JPS59111952A - 光学ガラスフアイバ用被覆材料 - Google Patents
光学ガラスフアイバ用被覆材料Info
- Publication number
- JPS59111952A JPS59111952A JP57219859A JP21985982A JPS59111952A JP S59111952 A JPS59111952 A JP S59111952A JP 57219859 A JP57219859 A JP 57219859A JP 21985982 A JP21985982 A JP 21985982A JP S59111952 A JPS59111952 A JP S59111952A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- coating material
- unsaturated polyester
- component
- parts
- Prior art date
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- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は光伝送用の光学ガラスファイバを被覆するた
めの材料に関する。
めの材料に関する。
光伝送に用いられる光学ガラスファイバ（以下、光ファ
イバという）は、脆く、傷がつきやすい上に町とう性に
乏しいので、このような傷が原因となってわずかな外力
によっても容易１こ破壊する。
イバという）は、脆く、傷がつきやすい上に町とう性に
乏しいので、このような傷が原因となってわずかな外力
によっても容易１こ破壊する。
したがって、従来より、光ファイバはガラス母材から紡
糸した直後にその表面に樹脂被覆が施されている。この
ような樹脂被覆材料としては、エポキシ樹脂、ウレタン
樹脂、シリコーン樹脂などが用いられているが、光ファ
イバとの密着性に劣り、吸湿した場合光ファイバの強度
を劣化させる欠点がある。
糸した直後にその表面に樹脂被覆が施されている。この
ような樹脂被覆材料としては、エポキシ樹脂、ウレタン
樹脂、シリコーン樹脂などが用いられているが、光ファ
イバとの密着性に劣り、吸湿した場合光ファイバの強度
を劣化させる欠点がある。
この発明は上記の問題点を解決するため１こなされたも
のであって１分子内にシロキサン結合を有するジオール
をグリコール成分の１部ないし全部として用いた不飽和
ポリエステルを主成分として含むことを特徴とする光フ
アイバ用被覆材料に関するものである。
のであって１分子内にシロキサン結合を有するジオール
をグリコール成分の１部ないし全部として用いた不飽和
ポリエステルを主成分として含むことを特徴とする光フ
アイバ用被覆材料に関するものである。
この発明の被覆材料は、これを光ファイバの表面に塗布
したのち光照射または加熱することによって容易に硬化
させることができ、これによって光フアイバ表面に良好
に密着すると共に、高湿度の雰囲気にさらされたときで
も上記密着性が大きく損なわれることはない。このため
、被覆後の光ファイバは常態下はもちろんのこと高湿条
件においても大きな強度を示し、従来の被覆材料を用い
たもの蚤こ較べて光伝送特性が大１】に改善されたもの
となる。
したのち光照射または加熱することによって容易に硬化
させることができ、これによって光フアイバ表面に良好
に密着すると共に、高湿度の雰囲気にさらされたときで
も上記密着性が大きく損なわれることはない。このため
、被覆後の光ファイバは常態下はもちろんのこと高湿条
件においても大きな強度を示し、従来の被覆材料を用い
たもの蚤こ較べて光伝送特性が大１】に改善されたもの
となる。
この発明における不飽和ポリエステルは、一般につぎの
一般式； （Ｒ１はアルキレン基、Ｒ２はアルキル基である）で表
わされる分子内にシロキサン結合を有するジオール、た
とえばビス（２−ヒドロキシエチル）テトラメチルジシ
ロキサンなどをグリコール成分の少なくとも１部とし、
これと不飽和二塩基酸および飽和多塩基酸からなる多塩
基酸成分とを常法１こより縮合反応させることにより得
ることができる。その平均分子量としては、３，０００
〜１０，０００程度である。
一般式； （Ｒ１はアルキレン基、Ｒ２はアルキル基である）で表
わされる分子内にシロキサン結合を有するジオール、た
とえばビス（２−ヒドロキシエチル）テトラメチルジシ
ロキサンなどをグリコール成分の少なくとも１部とし、
これと不飽和二塩基酸および飽和多塩基酸からなる多塩
基酸成分とを常法１こより縮合反応させることにより得
ることができる。その平均分子量としては、３，０００
〜１０，０００程度である。
グリコール成分中分子内にシロキサン結合を有するジオ
ールの割合は、２モル％以上とされているのが望ましく
これよりかすいと光ファイバ１こ対する密着性改善効果
が充分に得られない。経済的な而を無視すれば１００モ
ル％、つまりグリコール成分の全部として用いることが
できる。
ールの割合は、２モル％以上とされているのが望ましく
これよりかすいと光ファイバ１こ対する密着性改善効果
が充分に得られない。経済的な而を無視すれば１００モ
ル％、つまりグリコール成分の全部として用いることが
できる。
他のグリコール成分の例としては、エチレングリコール
、フロピレンゲリコール、ポリエチレンクリコール、ポ
リプロピレングリコール、１・４−ブタンジオール、１
・６−ヘキサンジオールなどが挙げられる。また、場合
によりこれらグリコールと共１こグリセリンなどの三価
以上のアルコールを少量用いてもよい。
、フロピレンゲリコール、ポリエチレンクリコール、ポ
リプロピレングリコール、１・４−ブタンジオール、１
・６−ヘキサンジオールなどが挙げられる。また、場合
によりこれらグリコールと共１こグリセリンなどの三価
以上のアルコールを少量用いてもよい。
多塩基酸成分のなかで不飽和二塩基酸としてはマレイン
酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸およびこれら
の無水物を挙げることができる。
酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸およびこれら
の無水物を挙げることができる。
また飽和多塩基酸としてはアジピン酸、セバシン酸、ド
デカンジカルボン酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメ
リット酸、ピロメリット酸およびこれらの無水物などが
挙げられる。
デカンジカルボン酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメ
リット酸、ピロメリット酸およびこれらの無水物などが
挙げられる。
このような反応成分からなるこの発明に係る不飽和ポリ
エステル１こは１通常スチレンやその他モノないしポリ
（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレ
ート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ
）アクリレートなどを架橋成分として７０重量％以下の
割合で含ませることができる。これらの例をあえて挙げ
るまでもないが、モノないしポリアクリレートの具体例
だけを記述すると、たとえばシクロへキシルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、カルピトールアクリレート
、２−エチルへキシルアクリレート、エチレンクリコー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペン
チルグリコールジアクリレート、１・６−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリ
レート。
エステル１こは１通常スチレンやその他モノないしポリ
（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレ
ート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ
）アクリレートなどを架橋成分として７０重量％以下の
割合で含ませることができる。これらの例をあえて挙げ
るまでもないが、モノないしポリアクリレートの具体例
だけを記述すると、たとえばシクロへキシルアクリレー
ト、ベンジルアクリレート、カルピトールアクリレート
、２−エチルへキシルアクリレート、エチレンクリコー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペン
チルグリコールジアクリレート、１・６−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリ
レート。
ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレートなどがある。
ールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレートなどがある。
この発明の光ファイバ用被援材料には、以上の成分のほ
か、必要に応じてアクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ
エーテル、ポリウレタン、ポリアミドイミド、シリコー
ン樹脂、フェノール樹脂などの各種の変性用樹脂や、硬
化促進剤、有機ケイ素化合物、界面活性剤などの各種添
加剤を配合してもよい。
か、必要に応じてアクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ
エーテル、ポリウレタン、ポリアミドイミド、シリコー
ン樹脂、フェノール樹脂などの各種の変性用樹脂や、硬
化促進剤、有機ケイ素化合物、界面活性剤などの各種添
加剤を配合してもよい。
光照射する場合には光重合開始剤が用いられる。
これらの例としては、ベンゾインアルキルエーテル、ベ
ンゾフェノン、アセトフェノン、チオキサントンなどが
挙げられる。使用量は不飽和ポリエステルおよび架橋成
分１００改量部に対して０．１〜１０屯量部、好ましく
は１〜５重量部である。
ンゾフェノン、アセトフェノン、チオキサントンなどが
挙げられる。使用量は不飽和ポリエステルおよび架橋成
分１００改量部に対して０．１〜１０屯量部、好ましく
は１〜５重量部である。
加熱硬化させる場合は、ベンゾイルパーオキサイド、ジ
−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド
などの有機過酸化物が不飽和ポリエステルおよび架橋成
分ｉｏｏ市量部に対し０．１〜１０屯量部、好ましくは
１〜３市量部用いられる。
−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド
などの有機過酸化物が不飽和ポリエステルおよび架橋成
分ｉｏｏ市量部に対し０．１〜１０屯量部、好ましくは
１〜３市量部用いられる。
この発明の光フアイバ用被覆材料を用いて実際１こ光フ
ァイバを被覆する１こは、従来公知の方法１こ準じて行
なえばよく、一般には紡糸工程１こ引き続く工程で光フ
ァイバの表面にこの発明の被覆材料を塗布したのち、加
熱するか、紫外線などの光を照射して重合硬化させれば
よい。
ァイバを被覆する１こは、従来公知の方法１こ準じて行
なえばよく、一般には紡糸工程１こ引き続く工程で光フ
ァイバの表面にこの発明の被覆材料を塗布したのち、加
熱するか、紫外線などの光を照射して重合硬化させれば
よい。
以上述段たとおり、この発明の光フアイバ用被覆材料に
よれば、その膜特性および光ファイバに対する密着性１
こすぐれて常態下はもちろんのこと高湿条件でも大きな
強度を示す光ファイバ被覆体を得ることができる。
よれば、その膜特性および光ファイバに対する密着性１
こすぐれて常態下はもちろんのこと高湿条件でも大きな
強度を示す光ファイバ被覆体を得ることができる。
以下・に、この発明の実施例を記載してより具体的１こ
説明する。なお、以下において部とあるのは重量部を意
味するものとする。
説明する。なお、以下において部とあるのは重量部を意
味するものとする。
実施例１
温度計、攪拌機および還流冷却器を付けた１００ＣＣの
四つロフラスコに、ビス（２−ヒドロキシエチル）テト
ラメチルジシロキサン２２．４ｙ（０，１モル）、無水
マレイン酸４．９ ｙ（０，０５モル）、アジピン酸７
．３ｙ（０，ｏ５モル）を仕込み、１８０〜２００°Ｃ
で２００時間反応せ、酸（ｔｌｆｉ ２５ 、平均分子
量３，０００の不飽和ポリエステルを合成した。
四つロフラスコに、ビス（２−ヒドロキシエチル）テト
ラメチルジシロキサン２２．４ｙ（０，１モル）、無水
マレイン酸４．９ ｙ（０，０５モル）、アジピン酸７
．３ｙ（０，ｏ５モル）を仕込み、１８０〜２００°Ｃ
で２００時間反応せ、酸（ｔｌｆｉ ２５ 、平均分子
量３，０００の不飽和ポリエステルを合成した。
このポリエステル７０部、ネオペンチルグリコールジア
クリレート３０部、ベンゾインイソブチルエーテル３部
を溶解混合して、粘度（２５°Ｃ）２．５００センチポ
イズの光フアイバ用被覆材料を得た。
クリレート３０部、ベンゾインイソブチルエーテル３部
を溶解混合して、粘度（２５°Ｃ）２．５００センチポ
イズの光フアイバ用被覆材料を得た。
実施例２
実施例１で用いたのと同様のフラスコに、ビス（２−ヒ
ドロキシエチル）テトラメチルジシロキサン２２．４ｙ
（０，１モル）、プロピレングリコール７．６ｇｔ（０
，１モル）、無水マレイン酸１９．６ｙ（０，２モル）
を仕込み、１８０〜２００℃で２１時間反応させ、酸価
２０．平均分子量５，０００の不飽和ポリエステルを合
成した。
ドロキシエチル）テトラメチルジシロキサン２２．４ｙ
（０，１モル）、プロピレングリコール７．６ｇｔ（０
，１モル）、無水マレイン酸１９．６ｙ（０，２モル）
を仕込み、１８０〜２００℃で２１時間反応させ、酸価
２０．平均分子量５，０００の不飽和ポリエステルを合
成した。
このポリエステル８０部、テトラハイドロフルフリルア
クリレート２０部、ベンゾインイソブチルエーテル３部
を溶解混合し、粘度（２５°Ｃ）４，３００センチポイ
ズの光ファイバ用被覆材料を得た。
クリレート２０部、ベンゾインイソブチルエーテル３部
を溶解混合し、粘度（２５°Ｃ）４，３００センチポイ
ズの光ファイバ用被覆材料を得た。
実施例３
実施例１で用いたのと同様のフラスコ１こ、ビス（２−
ヒドロキシエチル）テトラメチルジシロキサン１１．２
ｙ−（０，０５モル）、１・６−ヘキサンジオール５３
．１ｙ（０，４５モル）、無水マレイン酸４９ｙ（０，
５モル）を仕込み、１９０〜２１０°Ｃで２２時間反応
させ、酸価１９．平均分子量７．０００の不飽和ポリエ
ステルを合成した。
ヒドロキシエチル）テトラメチルジシロキサン１１．２
ｙ−（０，０５モル）、１・６−ヘキサンジオール５３
．１ｙ（０，４５モル）、無水マレイン酸４９ｙ（０，
５モル）を仕込み、１９０〜２１０°Ｃで２２時間反応
させ、酸価１９．平均分子量７．０００の不飽和ポリエ
ステルを合成した。
このポリエステル６０部、ビスフェノールＡジエチレン
グリコールジアクリレ−１−４０部、ベンゾインインブ
チルエーテル３部を溶解混合し、粘度（２５°Ｃ）９０
０センチボイズの光フアイバ用被覆材料を得た。
グリコールジアクリレ−１−４０部、ベンゾインインブ
チルエーテル３部を溶解混合し、粘度（２５°Ｃ）９０
０センチボイズの光フアイバ用被覆材料を得た。
比較例
実施例１で用いたのと同様のフラスコ１こ、１・６−ヘ
キサンジオール３５．４ ｙ（０，３モル）、無水マレ
イン酸１４．７ ｐ （０，１５，モー′ル）、アジピ
ン酸２１．９ｙ（０，１５モル）を仕込み、１９０〜２
００°Ｃで２００時間反応せ、酸価２０の不飽和ポリエ
ステルを合成した。
キサンジオール３５．４ ｙ（０，３モル）、無水マレ
イン酸１４．７ ｐ （０，１５，モー′ル）、アジピ
ン酸２１．９ｙ（０，１５モル）を仕込み、１９０〜２
００°Ｃで２００時間反応せ、酸価２０の不飽和ポリエ
ステルを合成した。
このポリエステル７０部、ネオペンチルグリコールジア
クリレート３０部、ベンゾインイソブチルエーテル３部
を溶解混合し、粘度（２５°Ｃ）１．８００センチポイ
ズの比較試料をつくった。
クリレート３０部、ベンゾインイソブチルエーテル３部
を溶解混合し、粘度（２５°Ｃ）１．８００センチポイ
ズの比較試料をつくった。
つき（こ、上記実施例１〜３および比較例の各被覆材料
の性能を調べるため（こ、以下のような試験を行なった
。
の性能を調べるため（こ、以下のような試験を行なった
。
〈密着性試験〉
石英ガラス板上に、各材料を０．１ ｍｍ厚に塗布した
のち、８０ Ｗ ／ ａｍ Ｘ ２燈の高圧水銀ランプ
を用いてコンベアスピード５０ｍ／分で硬化させ、これ
を水中に放置して硬化皮嘆が剥れるまでの時間を測定し
た。その結果、実施例１〜３共７日間放置したのちでも
剥離現象は全く認められなかった。
のち、８０ Ｗ ／ ａｍ Ｘ ２燈の高圧水銀ランプ
を用いてコンベアスピード５０ｍ／分で硬化させ、これ
を水中に放置して硬化皮嘆が剥れるまでの時間を測定し
た。その結果、実施例１〜３共７日間放置したのちでも
剥離現象は全く認められなかった。
一方、比較試料では３０分後１こ完全ｌこ剥離した。
〈被覆試験〉
５０ｍ／分い速度で紡糸した直径１２５μｍの光ファイ
バの表面に、実施例１〜３の各材料を塗布したのち、紫
外線（ランプ出力２ｋｗ２燈）を照射して硬化させた。
バの表面に、実施例１〜３の各材料を塗布したのち、紫
外線（ランプ出力２ｋｗ２燈）を照射して硬化させた。
被覆後の光ファイバの外径はいずれも３００μｍで、破
断強度はいずれも６に７てあった。
断強度はいずれも６に７てあった。
つぎ（こ、被覆後の光ファイバを６０℃の水中に１００
時間浸漬させたのちの破断強度を調べたところ、実施例
１〜３共５〜６ Ｋ９と水中浸漬前とほとんど変らなか
った。一方、比較例のものでは２譜に低下した。
時間浸漬させたのちの破断強度を調べたところ、実施例
１〜３共５〜６ Ｋ９と水中浸漬前とほとんど変らなか
った。一方、比較例のものでは２譜に低下した。
特許出願人 日東電気工業株式会社
Claims (1)
- （１） 分子内にシロキサン結合を有するジオールを
グリコール成分の少なくとも１部として用いた不飽和ポ
リエステルを主成分として含むことを特徴とする光学ガ
ラスファイバ用被覆材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57219859A JPS59111952A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 光学ガラスフアイバ用被覆材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57219859A JPS59111952A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 光学ガラスフアイバ用被覆材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59111952A true JPS59111952A (ja) | 1984-06-28 |
| JPS6359978B2 JPS6359978B2 (ja) | 1988-11-22 |
Family
ID=16742171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57219859A Granted JPS59111952A (ja) | 1982-12-14 | 1982-12-14 | 光学ガラスフアイバ用被覆材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59111952A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01159608A (ja) * | 1987-12-17 | 1989-06-22 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光フアイバ心線 |
| WO2002055574A3 (en) * | 2001-01-11 | 2003-02-13 | Dsm Ip Assets B.V. | Radiation curable coating composition |
| WO2021228380A1 (en) | 2020-05-13 | 2021-11-18 | Haute Ecole Arc | Optical waveguide and method of fabrication thereof |
-
1982
- 1982-12-14 JP JP57219859A patent/JPS59111952A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01159608A (ja) * | 1987-12-17 | 1989-06-22 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光フアイバ心線 |
| WO2002055574A3 (en) * | 2001-01-11 | 2003-02-13 | Dsm Ip Assets B.V. | Radiation curable coating composition |
| WO2021228380A1 (en) | 2020-05-13 | 2021-11-18 | Haute Ecole Arc | Optical waveguide and method of fabrication thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6359978B2 (ja) | 1988-11-22 |
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