JPS59109275A - 表面処理方法 - Google Patents

表面処理方法

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Publication number
JPS59109275A
JPS59109275A JP21844782A JP21844782A JPS59109275A JP S59109275 A JPS59109275 A JP S59109275A JP 21844782 A JP21844782 A JP 21844782A JP 21844782 A JP21844782 A JP 21844782A JP S59109275 A JPS59109275 A JP S59109275A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
light
spot
resin
coated
Prior art date
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Pending
Application number
JP21844782A
Other languages
English (en)
Inventor
Manabu Goto
学 後藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Ushio Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK, Ushio Inc filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP21844782A priority Critical patent/JPS59109275A/ja
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Pending legal-status Critical Current

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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 不発明は表面処理方法に関し,史に詳し<は基体表面に
部分的に薄11ロ1覆させる表面処理方法に関する本の
である。
めっきなどの表面処理を基体表面に部分的に施すと蔭は
、表面処理をしなh部分に予めマスキング用被膜を被覆
してか〈必要があるが、例えば腕時計のフレームのよう
に微小な部分をめっきしたり、逆に微小な部外をマスキ
ングする場合などはマスキング被膜に高変の寸法精変が
要求ざれるためにその成形に困3な問題が多かった。従
ってこの様な表面処理は手間を要して生産性が低く、か
つ表面処理部分と非処理部分との境界の精凌が十分でな
い不具合があった。
そこで本発明は、基体表面の微小部分に表面処理被膜を
被膜したり、逆圧その部外には例侍しない場合などに、
表面処理被膜の境界を極嘘よく成形できて生産性の良い
表面処理力法を提供することを目的とする。そしてこの
目的は、基体に紫外線硬化型樹脂を塗布する工程と、レ
ンズで絞られた紫外線のスボツltースキャンLながら
,8{月旨*aのF9r定部位を照射して硬化きせる工
程と、未硬化のa1胎″被膜を除云丁る工程と、基体C
ヶ胎ゲ1拠か除去された部分にめつI!、IVJなどの
薄膜をネh榎プせる工程と力島らなる表面処理方法によ
り達成される。
以下に図面にもとすいて本発明の実施例を具体的に説明
する。
先ず、基体1の表面に1液状の紫外線硬化刑樹脂がスグ
レーやディッピングなどの方法で塗布七カで適V厚ざの
未硬化の樹脂ネル膜2が形byシhる。
ここで使用をれる樹脂に紫外線が照射てれると重合反応
が進んで硬化するものであればよい。次に第1図及び第
3図に示すように樹脂被flu 2のうち、最終工程で
めっき層などの薄膜3を被覆させ′h論部位に紫外線が
照射されて硬化樹脂被膜21かIIK次形酸形成る。こ
こで図示略の紫外線ランプから放射された紫外線は光フ
ァイバーなどρ・らなる導体4に導かれ、その先端から
照射される。そしてこれがレンズ系5で直径が0.1〜
1龍程度のスポットに絞られ、スキャンしな力iら前述
のPh定部位に順次照射される。このスキャニング機構
は例えばエレクトロンビームによる祐両装貧などにおけ
る鴫だ?を応用すf″Iばよく、こわらによかげず−7
密にスヤヤンすることができる。このスキャンの結果、
薄膜3を苧覆させかい部位のみが正確に硬化して硬化田
斤r芒μdf21毅;完成する。そして水洗などにより
未峙化の樹肯神簿2を除去すねば勉2図に示す如く基体
1の11ワ375:被すてれるべ弐鶴位か4z出L1硬
化樹脂被J421のみが、g;留する。更に最終工程と
して、めったなどの費面処理を従来公印の方法で笑ムす
れば、硬化樹脂被膜21カマスキング蕾嘆の役目をして
その他の部位のみに第3図に示すようにめっき層などの
源、嚇3刀・被膜でtて完成する。
このように不発明に、1ずマスキング)+3沙傾の材料
として液状の井外需硬化智1丁胎を1更用するので基体
表面に歩めて容易に塗布することができる。
そして紫外引をレンズに工9Pってスポットト−J−る
ので、iめて小さなものから大きなもの1で任意の太き
てのスポットで照射することがT f” 、空車なマス
キング被膜本界易に形成することができる。更にこのス
ポットをスキャン啄せるので所定部位のみ正確ρ為つ迅
速に硬化きせることが可能である。そして未硬化樹脂も
水洗などにより容易に除去できるのて、マスキング被n
Qは従来の方法、例えば所定形状に成形されたマスキン
グ用HEI)を基体表面に接着させる方法などに比べて
生産性が葎めて優れており、微小なマスキング被膜翫容
易に形成できる。史に最終工程の表面処理も樹脂被膜を
マスキング被膜として使用できる本のであればいす名の
処理方法にも適用が可能であり、そしてこのマスキング
M 膜v J/4Mさせておくと防鈷被横としての役目
も釆すことができる。
以上説明したように、不発明に微小なマスキング被膜で
も容易に生産性よく形成できるので、例えば腕時酊のフ
レームのような精密部品に^価な表面処理を施す場合な
どに特に好適である。
【図面の簡単な説明】
算1図〜第3図は本発明実施例の工程説明図である。 1・・・基体  2・・・樹脂被膜 21・・・硬化樹脂被膜  3・・・薄膜4・・・導体
  5・・・レンズ系 出頭人 ウシオ電枠伏式会社 代理人 弁理士 田加貢之助

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 基体に紫外線硬化型樹脂を塗布する工程と、レンズで絞
    られた紫外線のスポットをスキャンしながら樹脂被膜の
    所定部位を照射して硬化でせる工程と、 未硬化の樹脂被膜を除去する工程と、 基体の樹脂被膜が除去された部分子Cめつ赦IM′fk
    どの薄膜を被Iヤさせる工程とからなることを特徴とす
    る表面処理方法。
JP21844782A 1982-12-15 1982-12-15 表面処理方法 Pending JPS59109275A (ja)

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