン−ルで洗浄し、反応容器に移した。
チルホルムアミド(220m)を添加した。0.09モ
ルのリチウムメトキシドをカルベニシリン浴液に攪拌下
で速かに添加した。リチウムメトキシドを含有していた
容器を5dのメタン−ルで洗浄し、反応容器に移した。
反応混合物を1分間攪拌し、次いでl l meの(−
75℃]予め冷却した次亜塩素酸t−フチル(0,09
2モル)を添加[−だ。反応混合物を約15分間攪拌し
、次いで1.6 meの濃硫酸の添加により反応停止し
た。浴液の温度を周囲温度まで戻した。生成物を丈何例
1に記載したように即離17た。
75℃]予め冷却した次亜塩素酸t−フチル(0,09
2モル)を添加[−だ。反応混合物を約15分間攪拌し
、次いで1.6 meの濃硫酸の添加により反応停止し
た。浴液の温度を周囲温度まで戻した。生成物を丈何例
1に記載したように即離17た。
代理人 −3P理士 秋 沢 政 y(。
他1名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)炭素原子にアシルアミノ基を有するアシルアミノ
β−ラクタム化合物をハロゲン化剤及び親核性試薬と反
応させることを含むアシルアミノβ−ラクタム化合物の
置換方法において、アシルアミノ基がカルボニル基に隣
接する炭素原子上に酸性基を有することを特徴とする方
法。 (2) 部分構造(1) ■ (式中、Xは酸性基である)を有するβ−ラクタムをハ
ロゲン化剤及び親核性試薬と反応させることを含む特許
請求の範囲第(1,1項記載の方法。 (31部分構造(1)を有するβ−ラクタムをハロゲン
化剤及びアルコキシまたはアルキルチオ基の供与源と反
応させることを含む、部分構造(n)(式中、Aはアル
コキシまたはアルキルチオを示し、そしてXは酸性基を
示す]を有するβ−ラクタム誘導体を製造するだめの特
許請求の範囲第+21項記載の方法。 (4)AはC1−6アルコキシを示す特許請求の範囲第
(3)項記載の方法。 (5)酸性基はカルボキシである特許請求の範囲第+1
1〜(41項のいずれか一つの項に記載の方法。 (6) 式(川] (式中、RはC1−6アルキルを示し、R1は炭化水素
まだはへテロシクリル基を示し、R2は水素または医薬
として適当な塩もしくはエステル基を示し、R3は水素
または医薬として適当な塩もしくは生体内で加水分解さ
れうるエステル基を示し、そしてYは−8−C(CH3
12−1S CH2−または−Y’ CH2C(Zl
=であり、ここでYI は酸素、硫黄まだは−CH2
−であり、そしてZは水素、ハロゲン、Cl−6アルコ
キシ、−CH2Qまたは−CI=CH−Q を示し、こ
こでQは水素、ハロゲン、ヒドロキシ、メルカプト、シ
アノ、ピリジニウム、カルボキシもしくはそのエステル
、Cl−6アルコキーシ、アシルオキシ、アリール、/
\テロシクリルまたはへテロシクリルチオを示す)で表
わされる抗菌的に活性なβ−ラクタム化合物の製造方法
であって、式(IV)(式中、R1及びYは式(■しに
おけると同一の意義を有し、そしてRXは水素またはカ
ルボキシル遮断性基である)で表わきれる化合物を含゛
ハロゲン化剤及びRO−イオンの供与源と反
応させ、次いで所望ならば生成物を塩またはエステルに
転換することを含む特許請求の範囲第(1)項記載の方
法。 (7)Yは−5−C(CT(3+2−を示す特許請求の
範囲第(6)項記載の方法。 (8) ハロケン化剤は強塩基の存在下で用いる特許
請求の範囲第(1)〜(7)項のいずれか一つの項記載
の方法。 (9)式(V) (式中、R4はフェニル、p−ヒドロキシフェニルまた
は2−もしくは3−チェニルである)で表わされる抗菌
的に活性なβ−ラクタム誘導体又は医薬と[7て適当な
塩の製造方法であって式(VIJ (式中、RXけカルボキシル遮断性基である)で表わさ
れる化合物の塩をハロゲン化剤及びメトキシドイオンC
H30−の供与源と反応させ、そし、てRXが塩以外で
ある場合は、基−CO2RXを遊離酸まだは塩に転換す
ることを含む方法。 (Ifil メトキシドイオンの供与源がリチウムメ
ト千シトである特許請求の範囲第(9)項記載の方法。 (Iυ ハロゲン化剤は次亜塩素酸し一フチルである特
許請求の範囲第(1)〜(101項のいずれか一つの項
に記載の方法。 (171式(t/I)で表わされる化合物はモノ−また
はシー−アルキル金属塩の形態をしている特許請求の範
囲第(9)項記載の方法。 03)部分構造(IAI (式中、Xは酸性基である)を有する中間体化合物。 (14)構造 (式中、R4はフェニル、p−ヒドロキシフェニルまだ
は2−もしくは3−チェニルであり、そしてRXはカル
ボキシル遮断性基を示す)を有する特許請求の範囲第0
:3J項記載の中間体化合物0 (I5) 特許請求の範囲第03)または(I4)項
に記載の化合物を親核性試薬と反応させることを含む抗
菌的に活性なβ−ラクタムの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB35568 | 1982-12-14 | ||
GB8235568 | 1982-12-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59116289A true JPS59116289A (ja) | 1984-07-05 |
Family
ID=10534959
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58234906A Pending JPS59116289A (ja) | 1982-12-14 | 1983-12-13 | β−ラクタム化合物の製造方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5750684A (ja) |
EP (1) | EP0112049B1 (ja) |
JP (1) | JPS59116289A (ja) |
AU (1) | AU568105B2 (ja) |
CA (1) | CA1267138A (ja) |
DE (1) | DE3373475D1 (ja) |
ES (1) | ES8600235A1 (ja) |
GR (1) | GR79164B (ja) |
IE (1) | IE56370B1 (ja) |
NZ (1) | NZ206554A (ja) |
SG (1) | SG70090G (ja) |
ZA (1) | ZA839216B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6078501A (en) * | 1997-12-22 | 2000-06-20 | Omnirel Llc | Power semiconductor module |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8416648D0 (en) * | 1984-06-29 | 1984-08-01 | Beecham Group Plc | Chemical process |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4862791A (ja) * | 1971-11-29 | 1973-09-01 | ||
JPS4885595A (ja) * | 1972-01-31 | 1973-11-13 | ||
JPS5095294A (ja) * | 1973-12-26 | 1975-07-29 |
Family Cites Families (4)
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