JPS59107935A - 光フアイバ用ガラスの製造方法 - Google Patents
光フアイバ用ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPS59107935A JPS59107935A JP21704782A JP21704782A JPS59107935A JP S59107935 A JPS59107935 A JP S59107935A JP 21704782 A JP21704782 A JP 21704782A JP 21704782 A JP21704782 A JP 21704782A JP S59107935 A JPS59107935 A JP S59107935A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- flame
- plasma flame
- deposited
- rotating body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
- C03B37/01426—Plasma deposition burners or torches
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガラス微粒子の堆積効率がよく、かつ気泡の残
留しない光フアイバ用ガラスの製造方法に関する。
留しない光フアイバ用ガラスの製造方法に関する。
高周波プラズマ炎を用いて石英系の光フアイバ用ガラス
を製造する方法において、微粒子状ガラスを回転体上に
堆積する場合、従来は第１図（イ）〜に）に示す各種々
方法がある。第１図（イ）は回転体３の軸方向に微粒子
を堆積する方法であシ、プラズマ炎５の方向に面して回
転体３の端面が配設されている。又、第１図（ロ）は回
転体３の径方向に微粒子を堆積する方法であシ、プラズ
マ炎５の方向に対して回転体３が横に配設されている。
を製造する方法において、微粒子状ガラスを回転体上に
堆積する場合、従来は第１図（イ）〜に）に示す各種々
方法がある。第１図（イ）は回転体３の軸方向に微粒子
を堆積する方法であシ、プラズマ炎５の方向に面して回
転体３の端面が配設されている。又、第１図（ロ）は回
転体３の径方向に微粒子を堆積する方法であシ、プラズ
マ炎５の方向に対して回転体３が横に配設されている。
この場合、プラズマトーチ１の開口付近に設けられた各
高周波コイル４によシグラズマ炎５が形成され、該プラ
ズマ炎５にノズル２からガラス原料ガスを流してガラス
微粒子を合成し、これを回転体３に堆積する、ところが
上記（イ）（ロ）のいずれの方法においてもプラズマ炎
５の中心軸上に回転体３の回転軸が対応するように配置
され、プラズマ炎５の高温部が接する付近にガラス微粒
子が堆積される。このため被堆積部が高温となシ焼結工
程を経ずに直接透明なガラス体を得ることができ気泡の
ないガラス体を製造できるが、反面、原料の堆積効率が
低いという欠点がある。一方、第１図（ハ）に）の方法
は、プラズマ炎５の側方に回転体３を配置し、プラズマ
炎５の高温部が回転体上のガラス微粒子堆積部分に接し
ないようにしたものである。
高周波コイル４によシグラズマ炎５が形成され、該プラ
ズマ炎５にノズル２からガラス原料ガスを流してガラス
微粒子を合成し、これを回転体３に堆積する、ところが
上記（イ）（ロ）のいずれの方法においてもプラズマ炎
５の中心軸上に回転体３の回転軸が対応するように配置
され、プラズマ炎５の高温部が接する付近にガラス微粒
子が堆積される。このため被堆積部が高温となシ焼結工
程を経ずに直接透明なガラス体を得ることができ気泡の
ないガラス体を製造できるが、反面、原料の堆積効率が
低いという欠点がある。一方、第１図（ハ）に）の方法
は、プラズマ炎５の側方に回転体３を配置し、プラズマ
炎５の高温部が回転体上のガラス微粒子堆積部分に接し
ないようにしたものである。
この方法においては蒸気圧の高いドープセントを導入す
るのが容易であｐ１又原料の堆積効率もよいが、微粒子
の堆積過程では直接溶融させることは困難であシ、焼結
工程が必要となる。又焼結時に気泡を完全に除去するの
が難しい。
るのが容易であｐ１又原料の堆積効率もよいが、微粒子
の堆積過程では直接溶融させることは困難であシ、焼結
工程が必要となる。又焼結時に気泡を完全に除去するの
が難しい。
本発明はガラス微粒子の堆積効率がよく、かつ気泡の残
留しない元ファイバ用ガラスの製造方法を提供するもの
であって、その構成は、プラズマ炎を熱源として、プラ
ズマ炎中で合成しまたはプラズマ炎中へ導入した微粒子
状ガラスを移動する回転体上に堆積し、溶融ガラス化す
る光フアイバ用ガラスの製造方法において、前記プラズ
マ炎に対して前記微粒子状ガラスの流れが所定角度をな
すようにし、前記プラズマ炎の高温部に触れない位置に
℃微粒子状ガラスを堆積させた後、引き続き堆積した微
粒子状ガラスをプラズマ炎の高温部に移動して溶融透明
化し、順次ガラス層を連続的に形成することを特徴とす
る。
留しない元ファイバ用ガラスの製造方法を提供するもの
であって、その構成は、プラズマ炎を熱源として、プラ
ズマ炎中で合成しまたはプラズマ炎中へ導入した微粒子
状ガラスを移動する回転体上に堆積し、溶融ガラス化す
る光フアイバ用ガラスの製造方法において、前記プラズ
マ炎に対して前記微粒子状ガラスの流れが所定角度をな
すようにし、前記プラズマ炎の高温部に触れない位置に
℃微粒子状ガラスを堆積させた後、引き続き堆積した微
粒子状ガラスをプラズマ炎の高温部に移動して溶融透明
化し、順次ガラス層を連続的に形成することを特徴とす
る。
以下に本発明を実施例と共に詳細に説明する。
第２図（イ）（ロ）に本発明に係る製造方法の概略を示
す。図において、プラズマトーチ１の外周に高周波コイ
ル４が配置され、該コイル４によシプラズマ炎５が形成
される。該プラズマ炎５の側方にはガラス微粒子を生成
するための原料ガス用ノズル２が設けられ、プラズマ炎
５の炎の方向に対しガラス微粒子の流れ６の方向が所定
角度をなすように配設される。一方プラズマ炎５の前方
にはガラス微粒子を堆積する回転体３が設けられる。
す。図において、プラズマトーチ１の外周に高周波コイ
ル４が配置され、該コイル４によシプラズマ炎５が形成
される。該プラズマ炎５の側方にはガラス微粒子を生成
するための原料ガス用ノズル２が設けられ、プラズマ炎
５の炎の方向に対しガラス微粒子の流れ６の方向が所定
角度をなすように配設される。一方プラズマ炎５の前方
にはガラス微粒子を堆積する回転体３が設けられる。
ここで第２図（イ）は回転体３の軸方向にガラス微粒子
を堆積させる場合でちゃ、プラズマ炎５に面して回転体
３の端面が配置される。更に回転体３の回転軸はプラズ
マ炎５の中心軸よりやや側方に設けられ、プラズマ炎５
に対して所定角度をなすガラス微粒子流６によＦ）プラ
ズマ炎５の高温部８に接しない位置、即ぢ高温部８の側
方にガラス微粒子が堆積される。堆積部分７は回転体３
の回転に伴いプラズマ炎５を通過して回転されるがこの
隙高温部８によって加熱され溶融焼結して透明化し、順
次連続的にガラス層が形成される。一方第２図（ロ）は
回転体３の径方向にガラス微粒子を堆積させる場合であ
シ、プラズマ炎５に対して回転体が横方向に配置される
。この方法においても同様にプラズマ炎５の炎の方向に
対して所定角度をなす力゛ラス微粒子流６によりプラズ
マ炎５の側方にガラス微粒子が堆積される。このガラス
微粒子は回転体３の回転に伴い外周を囲むように堆積さ
れると共に回転体３を軸方向に移動し、原料ノズル側に
移動することによシ堆積部７がプラズマ炎中を通過する
際その高温部８に加熱されて溶融焼結し透明なガラス層
が連続的に形成される。
を堆積させる場合でちゃ、プラズマ炎５に面して回転体
３の端面が配置される。更に回転体３の回転軸はプラズ
マ炎５の中心軸よりやや側方に設けられ、プラズマ炎５
に対して所定角度をなすガラス微粒子流６によＦ）プラ
ズマ炎５の高温部８に接しない位置、即ぢ高温部８の側
方にガラス微粒子が堆積される。堆積部分７は回転体３
の回転に伴いプラズマ炎５を通過して回転されるがこの
隙高温部８によって加熱され溶融焼結して透明化し、順
次連続的にガラス層が形成される。一方第２図（ロ）は
回転体３の径方向にガラス微粒子を堆積させる場合であ
シ、プラズマ炎５に対して回転体が横方向に配置される
。この方法においても同様にプラズマ炎５の炎の方向に
対して所定角度をなす力゛ラス微粒子流６によりプラズ
マ炎５の側方にガラス微粒子が堆積される。このガラス
微粒子は回転体３の回転に伴い外周を囲むように堆積さ
れると共に回転体３を軸方向に移動し、原料ノズル側に
移動することによシ堆積部７がプラズマ炎中を通過する
際その高温部８に加熱されて溶融焼結し透明なガラス層
が連続的に形成される。
本発明は以上のようにガラス微粒子をプラズマ炎の高温
部に接しない位置に堆積させるので堆積部分での温度を
比較的低く抑えることができ、このため蒸気圧の高いド
ーパントでも容易にドープすることができると共にガラ
ス微粒子の堆積効率もよい。更に本発明はガラス微粒子
堆積後引き続きプラズマ炎中を通過させてその高温部に
よシ加熱溶融するので堆積厚さが薄い状態で透明化し、
気泡のない透明なガラス層を確実に得ることができる。
部に接しない位置に堆積させるので堆積部分での温度を
比較的低く抑えることができ、このため蒸気圧の高いド
ーパントでも容易にドープすることができると共にガラ
ス微粒子の堆積効率もよい。更に本発明はガラス微粒子
堆積後引き続きプラズマ炎中を通過させてその高温部に
よシ加熱溶融するので堆積厚さが薄い状態で透明化し、
気泡のない透明なガラス層を確実に得ることができる。
次に杏発明の実施例を示す。
実施例１
プラズマ炎のトーチとしズ最外層内径４０ｕφの２重管
トーチを用い、次表の条件下でプラズマ炎を形成した。
トーチを用い、次表の条件下でプラズマ炎を形成した。
中心層プラズマガス ＡｒｌＡｒ１０８Ｌ出力（真
空管出力） ２０ ｋｗＲＦ周波数
３．４ ＭＦｉｚガラス微粒子を堆積させる回転体と
しては外径２０ＢφのＧｅ０ｔを含有したＳ ｉ Ｑ！
７！／ラス棒を用い、これを第２図（ロ）のようにプラ
ズマ炎に対して横方向に配置し、ガラス旋盤に装着して
５０ｒｐｍの速度で回転させた。同時に第２図（ロ）の
右方向即ち実質的にガラス微粒子を堆積させる方向には
１０ｃｒｎ／分の速度で移動させ、左方向即ち戻シの方
向には１００ｃｍ／分の速度で移動させた。一方プラズ
マ炎の側方には第２図（ロ）に示すように内径２醜φの
原料ガス用のノズルをプラズマ炎に対して所定角度を有
するように配置し、０．をキャリヤガスとしてＳｉＣｇ
、を１０００ｃｃ／分流した。
空管出力） ２０ ｋｗＲＦ周波数
３．４ ＭＦｉｚガラス微粒子を堆積させる回転体と
しては外径２０ＢφのＧｅ０ｔを含有したＳ ｉ Ｑ！
７！／ラス棒を用い、これを第２図（ロ）のようにプラ
ズマ炎に対して横方向に配置し、ガラス旋盤に装着して
５０ｒｐｍの速度で回転させた。同時に第２図（ロ）の
右方向即ち実質的にガラス微粒子を堆積させる方向には
１０ｃｒｎ／分の速度で移動させ、左方向即ち戻シの方
向には１００ｃｍ／分の速度で移動させた。一方プラズ
マ炎の側方には第２図（ロ）に示すように内径２醜φの
原料ガス用のノズルをプラズマ炎に対して所定角度を有
するように配置し、０．をキャリヤガスとしてＳｉＣｇ
、を１０００ｃｃ／分流した。
ここでノズルから流出する原料はプラズマ炎を横切る際
に微粒子状ガラスとなるが、上記回転体上にこのガラス
微粒子が堆積する部分をプラズマ炎の中心軸（プラズマ
トーチ中心軸）よシ約２ ｃｍ離れた位置とし、このた
めノズルの向きをプラズマ炎の中心軸に対し約４５°の
角度に設定した。
に微粒子状ガラスとなるが、上記回転体上にこのガラス
微粒子が堆積する部分をプラズマ炎の中心軸（プラズマ
トーチ中心軸）よシ約２ ｃｍ離れた位置とし、このた
めノズルの向きをプラズマ炎の中心軸に対し約４５°の
角度に設定した。
上記装置構成によシ回転体を図中右方向に移動する時に
微粒子状ガラスを実質的に堆積させ、堆積部がプラズマ
炎を通過する際に完全に透明化させて連続的にガラス層
を形成した。この結果気泡の全くない溶融ガラスを得る
ことができた。またＳｉＣ／ａ原料の有効堆積収率は５
０チ以上であった。
微粒子状ガラスを実質的に堆積させ、堆積部がプラズマ
炎を通過する際に完全に透明化させて連続的にガラス層
を形成した。この結果気泡の全くない溶融ガラスを得る
ことができた。またＳｉＣ／ａ原料の有効堆積収率は５
０チ以上であった。
実施例２
実施例１と同様の条件下において、回転体の移動速度を
左方向および右方向のいずれも１０Ｃｍ１分 とし、右
方向への移動時の他左方向への移動時にもガラス微粒子
を堆積させｆｃ。この結果も同様に気泡の全くない溶融
ガラスを得ることができ、かつ５ｉＣ１−の収率は約４
５チであった。
左方向および右方向のいずれも１０Ｃｍ１分 とし、右
方向への移動時の他左方向への移動時にもガラス微粒子
を堆積させｆｃ。この結果も同様に気泡の全くない溶融
ガラスを得ることができ、かつ５ｉＣ１−の収率は約４
５チであった。
第１図（イ）（ロ）（ハ）に）は従来の製造方法の概略
を示す説明図、第２図（イ）（ロ）は本発明の製造方法
の概略を示す説明図。 図中、 １はプラズマトーチ、 ２は原料ガス用ノズル、 ３は回転体、 ４はＲＦコイル、 ５はプラズマ炎、 ６はガラス微粒子流、 ７は堆積部、 ８はプラズマ高温部である。 特許出願人 住友電気工業株式会社 代理人 弁理士 光 石 士 部（他１名） 第１図 （ｌリ （ニ） 第２図 （イ） （０）
を示す説明図、第２図（イ）（ロ）は本発明の製造方法
の概略を示す説明図。 図中、 １はプラズマトーチ、 ２は原料ガス用ノズル、 ３は回転体、 ４はＲＦコイル、 ５はプラズマ炎、 ６はガラス微粒子流、 ７は堆積部、 ８はプラズマ高温部である。 特許出願人 住友電気工業株式会社 代理人 弁理士 光 石 士 部（他１名） 第１図 （ｌリ （ニ） 第２図 （イ） （０）
Claims (1)
- プラズマ炎を熱源として、プラズマ炎中で合成し、また
はプラズマ炎中へ導入した微粒子状ガラスを移動する回
転体上に堆積し、溶融ガラス化する光フアイバ用ガラス
の製造方法において、前記プラズマ炎に対して前記微粒
子状ガラスの流れが所定角度をなすようにし、かつ前記
プラズマ炎の高温部に触れない位置にて微粒子状ガラス
を堆積させた後、引き続き前記堆積した微粒子状ガラス
をプラズマ炎の高温部に移動して溶融透明化し、順次ガ
ラス層を連続的に形成することを特徴とする光フアイバ
用ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21704782A JPS59107935A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | 光フアイバ用ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21704782A JPS59107935A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | 光フアイバ用ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59107935A true JPS59107935A (ja) | 1984-06-22 |
| JPS6296B2 JPS6296B2 (ja) | 1987-01-06 |
Family
ID=16697997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21704782A Granted JPS59107935A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | 光フアイバ用ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59107935A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1069083A1 (en) * | 1999-07-05 | 2001-01-17 | Agilent Technologies, Inc., a corporation of the State of Delaware | Process and apparatus for depositing silica glass on a planar substrate using a plasma torch |
-
1982
- 1982-12-13 JP JP21704782A patent/JPS59107935A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1069083A1 (en) * | 1999-07-05 | 2001-01-17 | Agilent Technologies, Inc., a corporation of the State of Delaware | Process and apparatus for depositing silica glass on a planar substrate using a plasma torch |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6296B2 (ja) | 1987-01-06 |
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