JPS59112681A - セラミツク回路基板 - Google Patents
セラミツク回路基板Info
- Publication number
- JPS59112681A JPS59112681A JP22200182A JP22200182A JPS59112681A JP S59112681 A JPS59112681 A JP S59112681A JP 22200182 A JP22200182 A JP 22200182A JP 22200182 A JP22200182 A JP 22200182A JP S59112681 A JPS59112681 A JP S59112681A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit board
- ceramic circuit
- plating
- palladium
- tungsten
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、湿式セラミック基板に係り、特にタングステ
ン導体と、金属厚膜導体の接続安定性を改良するのに好
適なセラミック回路基板の構成に関するものである。
ン導体と、金属厚膜導体の接続安定性を改良するのに好
適なセラミック回路基板の構成に関するものである。
従来のセラミック回路基板では、タングステン導体と、
Af/Pdのような、ガラス質含有金属ペースト導体と
の接続方法は、ニッケルめっき後に金めつきを施してい
だが、コスト的に高価なばかりではなく、金が銀、パラ
ジウムペースト焼成時に、早い時期にペースト中に拡散
してしまい 接続抵抗が高くなることがあり、シンタリ
ングをめっき後に行なわなくては十分な信頼性が得られ
ないという欠点があった。
Af/Pdのような、ガラス質含有金属ペースト導体と
の接続方法は、ニッケルめっき後に金めつきを施してい
だが、コスト的に高価なばかりではなく、金が銀、パラ
ジウムペースト焼成時に、早い時期にペースト中に拡散
してしまい 接続抵抗が高くなることがあり、シンタリ
ングをめっき後に行なわなくては十分な信頼性が得られ
ないという欠点があった。
本発明の目的は、セラミック上のタングステン導体と、
ガラス質を含む金属ペーストを信頼度が高く接続できる
ニッケルとパラジウムめっきをタングステン導体上に施
した後にガラス質を含む金属ペーストを焼成したことよ
シバターンを形成したセラミック回路基板を提供するこ
とにある。
ガラス質を含む金属ペーストを信頼度が高く接続できる
ニッケルとパラジウムめっきをタングステン導体上に施
した後にガラス質を含む金属ペーストを焼成したことよ
シバターンを形成したセラミック回路基板を提供するこ
とにある。
タングステン導体とガラス質を含む金属ペーストを信頼
度高く接続するためには、金属ペーストと接するめっき
膜の材質により大きな影響を受ける。すなわち金属ペー
ストの焼成時にめつき膜とほどよい拡散を起す状態が理
想であり、たとえばタングステン上にNLめつき後、A
Vめっきを施した場合、AWの両側の拡散温度や速度が
異々るために一方の接続材料にのみ拡散が起り他方には
拡散ができなくなる。この為に、接線抵抗が高くなり極
だんな例でld: )はく離が発生する。本発明では、
ニッケル上にパラジウノ、めっきを施すことによシ拡散
速度を均一にするため、銀、パラジウムのガラス含有ペ
ーストが最も好適な例である。銀めっきを施す例もある
が、マイグレーションや、ホイスカーを発生しやすく、
パラジウムがのぞましい。また、ガラス質含有の金属ペ
ーストで、一般的に存在する”/PえやC1Lペースト
等についても本発明の効果が得られる。また、焼成温度
は500〜9006Cでよいが、めっきしたパラジウム
の還元性が発生する900C付近の焼成温度が最適であ
り、この理由からガラス質含有の金属ペーストについて
も、900’(E付近で焼成できる性質のペーストが望
捷しい。
度高く接続するためには、金属ペーストと接するめっき
膜の材質により大きな影響を受ける。すなわち金属ペー
ストの焼成時にめつき膜とほどよい拡散を起す状態が理
想であり、たとえばタングステン上にNLめつき後、A
Vめっきを施した場合、AWの両側の拡散温度や速度が
異々るために一方の接続材料にのみ拡散が起り他方には
拡散ができなくなる。この為に、接線抵抗が高くなり極
だんな例でld: )はく離が発生する。本発明では、
ニッケル上にパラジウノ、めっきを施すことによシ拡散
速度を均一にするため、銀、パラジウムのガラス含有ペ
ーストが最も好適な例である。銀めっきを施す例もある
が、マイグレーションや、ホイスカーを発生しやすく、
パラジウムがのぞましい。また、ガラス質含有の金属ペ
ーストで、一般的に存在する”/PえやC1Lペースト
等についても本発明の効果が得られる。また、焼成温度
は500〜9006Cでよいが、めっきしたパラジウム
の還元性が発生する900C付近の焼成温度が最適であ
り、この理由からガラス質含有の金属ペーストについて
も、900’(E付近で焼成できる性質のペーストが望
捷しい。
また、本発明に供するめつき被膜は、電解めつき瞳、無
電解めっき膜のいずれによる方法でも可だが、タングス
テン上に接するニッケルめっきは、無電解ニッケルめっ
き膜を必要とする。
電解めっき膜のいずれによる方法でも可だが、タングス
テン上に接するニッケルめっきは、無電解ニッケルめっ
き膜を必要とする。
〈実施例〉
グリーンシート上にタングステン導体2を160DCに
て焼結した、セラミック基板1上に無電解ニッケル膜5
と、電解パラジウムめっき膜4を施し、その上に、ガラ
ス質を含有する銀、パラジウム膜5を印刷し、900°
Cの酸化雰囲気で焼成したところ、接続抵抗の小さい、
密着が良好なセラミック回路基板が得られた。
て焼結した、セラミック基板1上に無電解ニッケル膜5
と、電解パラジウムめっき膜4を施し、その上に、ガラ
ス質を含有する銀、パラジウム膜5を印刷し、900°
Cの酸化雰囲気で焼成したところ、接続抵抗の小さい、
密着が良好なセラミック回路基板が得られた。
本発明によれば、従来性なわれていためつき後のシンタ
リング工程を省くことができ、かつ、接続部の信頼度が
、向上し、従来比約2倍の寿命を得ることが可能となる
。また、工程省略ができるためコスト低減も可能となる
。
リング工程を省くことができ、かつ、接続部の信頼度が
、向上し、従来比約2倍の寿命を得ることが可能となる
。また、工程省略ができるためコスト低減も可能となる
。
図は、本発明によるセラミック回路基板の断面図である
。 1・・・・・セラミック基板、 2・・・・・・タングステン導体、 6・・・・・・無電解ニッケル膜、 4・・・・・電解ノくラジウムめっき膜、5 銀・ノ
くラジウム膜。
。 1・・・・・セラミック基板、 2・・・・・・タングステン導体、 6・・・・・・無電解ニッケル膜、 4・・・・・電解ノくラジウムめっき膜、5 銀・ノ
くラジウム膜。
Claims (1)
- 1 タングステン焼結導体を有するセラミック回路基板
に於いて、タングステン上にニッケルめっきを施し、し
かる後にパラジウムめっきを施して後、ガラス質を含む
金属厚膜ペーストを印刷し、500’C〜900’C’
の酸化雰囲気にてペーストを焼成したことによりタング
ステン導体と釧、パラジウム厚膜導体を接続したことを
特徴とするセラミック回路基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22200182A JPS59112681A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | セラミツク回路基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22200182A JPS59112681A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | セラミツク回路基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59112681A true JPS59112681A (ja) | 1984-06-29 |
Family
ID=16775534
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22200182A Pending JPS59112681A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | セラミツク回路基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59112681A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4898805A (en) * | 1987-01-29 | 1990-02-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for fabricating hybrid integrated circuit |
US4946709A (en) * | 1988-07-18 | 1990-08-07 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for fabricating hybrid integrated circuit |
JPH04372191A (ja) * | 1991-06-21 | 1992-12-25 | Kyocera Corp | 回路基板 |
-
1982
- 1982-12-20 JP JP22200182A patent/JPS59112681A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4898805A (en) * | 1987-01-29 | 1990-02-06 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for fabricating hybrid integrated circuit |
US4946709A (en) * | 1988-07-18 | 1990-08-07 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for fabricating hybrid integrated circuit |
JPH04372191A (ja) * | 1991-06-21 | 1992-12-25 | Kyocera Corp | 回路基板 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0525199B2 (ja) | ||
KR900001838B1 (ko) | 고열전도성 세라믹스기판 | |
JPS6227393A (ja) | セラミツク基材に銅膜を形成する方法 | |
JPS59112681A (ja) | セラミツク回路基板 | |
JPS6342879B2 (ja) | ||
JPS6236393B2 (ja) | ||
JP2000340596A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2000315421A (ja) | 銅導電性ペースト | |
JPS58130590A (ja) | セラミツク配線基板および該セラミツク配線基板を用いた厚膜ハイブリツドic | |
JP2760542B2 (ja) | セラミック回路基板の製造方法 | |
JP3335751B2 (ja) | アルミナ基板へのメタライジング方法 | |
JPS6322046B2 (ja) | ||
JPS62237605A (ja) | 厚膜ペ−スト | |
JPS60217696A (ja) | セラミツク基板 | |
JP3284868B2 (ja) | セラミック基板の銅メタライズ法 | |
JPS63124507A (ja) | チツプ型電子部品 | |
JP2000299540A (ja) | メタライズ基板 | |
JP2787743B2 (ja) | 貫通型磁器コンデンサ | |
JP4646373B2 (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
JPH08119759A (ja) | セラミックスとシリコンの接合方法 | |
JPS6272575A (ja) | セラミツクス−金属接合体の製造方法 | |
JPH02101131A (ja) | セラミックス表面の金属化組成物及び金属化方法 | |
JPS63207193A (ja) | ハイブリツドic | |
JPS62291153A (ja) | セラミツク配線基板 | |
JPH08102578A (ja) | セラミックプリント配線板及びその製造方法 |